物理特性薄膜表征系統(tǒng)，高度集成且易于使用的測量平臺(tái)充分發揮。
薄膜的物理性質(zhì)不同于大塊材料選擇適用，因?yàn)橛捎诔叽巛^小和高縱橫比使寄生表面效應(yīng)更強(qiáng)！
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增強(qiáng)表面散射的影響（a）
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附加邊界散射（b）
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超薄層的量子約束（c）
LINSEIS薄膜物性分析儀是表征各種薄膜樣品優(yōu)異測量工具設計。它是一種易于使用的獨(dú)立系統(tǒng)業務指導，使用正在申請的測量系統(tǒng)設(shè)計(jì)，可提供高質(zhì)量的結(jié)果優化程度。
組件
基本設(shè)置包括一個(gè)可以輕松沉積樣品的測量芯片積極性，以及提供所需環(huán)境條件的測量室奮勇向前。 根據(jù)應(yīng)用，該設(shè)置可與鎖定放大器和/或強(qiáng)電磁鐵一起使用實施體系。 測量通常在UHV下進(jìn)行組建，并且在測量期間使用LN2和強(qiáng)力加熱器將樣品溫度控制在-170°C和280°C之間。
預(yù)制測量芯片
該芯片將用于熱導(dǎo)率測量的3 ω技術(shù)與用于測量電阻率和霍爾系數(shù)的4點(diǎn)Van-der-Pauw技術(shù)相結(jié)合效果較好。 賽貝克系數(shù)可以使用位于Van-der-Pauw電極附近的附加電阻溫度計(jì)來測量重要的意義。 為了便于樣品制備，可以使用剝離箔掩牡榷鄠€領域；蚪饘訇幱把谀Ｔ佾@。 該配置允許幾乎同時(shí)表征通過PVD（例如熱蒸發(fā)，濺射提供了有力支撐，MBE）激發創作，CVD（例如ALD），旋涂進一步意見，滴鑄或噴墨打印制備的樣品增幅最大。
該系統(tǒng)的一大優(yōu)點(diǎn)是在一次測量運(yùn)行中同時(shí)確定各種物理特性。所有測量都采用相同（平面內(nèi)）方向生產能力，并且具有很高的可比性標準。
基本測量單元 ：
測量室，真空泵堅持好，帶加熱器的支架即將展開，電子頰側(cè)裝置，集成鎖相放大器特性，3w方法分析軟件傳承，計(jì)算機(jī)和應(yīng)用軟件〗ㄑ灾边_？蓽y以下物理參數(shù)：
• λ - 熱傳導(dǎo)系數(shù) (穩(wěn)態(tài)法/平面內(nèi)方向)
• ρ - 電阻率
• σ - 電導(dǎo)率
• S - 賽貝克系數(shù)
• ε – 發(fā)射率
• Cp - 比熱容
磁測量單元
可根據(jù)需求選擇集成式電磁鐵多種，可測物理參數(shù)如下：
• AH - 霍爾常數(shù)
• μ –遷移率
• n -載流子濃度
薄膜材料性能有別于塊體材料之處
- 因小尺寸和高縱橫比所導(dǎo)致的表面效應(yīng)如：邊界散射和量子限域效應(yīng)
