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低溫恒溫槽

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詳細介紹低溫恒溫槽模式,又稱低溫恒溫浴槽自動化,是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源,兼具小型冷水機的功能

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低溫恒溫槽高品質,又稱低溫恒溫浴槽不折不扣,是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源,兼具小型冷水機的功能資源優勢。廣泛應用于石油高效利用、化工、冶金非常重要、醫(yī)藥進一步提升、生化空間廣闊、物性,測試及化學分析等研究部門改革創新、高等院校知識和技能、工廠實驗室及計量質檢部門。根據(jù)槽開口尺寸的不同新模式,可在浴槽內(nèi)進行恒溫實驗實現,亦可通過軟管與其他設備相連接,與恒溫源配套使用組織了。內(nèi)循環(huán):通過泵對槽內(nèi)液體介質的循環(huán)吞吐服務體系,增加槽內(nèi)溫度的均勻性,減少溫度波動搶抓機遇。外循環(huán):通過泵的循環(huán)能力分析,利用出水口將保溫軟管與外部設備連接,形成封閉回路全面闡釋,流回設備進水口非常激烈,是將槽內(nèi)恒溫介質外引,建立外部恒溫場引人註目。

循環(huán)水恒溫的應用領域:

生化領域:旋轉蒸發(fā)儀領域、阿貝折光儀、旋光儀好宣講、原子吸收註入新的動力、ICP-MS 、ICP、核磁共振雙重提升、CCD、生物發(fā)酵罐事關全面、化學反應器(合成器)等求索。材料領域:電鏡、X射線衍射規模、X熒光、真空濺射電鍍基石之一、真空鍍膜機提供深度撮合服務、ICP刻蝕、各種半導體設備的發生、疲勞試驗機組成部分、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等新的動力。醫(yī)療領域:超導磁共振的過程中、直線加速器發展契機、CT、低磁場核磁共振促進進步、X光機發力、機、冷帽迎來新的篇章、降溫毯等等共創美好。物化領域:激光器、磁場薄弱點、各種分子泵覆蓋範圍、擴散泵、離子泵以及包括材料領域積極性。使用的各種需水冷設備奮勇向前。


產(chǎn)品特點:

節(jié)約能源——在夏季和高環(huán)境溫度下,冷卻水可在系統(tǒng)回路中循環(huán)使用實施體系,節(jié)約大量的水資源組建。

效率更高——一臺循環(huán)水設備可同時滿足多臺外部設備的冷卻需求,持續(xù)提供低溫恒溫水源發揮,適用于冷凝實驗顯著。

控溫精度——PID控溫技術,內(nèi)置PT100傳感器開放以來、控溫精度高占,溫度數(shù)字顯示,操作直觀

安全性高――具有自我診斷功能提供了有力支撐;冷凍機過載保護等多種安全保障功能激發創作。


低溫不凍液配比

A乙二醇水溶液:乙二醇/水 55/45 (-30℃)、70/30 (-40℃)

B丙三醇水溶液:丙三醇/水 70/30 (-30℃)使用中需經(jīng)常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求:1.乙二醇水溶液:P20=1079㎏/m3 (-30℃)(-40℃)2.丙三醇水溶液:P20=1182.6㎏/m3 (-30℃)不凍液用水代替時進一步意見,其溫度必須在0℃以上增幅最大。

 


●可選配功能指南

1.可選配加長外接式PT100溫度傳感器,可實時檢測和控制外循環(huán)時外部體系的溫度服務水平。

2.可選配內(nèi)置1~30段溫度控制程序最新,可進行自動程序控溫,實時顯示設定溫度-時間程序運行狀態(tài)處理方法。

3.可選配RS232或RS485通訊接口重要作用,輕松連接上位機,帶有ModbusRTU通訊協(xié)議習慣。

4.可選配設計充足、安裝磁力攪拌系統(tǒng),可把放入恒溫槽工作室內(nèi)燒杯中的液態(tài)樣品直接進行磁  力攪拌,無需外接立式攪拌機綠色化發展,減少冗繁操作至關重要。

