濺射鍍膜機 Leica EM ACE600

碳推廣開來、電子束和濺射鍍膜——精度值得信賴

使用 EM ACE600 濺射鍍膜機，充滿信心地制備用于電鏡分析的細粒度薄膜相對較高。 精確的自動化碳鍍膜和濺射鍍膜工藝可產(chǎn)生值得信賴的可重現(xiàn)結(jié)果資源配置，提高每次運行的樣本產(chǎn)出。

通過方便的前門裝載方法相關、僅需按下一個按鈕即可啟動的收料即鍍式自動化鍍膜過程大力發展，EM ACE600 可以讓您簡單可靠地制備常規(guī)樣本并節(jié)省寶貴的時間。

適合廣泛應用領(lǐng)域的高真空鍍膜系統(tǒng)

EM ACE600 濺射鍍膜機裝有可配置式金屬處理室生產效率，十分靈活產能提升，適合廣泛的應用領(lǐng)域。 實現(xiàn)工作流程目標節點，滿足實驗室需求——可在同一個制備過程中運行兩個不同的濺射源通過活化，還可配置 EM ACE600 用于高級冷凍工作流程。

無論您需要……

●對扁平或結(jié)構(gòu)化的非導電樣本進行高分辨率成像

●增強納米級結(jié)構(gòu)（如蛋白質(zhì)或 DNA 鏈）的對比度

●生成透射電鏡 (TEM) 載網(wǎng)的薄而堅固的支撐層的特點，或者

●為敏感樣本提供保護層

●擴展冷凍應用中的系統(tǒng)

……使用 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機健康發展，皆可實現(xiàn)有效保障。

通過濺射鍍膜獲得可重現(xiàn)的高品質(zhì)薄膜

使用 EM ACE600 高真空鍍膜系統(tǒng)，每次運行均可始終一致地生成高品質(zhì)的濺射鍍膜薄膜長效機製。 使用收料即鍍的自動化濺射鍍膜工藝講實踐，滿足鍍膜所需的適當條件并實現(xiàn)可重現(xiàn)的結(jié)果。

可進行高達 200kX 的高放大倍率掃描電鏡 (SEM) 分析製高點項目，具有出色的基礎(chǔ)真空度（<2x10-6 mbar），可為各種不同的濺射靶材仔細均衡調(diào)整工藝參數(shù)範圍和領域。="">

為進一步加強鍍膜效果有所增加，可以使用 Meissner 捕集器將真空度提高到 10-7 mbar，之后再嘗試對氧敏感的濺射靶材或樣本材料更高要求。

不同材料的2納米厚的細粒度濺射鍍膜越來越重要的位置，沉積在 SiOx 基材上，200kX 放大倍率共同學習。

通過碳鍍膜獲得可重現(xiàn)的高品質(zhì)薄膜

EM ACE600 可以通過碳絲鍍膜順滑地配合、碳棒鍍膜或電子束蒸發(fā)生成高品質(zhì)碳膜。

自從徠卡顯微系統(tǒng)開發(fā)出應用于 EM ACE600 的自適應脈沖方法以來效高，

碳絲蒸發(fā)已成為一種廣泛使用的方法前沿技術。 它可生成精確、穩(wěn)定系統穩定性、非晶態(tài)的亞納米級厚度的薄膜拓展基地，同時限度減少對樣本的熱損傷影響。 無論您需要納米級厚度實力增強、堅固且潔凈的透射電鏡支撐層體系流動性、擴散（保護）鍍膜還是大面積均質(zhì)碳層，碳絲都是適合您需求的帶來全新智能。

對于專用應用領(lǐng)域實現了超越，如旋轉(zhuǎn)投影，可以使用電子束蒸發(fā)器去完善。 其小光束發(fā)散功能非常適合投影鍍膜橋梁作用，可增強納米級結(jié)構(gòu)的邊緣對比度。

精確碳沉積（1 - 5納米厚碳膜）

按需配置 EM ACE600

通過 EM ACE600 的大型可配置金屬處理室求索，可在不破壞真空的情況下用一臺鍍膜機運行多個制程拓展應用。 同時，將濺射頭與的碳絲蒸發(fā)器結(jié)合使用或者選用兩個濺射源結構，可在一次制備過程中完成多層金屬鍍膜管理。

●采用經(jīng)過優(yōu)化的帶兩個斜角端口和一個旋轉(zhuǎn)臺的雙源方法，可在整個100毫米樣本臺上生成均勻分布的薄膜

●有穩(wěn)定的碳絲能力建設、電子束和濺射鍍膜機濺射源可供選擇

●為您的 EM ACE600 裝配輝光放電濺射功能

●可隨時在現(xiàn)場升級

適用于雙源的 ACE600 可配置端口模樣。 有以下配置可供選擇： 1- 碳絲蒸發(fā) | 2- 濺射 | 3- 碳棒蒸發(fā) | 4- 電子束蒸發(fā)

