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磁控離子濺射儀

產(chǎn)品介紹：

磁控離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術(shù)開發(fā)研制成高科技產(chǎn)品越來越重要，作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測試樣的微觀形貌發揮重要作用，從而提高試樣的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性醒悟。磁控離子濺射儀為全閉環(huán)真空設(shè)計配有全量程皮拉尼真空計等多個傳感器實時監(jiān)控運行狀態(tài)，保證儀器安全穩(wěn)定運行高質量。自動磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環(huán)境也逐步提升，高精度的濺射電源采用恒流控制來保證高精細的膜層質(zhì)量。同時平面磁控測射陰極減少等離子體對試樣表面的轟擊和熱效應(yīng)註入了新的力量，高性能的平面磁控濺射陰極可實現(xiàn)多種靶材的選擇 (Au重要的作用、Pt、Ag去創新、Pd等)足夠的實力，高精度的納米涂層為納米級別，可滿足現(xiàn)代分析實驗要求結構「m合？捎糜谥苽涓哔|(zhì)量的金屬薄膜、半導(dǎo)體薄膜溝通協調、介電要素配置改革、絕緣材料薄膜以及復(fù)合薄膜、多層異質(zhì)結(jié)等保障性。

應(yīng)用領(lǐng)域：

光學(xué)領(lǐng)域：中頻閉場非平衡磁控濺射技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)薄膜（如減反射膜）帶動產業發展、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃；

微電子領(lǐng)域：用于沉積具有吸收十分落實、透射倍增效應、反射、折射製造業、偏振等功能的薄膜多樣性，如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。

高溫超導(dǎo)薄膜新格局、鐵電薄膜真諦所在、巨磁阻薄膜等領(lǐng)域：磁控濺射技術(shù)在這些領(lǐng)域的研究中發(fā)揮著重要作用；

機械加工行業(yè)：表面功能膜競爭力、超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術(shù)可有效提高表面硬度充分、復(fù)合韌性進一步完善、耐磨性和高溫化學(xué)穩(wěn)定性，從而提高涂層產(chǎn)品的使用壽命競爭力。

產(chǎn)品優(yōu)勢：

1調整推進、全自動操作，簡單易用機製性梗阻，非常適用鎢燈絲機製、臺式掃描電鏡等

l濺射電流自動調(diào)整?設(shè)定濺射電流后，系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)真空度集成應用，從而達到設(shè)定的濺射電流探討，調(diào)整時間＜5s，波動范圍＜5%高效流通；無需按“實驗”鍵調(diào)整濺射電流調解製度、無需操作“進氣閥”。

l濺射時間自動記憶?同類樣品一次設(shè)定即可功能；

l參數(shù)改變自動調(diào)整?濺射過程中可以隨時調(diào)整濺射電流和濺射時長應用的因素之一，系統(tǒng)自動計算疊加，無需終止濺射過程預期；

l工作完成自動放氣敢於監督；

l樣品臺高度調(diào)節(jié)1秒完成；

l濺射過程可以利用曲線顯示結構，清晰直觀更合理。

2、軟硬件互鎖更優美，防誤操作各方面，安全可靠

l真空度高于100Pa，啟動真空保護成效與經驗，無法濺射適應性；

l濺射電流高于50mA，停止濺射過程稍有不慎；

l真空泵工作時重要作用，系統(tǒng)無法進行放氣操作；