5.可選配槽體內(nèi)置的冷卻盤管,對系統(tǒng)的放熱反應進行快速的降溫和控制用上了。

6.可選配高度可調(diào)浸入式載物平臺提升行動,輕松調(diào)節(jié)浸入樣品的液面高度。

7.可選配臥式造形可靠保障,具有結構緊湊自然條件、重心降低、穩(wěn)定性強等特點開展。


冷卻水選型相關:通常互動互補,制冷能力在1000W以下機型小型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發(fā)儀意向、平行定量濃縮儀意料之外、平行反應器、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等形式。制冷能力在6000W以下中型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應用于AAS置之不顧、ICP、ICP-MS數字化、電鏡等分析儀器行業(yè)方便,旋轉蒸發(fā)儀、索氏提取各領域、固液萃取儀應用領域、凱氏定氮儀等實驗室設備,激光打標機進行培訓、激光切割機等激光儀器及機床行業(yè)發展機遇。制冷能力在10KW以上大型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應用于X-衍射儀、磁質譜儀物聯與互聯、疲勞試驗機穩定、真空鍍膜機、塑料成形設備供給、激光切割機優勢與挑戰、X-熒光光譜儀、紅外光譜儀解決方案、差熱分析儀創造、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設備。

 

應用范圍:

對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載貢獻法治、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置攻堅克難、離子鍍裝置管理、蝕刻裝置、單晶片處理裝置雙向互動、切片機效率和安、包裝機、顯影劑的溫度管理品牌、露光裝置深入開展、生磁部分的加熱裝置等。


對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工等形式、熔接機的發(fā)熱部分技術的開發、激光標志裝置、發(fā)生裝置飛躍、二氧化碳激光加工機等更高效。


其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻:等離子熔接、自動包裝機重要部署、模具冷卻具體而言、洗凈機械、鍍金槽智慧與合力、精密研磨機喜愛、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等開放要求。


分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻: 電子顯微鏡的光源高質量、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分達到、X線解析裝置的熱源智能設備、自動脈沖調(diào)幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用優(yōu)質的純凈水在機內(nèi)外循環(huán)冷卻蓬勃發展,可保證對水質要求較高的精密儀器的正常運行特點,延長精密儀器的使用壽命。

 

常見問題解答:

1重要性、水循環(huán)使用了一年多都很正常又進了一步,可現(xiàn)在制冷速度好像越來越慢了,在氣溫越高時越明顯多元化服務體系?

答:水循環(huán)使用很簡單規劃,但是定期的維護保養(yǎng)工作還是不能忽視的。有很多看似故障的毛病其實就是沒有定期做維護保養(yǎng)引起的深度。水循環(huán)自身的電功率和制冷劑從負載中帶走的熱量都需要從前通風罩處的散熱器中排走帶動擴大,如果前通風罩上吸滿灰塵和柳棉等就會妨礙這些熱量的散發(fā)核心技術體系,制冷效果將大打折扣。一般來說在正常的使用條件下制冷量下降都是因為通風散熱效果太差或環(huán)境溫度太高引起的持續發展。

2必然趨勢、水循環(huán)以前使用都很正常,可現(xiàn)在發(fā)現(xiàn)噪音比以前大很多擴大,這是什么原因多樣性?


答:前面提到過水循環(huán)的日常維護工作,這個問題也與之有關新格局。大家都知道明顯,水里面有很少部分的雜質,就是蒸餾水在加到水箱后也不可能保證一點雜質都沒有顯示。對于水循環(huán)而言創新為先,一般溫度都設置在20℃,特別適應微生物的生長和繁衍重要作用。時間長了以后這些微生物就會堵塞水路的過濾器造成回水不暢持續向好,水泵就會有較大的噪音。有時這些微生物附在了換熱器的表面充足,造成換熱器的傳熱效果變差進展情況,制冷量變小。所以一定要嚴格按照說明書中的要求做好日常維護工作同期,定時清洗內(nèi)槽生產效率,長期停用,保持槽內(nèi)干燥效果。水循環(huán)里面好像有漏水使用,有時地面一會兒就有幾滴,是不是水路上有地方泄漏密度增加? 一般來說在正常使用的過程中有效性,水路是不會有泄漏的。在環(huán)境溫度比較高空氣中的相對濕度又太大時機遇與挑戰,在水循環(huán)的水路中的水泵廣泛關註、水管接頭、外接水管處容易凝結露水集成技術,累積多了以后就滴到地面上了就能壓製,不用擔心是水路中有漏水的地方。如果您對這很介意的話適應能力,打開空調(diào)降低房間溫度或是除濕都可以避免露水的產(chǎn)生更優美。 






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