專注于制備過程的關(guān)鍵部分

使用 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機生產體系，只需按下一個按鈕即可讓您充滿信心地完成常規(guī)樣本制備。 簡單可靠的工作流程和便捷的標準操作程序讓您能夠?qū)Ｗ⒂陔婄R樣本制備的關(guān)鍵部分很重要。 您可以專注于優(yōu)化工作流程能力和水平，減少自己學習操作方法或培訓他人使用方法的時間。

●通過前門安全裝卸敏感樣本

●基于工作流程的用戶界面異常狀況，可快速訪問相關(guān)參數(shù)研究，全程引導式操作

●輕量、穩(wěn)定的濺射源應用創新，方便日常操作

EM ACE600 觸摸屏提高，通過基于工作流程的用戶界面操作

擴展至冷凍工作流程

在冷凍條件下為樣本鍍膜，提升實驗室電鏡實驗能力的特性。 將樣本冷凍斷裂和冷凍鍍膜后交流，通過 EM VCT500 傳輸系統(tǒng)將冷凍樣本傳輸至掃描電鏡，EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機可幫助制備樣本用于研究提供堅實支撐，如在生物樣本原生和水合狀態(tài)下的結(jié)構(gòu)分析形勢。

EM ACE600 提供：

用于傳輸冷凍樣本的接口

用于低溫冷凍條件下鍍膜的冷凍臺

基本型斷裂裝置

裝配 EM VCT500 冷凍傳輸系統(tǒng)的 EM ACE600

選擇優(yōu)化配置

配置 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機，滿足實驗室日常工作需求取得明顯成效。

有各種樣本支架和樣本臺可供選擇約定管轄，例如帶有多達 3 個電動軸的 3 軸樣本臺或?qū)Ｓ美鋮s臺。

可快速更換的樣本臺基片使 EM ACE600 成為多功能工具創新的技術。

1：電動 3 軸樣本臺 | 2：旋轉(zhuǎn)投影（LARS）樣本臺 | 3：旋轉(zhuǎn)“手動”樣本臺 | 4：冷凍臺

超薄碳膜

碳鍍膜在電鏡領(lǐng)域的應用十分廣泛業務指導。 它需要具有導電性，但對電子束透明就此掀開，并且不能具有顆粒結(jié)構(gòu)長足發展。

采用自適應脈沖方法的 EM ACE600 碳絲所生成的薄膜，厚度精確穩步前行、堅固并具有導電性結構不合理，還可以通過烘焙法進一步減少污染。 最終逐步改善，這類薄膜提供：

●對電子的高透明度

●足以承受電子轟擊的強度

●均勻的厚度意見征詢，這對于分析研究、定量成像或電子斷層掃描至關(guān)重要

A：常規(guī)碳膜（15納米碳）大大提高；B：超薄碳膜（3納米）的必然要求。 輕松觀察硒化鎘 (CdSe) 量子

片的晶格。 圖片由比利時 Eva Bladt 和 Sara Bals（EMAT取得了一定進展，安特衛(wèi)普大學）采集完善好。

提供方： Frederic Leroux 和 Jan de Weert。 樣本提供方： Daniel Vanmaekelbergh積極參與，

烏特勒支大學納米材料科學研究所（Debye Institute for Nanomaterials Science, University of Utrecht）

旋轉(zhuǎn)投影—使納米級結(jié)構(gòu)清晰可見

以專用小角度旋轉(zhuǎn)投影（LARS）設(shè)置配置 EM ACE600問題分析，可在透射電鏡中對納米級結(jié)構(gòu)（如蛋白質(zhì)或 DNA 鏈）成像培養。 EM ACE600 電子束源與電動 LARS 樣本臺將指令、低熱損傷影響更加完善、薄膜沉積與優(yōu)化的樣本臺幾何結(jié)構(gòu)相結(jié)合形式，可實現(xiàn)掠角入射沉積。 用細粒度鉑層以小角度對 DNA 鏈進行投影鍍膜支撐作用，然后添加碳層穩(wěn)定脆性結(jié)構(gòu)日漸深入，以便在 TEM 中進行分析。

出芽酵母（S.cerevisiae同時，釀酒酵母）的 DNA 復制分叉的 TEM 圖片互動式宣講，

使用 EM ACE600 電子束鍍膜機通過小角度旋轉(zhuǎn)投影方法獲得

標準掃描電鏡工作流程

使用標準掃描電鏡工作流程研究化學固定樣本的表面結(jié)構(gòu)。 使用 EM TP 組織處理機制備樣本建言直達，然后使用 EM CPD300 對樣本進行臨界點干燥多種。 下一步是使用 EM ACE200 或 EM ACE600 對樣本鍍膜將進一步，然后在掃描電鏡中成像充分發揮。

1）自動組織處理（EM TP） |（2）自動臨界點干燥（EM CPD300） |

（3）碳鍍膜和/或濺射鍍膜（EM ACE200 / EM ACE600） |（4）在 SEM 中分析圖像