斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀 - 產(chǎn)品詳情
斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀簡介
具采用的密封充氣紫外光學(xué)系統(tǒng)和OPI水平觀測等離子光學(xué)接口完成消除水平觀測時(shí)尾焰的影響、全譜CCD技術(shù)和多視角等離子體定位等新技術(shù)更默契了，有高靈敏度先進技術、高精度以及波長范圍寬（130nm-770nm) 等特性，在ICP-OES 領(lǐng)域開拓了全新的應(yīng)用不合理波動，可分析包括ppm級(jí)鹵素在內(nèi)的73個(gè)金屬和非金屬元素宣講手段。
斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀主要特點(diǎn)
1.一維色散＋32個(gè)CCD檢測器設(shè)計(jì)，檢測器無需超低溫冷卻前沿技術，無需氬氣吹掃保護(hù)
2.全波長覆蓋基礎，為130－770nm的波長范圍，可以分析ppm級(jí)鹵素
3.密閉充氬循環(huán)光路系統(tǒng)多種方式，檢測190nm以下譜線，無需氣體吹掃
4.3秒實(shí)現(xiàn)真正全譜數(shù)據(jù)采集技術創新，分析速度
5.所有氣體流量采用質(zhì)量流量計(jì)計(jì)算機(jī)控制深入交流研討，矩管位置3維步進(jìn)馬達(dá)計(jì)算機(jī)控制自動(dòng)化程度高
斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀技術(shù)參數(shù)： 光學(xué)系統(tǒng)
焦距：0.75米
光譜范圍：130nm – 770nm
光柵：三光柵
- 3600線/毫米 (130nm – 175nm)
- 3600線/毫米 (175nm – 340nm)
- 1800線/毫米 (340nm – 770nm)
光譜級(jí)次：全波長一級(jí)光譜
32個(gè)線性CCD連續(xù) 排列在羅蘭圓上
每個(gè)CCD的像素?cái)?shù)：3648
分辨率：8.5pm （恒定不變）
光室密閉充氬，無需吹掃（驅(qū)氣）和抽真空
光室恒溫: 15℃ （ 0.1 ℃）
- 開機(jī)即可使用
- 測量130nm – 190nm波段方便快捷
信號(hào)檢測與讀出系統(tǒng)
32個(gè)線性陣列CCD
工作溫度：15 ℃ （ 0.1 ℃）廣泛應用，無須制冷關註度，
無須吹掃保護(hù)性氣流
超高速數(shù)據(jù)讀取：雙CPU哪些領域，平行數(shù)據(jù)讀出
的動(dòng)態(tài)范圍：108
最短積分時(shí)間：0.1ms
可進(jìn)行瞬時(shí)信號(hào)的測量：與LC敢於挑戰、HPLC等聯(lián)機(jī)成為真正可能
決無“溢出”現(xiàn)象
長壽命
等 離 子 體
自激式固態(tài)發(fā)生器和電源
頻率：27.12MHz
功率：750 - 1700W
功率穩(wěn)定性：<0.1%
風(fēng)冷
全自動(dòng)控制，功率連續(xù)可調(diào)
耦合效率高
等離子體觀測方式
1建立和完善、等離子體水平放置讓人糾結，軸向觀測
可有效提高儀器的靈敏度10倍，尤其對于激發(fā)電位較低的元素穩定發展，如：Zn基石之一、K聯動、Na
的OPI技術(shù)
冷錐冷卻方式：水冷，冷卻效率高
計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制冷錐與等離子體
的相對位置
氬氣反吹共同努力，在保證遠(yuǎn)紫外波段的光
效率前提下行業內卷，冷錐和光路（包括透
鏡）無污染的可能
2、等離子體垂直放置逐漸完善，徑向觀測
等離子體垂直放置優(yōu)點(diǎn)：
不會(huì)燒炬管
減少基體干擾
減少進(jìn)樣系統(tǒng)沖洗時(shí)間
實(shí)驗(yàn)成本降低
分析速度快
缺點(diǎn)：
對于激發(fā)電位較低的元素參與能力，如：Zn、K是目前主流、Na
等靈敏度不夠
針對不同用戶的使用習(xí)慣和測試需求研究，可提供
SPECTRO ARCOS SOP（垂直炬管）
SPECTRO ARCOS EOP（水平炬管）
進(jìn)樣系統(tǒng)
四通道蠕動(dòng)泵
泵速：0 ~70 RPM
連續(xù)可調(diào)
實(shí)時(shí)在線內(nèi)標(biāo)加入
在線稀釋
耐強(qiáng)酸、堿等腐蝕性液體
隨機(jī)附帶大容量應用創新、自動(dòng)報(bào)
警的廢液回收器
軟 件
多語言（包含中文）視窗化操作軟件及手冊
一鍵導(dǎo)航式操作流程提高，清晰、簡便的特性，易學(xué)交流、易用
全譜譜圖自動(dòng)存儲(chǔ)，記錄樣品“指紋”提供堅實支撐，可進(jìn)行“追憶”分析還不大，無須保留樣品和費(fèi)時(shí)、
費(fèi)力的再次測量
實(shí)時(shí)內(nèi)標(biāo)測量
定性信息化技術、半定量全譜測試發揮作用，可鑒別未知樣品，進(jìn)行“盲樣”分析
可對譜圖進(jìn)行疊加逐步顯現、差減銘記囑托，精確消除溶劑、器皿等所引入的空白與污染誤差
內(nèi)置NIST標(biāo)準(zhǔn)譜庫自動化裝置，可自動(dòng)進(jìn)行譜線干擾識(shí)別和校正
智能邏輯校正（ ICAL）系統(tǒng)示範，可持續(xù)監(jiān)控儀器的工作狀況并自動(dòng)校準(zhǔn)，
確保儀器在狀態(tài)下運(yùn)行
的智能背景校準(zhǔn)（Smart Background Correction)有很大提升空間，扣除真實(shí)背景運行好，消除誤
差，分析結(jié)果準(zhǔn)確
扣除背景的方式靈活多樣
同時(shí)前景、實(shí)時(shí)扣除背景
單點(diǎn)或雙點(diǎn)
背景曲線擬合
的智能背景扣除（Smart Background Correction)
背景扣除真實(shí)可靠進一步意見、簡單實(shí)用
可在分析完成后更改背景扣除點(diǎn)或背景扣除方式，無須重新分析樣品共享應用，減
輕操作人員的工作量
