磁控離子濺射儀
產(chǎn)品介紹：
磁控離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術(shù)開發(fā)研制成高科技產(chǎn)品行業內卷，作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器追求卓越，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測試樣的微觀形貌，從而提高試樣的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性參與能力。磁控離子濺射儀為全閉環(huán)真空設(shè)計(jì)配有全量程皮拉尼真空計(jì)等多個(gè)傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)控運(yùn)行狀態(tài)合理需求，保證儀器安全穩(wěn)定運(yùn)行。自動磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環(huán)境充分發揮，高精度的濺射電源采用恒流控制來保證高精細(xì)的膜層質(zhì)量發力。同時(shí)平面磁控測射陰極減少等離子體對試樣表面的轟擊和熱效應(yīng)，高性能的平面磁控濺射陰極可實(shí)現(xiàn)多種靶材的選擇 (Au迎來新的篇章、Pt持續創新、Ag、Pd等)，高精度的納米涂層為納米級別協調機製，可滿足現(xiàn)代分析實(shí)驗(yàn)要求信息化。可用于制備高質(zhì)量的金屬薄膜實踐者、半導(dǎo)體薄膜取得明顯成效、介電、絕緣材料薄膜以及復(fù)合薄膜數據、多層異質(zhì)結(jié)等創新的技術。
應(yīng)用領(lǐng)域：
光學(xué)領(lǐng)域：中頻閉場非平衡磁控濺射技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)薄膜（如減反射膜）、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃顯著；
微電子領(lǐng)域：用于沉積具有吸收快速增長、透射、反射占、折射高質量、偏振等功能的薄膜，如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率激發創作。
高溫超導(dǎo)薄膜前景、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜等領(lǐng)域：磁控濺射技術(shù)在這些領(lǐng)域的研究中發(fā)揮著重要作用增幅最大；
機(jī)械加工行業(yè)：表面功能膜共享應用、超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術(shù)可有效提高表面硬度、復(fù)合韌性標準、耐磨性和高溫化學(xué)穩(wěn)定性示範推廣，從而提高涂層產(chǎn)品的使用壽命。
產(chǎn)品優(yōu)勢：
1即將展開、全自動操作大幅增加，簡單易用，非常適用鎢燈絲培養、臺式掃描電鏡等
l濺射電流自動調(diào)整?設(shè)定濺射電流后，系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)真空度導向作用，從而達(dá)到設(shè)定的濺射電流方案，調(diào)整時(shí)間＜5s，波動范圍＜5%十大行動；無需按“實(shí)驗(yàn)"鍵調(diào)整濺射電流左右、無需操作“進(jìn)氣閥"。
l濺射時(shí)間自動記憶?同類樣品一次設(shè)定即可綜合措施；
l參數(shù)改變自動調(diào)整?濺射過程中可以隨時(shí)調(diào)整濺射電流和濺射時(shí)長可靠保障，系統(tǒng)自動計(jì)算疊加，無需終止濺射過程；
l工作完成自動放氣開展；
l樣品臺高度調(diào)節(jié)1秒完成互動互補；
l濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀意向。
2意料之外、軟硬件互鎖，防誤操作形式，安全可靠
l真空度高于100Pa置之不顧，啟動真空保護(hù)，無法濺射數字化；
l濺射電流高于50mA方便，停止濺射過程；
l真空泵工作時(shí)各領域，系統(tǒng)無法進(jìn)行放氣操作應用領域；
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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