Phasemask Technology LLC 是一家位于加利福尼亞州弗里蒙特的硅谷公司業務指導，收購(gòu)了Coherent（美國(guó)）衍射光學(xué)元件(DOE)的相位掩模和二元光柵生產(chǎn)線。相同的技術(shù)團(tuán)隊(duì)將一如既往地繼續(xù)滿足日益增長(zhǎng)的市場(chǎng)需求就此掀開，提供所有類(lèi)型的均勻相位掩模板長足發展、啁啾相位掩模板、長(zhǎng)相掩模板穩步前行、激光束分束器結構不合理、掩模圖案發(fā)生器等。
在生產(chǎn)中中使用PMT相位掩模板的優(yōu)勢(shì)：
1. 制作工藝采用全息記錄技術(shù)的方式而不是電子束刻蝕的方式逐步改善，減少了由于“接縫誤差”引起的旁瓣效應(yīng)意見征詢。
2. 可以覆蓋從193nm到1550nm的任何刻寫(xiě)光源工作波長(zhǎng)。
3. 基底材料采用熔融石英大大提高，損傷閾值比較高的必然要求。
4. 交貨時(shí)間短，交付時(shí)間2周以內(nèi)有很大提升空間，滿足任何緊急需求提供了有力支撐。
2019年6月起大尺寸(柵區(qū)長(zhǎng)度>70mm)和大啁啾率(Chirp>1nm/cm)的PMT相位掩模已成功推向市場(chǎng)。
Phasemask技術(shù)現(xiàn)在由斯坦福納米制造和美國(guó)國(guó)家科學(xué)基金會(huì)通過(guò)NNIN在Grant ECS9731293下提供支持前景。
特性 ü 采用全息技術(shù) ü 柵區(qū)長(zhǎng)度范圍為10mm, 20mm~45mm或定制更長(zhǎng) ü 矩形基板便于對(duì)齊裝載 ü 高周期精度進一步意見、低零級(jí)衍射效率
| 應(yīng)用 ü 光纖光柵刻寫(xiě) ü 光纖激光器高低反射率光纖光柵 ü 波長(zhǎng)頻率鎖定器和泵浦波長(zhǎng)穩(wěn)定器 ü EDFA增益平坦濾波器的啁啾掩模板 ü DWDM濾波器以及通道加/減模塊 |
Phase Mask參數(shù) | Phase Mask規(guī)格 |
刻寫(xiě)激光器工作波長(zhǎng) | 190 ~ 400 nm |
相位掩模板周期(Period) | 400nm ~ 1200nm(或定制更寬) |
周期制造公差 | ±0.3nm 非啁啾模板 (±0.1nm可選定制) |
周期測(cè)量精度 | ±0.02nm |
尺寸 | 基板尺寸 / 柵區(qū)孔徑尺寸 17.2 mm x 24.5 mm / 10 mm x 20 mm 17.2 mm x 38.1 mm / 10 mm x 34 mm 17.2 mm x 50.8 mm / 10 mm x 45 mm 可選定制尺寸 |
啁啾率范圍(適用于啁啾掩模) | 0.03 ~ 40nm/cm (或定制更大啁啾率) |
衍射效率 | ≤3% in 0th order; ≥33% in ±1st order (RPM均勻模板) ≤5% in 0th order; ≥30% in ±1st order (RPMC啁啾模板) 周期范圍700nm~1200nm 可選定制尺寸 |
損傷閾值 | 優(yōu)于1J/cm2每脈沖強(qiáng)度, 248nm 50Hz |
材料 | Corning 7980, Suprasil |
基底平整度 | λ at 248 nm, both sides |
刮痕 | 20 to 10 |
AR涂層鍍膜 | 可選 |
研磨角 | <30arcsec |
厚度 | 3.175 ±0.125mm |
*對(duì)于啁啾型掩模板：中心周期精度±0.5nm增幅最大，中心定位誤差為±200μm。
訂購(gòu)信息：根據(jù)光纖光柵的工作波長(zhǎng)對(duì)應(yīng)的掩模板周期生產能力、啁啾率標準、基板及柵區(qū)尺寸等參數(shù)要求定制。
技術(shù)文章：相位掩模板原理和簡(jiǎn)介(Phase Mask)
![高功率976nm泵浦激光器光源[臺(tái)式]](https://img77.86175.com/5eceadd4559dcfd23a4555ba847329f9c2a61ad911d32111a6085ef06be9b505d1fd1c5392246b9e_161_128_5.png)
