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參考價(jià) | 面議 |
- 公司名稱 河南德泉興業(yè)商貿(mào)有限公司
- 品牌
- 型號
- 所在地 鄭州市
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時(shí)間 2025/7/9 16:05:08
- 訪問次數(shù) 9
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輕松檢驗(yàn)趨勢、篩選、觀察或記錄 充滿信心地處理您的日常檢驗(yàn)、記錄或工作一站式服務,并保持更換的靈活性
輕松檢驗(yàn)廣度和深度、篩選、觀察或記錄
充滿信心地處理您的日常檢驗(yàn)引領作用、記錄或工作加強宣傳,并保持更換的靈活性。在生命科學(xué)和工業(yè)應(yīng)用中用的舒心,徠卡 M 系列模塊化體視顯微鏡是多種多樣的任務(wù)之理想選擇技術發展。
借助 M50、M60 和 M80集成,操作者可以看到大型樣品的預(yù)覽圖重要手段,在顯微鏡下舒適工作,輕松采集重要細(xì)節(jié)的圖像穩定性。
通過廣泛的人體工學(xué)附件和照明適配器像一棵樹,根據(jù)您的需求定制顯微鏡
符合人體工學(xué)的顯微鏡工作空間,讓您舒適工作去突破,從而提高生產(chǎn)率
利用 M50 的預(yù)設(shè)變倍步級或 M60 和 M80 的鎖定光圈能運用,可為重復(fù)性任務(wù)創(chuàng)建可追蹤的測量步驟
簡單的,就是好的 |
●M 系列體視顯微鏡專為在實(shí)驗(yàn)室或制造業(yè)工作的操作者設(shè)計(jì)智能設備,為他們提供量身定制的解決方案不可缺少。 |
輕輕一瞥平臺建設,盡收眼底 |
●三款顯微鏡均可在不同的放大倍率級采集可比較、可追蹤的結(jié)果貢獻力量。這為重復(fù)性任務(wù)帶來了準(zhǔn)確性使用,例如電子檢 驗(yàn)或模式生物篩選。 ●M60 具有 6:1-變倍比范圍,可從 6.3x 至 40x 進(jìn)行連續(xù)變倍帶動產業發展,帶有卡入式鎖定光圈 – 可在特定的變倍比位置可 靠地進(jìn)行重復(fù)性檢驗(yàn)和測量責任製。該系統(tǒng)經(jīng)過優(yōu)化,擁有大視場倍增效應,一眼所見的內(nèi)容更豐富規則製定。 ●M80 具有 8:1-變倍比范圍,可從 7.5x 至 60x 進(jìn)行連續(xù)變倍優化服務策略,帶有卡入式鎖定光圈 – 提高您的洞察力和可靠 性關規定。經(jīng)過優(yōu)化,放大倍率更高明顯,可在理想的對比度下看到更細(xì)微的結(jié)構(gòu)安全鏈。 |
模塊化理念,靈活自如 |
●無論您的工作需要豐富的照明類型創新為先、不同的物鏡還是更大的支架真正做到,Leica Microsystems 總能為您提供稱心如意 的解決方案! ●將您的顯微鏡安裝在高度靈活創新延展、采用人體工學(xué)設(shè)計(jì)并可供多位用戶使用的工作站強化意識。徠卡范圍廣泛的附件助您滿 足所有需求: ●大中小型入射光底座:檢查印刷電路板、金屬工件或不透明研究樣品 (例如蠅墊上的蒼蠅) 等 ●物鏡:從各種消色差物鏡和平消色差物鏡中選擇我有所應,具體取決于您的工作距離、FOV 等要求 |
Ergo 附件,助您高效工作 |
●每個(gè)人都是不同的個(gè)體 – 因此顯微鏡工作站需要具備很強(qiáng)的適應(yīng)性效果,尤其是在多名用戶共享使用時(shí)應用的因素之一。 ●人體工學(xué)附件能幫助顯微鏡操作者舒適工作,即使使用顯微鏡一整天也不會(huì)感到疲倦預期。 |
正確的光照決定您所看到的內(nèi)容 |
根據(jù) |
LED3000 RL 和 LED5000 RL 環(huán)形燈 |
●見的入射光解決方案可保證對大視場中的樣品以恒定的色溫提供明亮重要作用、均勻的照明。 |
LED3000 SLI 和 LED5000 SLI 點(diǎn)光源或鵝頸照明 |
●在使用入射光呈現(xiàn)不同對比度很重要時(shí)尤為突出,特別受歡迎。兩個(gè)鵝頸可輕松靈活地定位 LED 點(diǎn)光源環境,調(diào)節(jié)對比度空間載體。 |
LED3000 MCI 和 LED5000 MCI 多對比度照明 |
●與點(diǎn)光源或鵝頸照明相似相對簡便,該解決方案也可根據(jù)樣品調(diào)節(jié)對比度重要組成部分。由于 LED 點(diǎn)光源的位置是固定的,因此結(jié)果 可重現(xiàn) – 從而能夠更輕松地分辨出標(biāo)本或樣品上難以發(fā)現(xiàn)的細(xì)節(jié)合作。 |
LED3000 NVI 和 LED5000 NVI 近垂直照明 |
●該 LED 照明與光軸對齊極致用戶體驗,適用于孔眼或凹陷檢驗(yàn)提供有力支撐,幾乎可以消除樣品上的陰影。 |
LED5000 CXI 同軸照明 |
●檢查平整發(fā)光表面上是否有劃痕等質(zhì)量缺陷的理想選擇拓展。 |
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