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片材基片表面UV光清洗機紫外線UV光清洗機SK-15040-700P

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片材基片表面UV光清洗機紫外線UV光清洗機SK-15040-700P

品牌:SunKun(三昆)
型號:SK-15040-700P

技術(shù)參數(shù):
1、UV燈功率:240W*40支
2大大縮短、UV燈主波峰:185nm要落實好、254nm
3、UV燈尺寸:燈總長:810mm
4更默契了、觸摸屏人機界面控制
5先進技術、燈組高低手輪調(diào)節(jié)(手輪帶高度尺讀數(shù))
6、燈架板采用SUS304不銹鋼鏡面板
7不合理波動、網(wǎng)帶托板采用SUS304不銹鋼板
8宣講手段、機器外殼采用冷軋鋼板制作
9、機器采用上排風(fēng)系統(tǒng)
10積極拓展新的領域、輸送材料:不銹鋼網(wǎng)帶(大網(wǎng)格)
11配套設備、輸送寬度:700mm
12、輸送速度:0.05~0.5m/min
13相對開放、入口高度:100mm
14對外開放、電源:380VAC50HZ
15、輸送方向:操作面從左到右

UV紫外光清洗原理:

紫外線清洗是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除附著在材料表面的有機物質(zhì)深入交流研討。經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達到原子級清潔度。

其主要原理為雙波長紫外線燈發(fā)出的185nm波長和254nm波長具有很高的能量帶來全新智能,高于大多數(shù)有機物的結(jié)合能量實現了超越。由于大多數(shù)碳氫化合物對185nm波長的紫外線具有較強的吸收能力,并且可以在吸收185nm波長后分解成離子去完善,流離態(tài)原子橋梁作用,受激分子和中子等,這就是光敏作用求索∽屓思m結?諝庵械难醴肿釉谖樟?85nm波長的紫外光后,會產(chǎn)生臭氧和氧氣穩定發展,臭氧對254nm波長具有很強的吸收性基石之一,臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有的氧化性增持能力,可以將碳氫化合鍵切斷共同努力,生成水和二氧化碳等易揮發(fā)氣體,從被照射物表面飄逸出追求卓越,清除物體表面的污染物逐漸完善。

UV光清洗技術(shù)應(yīng)用范圍:
1參與能力、各種材料(ITO玻璃、光學(xué)玻璃是目前主流、鉻板充分發揮、掩膜版、拋光石英晶體充分發揮、硅)晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理選擇適用。
2、石臘的特性,松香交流,油脂,人體體油以及殘余的光刻膠/聚酰亞胺和環(huán)氧樹脂提供堅實支撐。
3還不大、高精度PCB焊接前的清洗和去除殘余的焊劑以及敷銅箔層壓板的表面清潔和氧化層生成。
4信息化技術、超高真空密封技術(shù)和熱壓焊接前的表面清潔處理以及各種微型元件的清洗發揮作用。
5、在LCD逐步顯現、OLED發揮,Touch Panel科研/生產(chǎn)中,在涂光刻膠快速增長、PI膠開放以來、定向膜、鉻膜高質量、色膜前經(jīng)過光清洗提供了有力支撐,可以極大的提高基體表面潤濕性,增強基體表面的粘合力前景。
6進一步意見、印制電路板生產(chǎn)中,對銅底板共享應用,印刷底板進行光清洗和改質(zhì)生產能力,在導(dǎo)線焊接前進行光清洗,可以提高熔焊的接觸面積示範推廣,大大增加連接強度堅持好。特別是高精度印制電路板,當(dāng)線距達到亞微米級時大幅增加,光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒問題分析,可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。
7交流研討、大規(guī)模集成電路的密度越來越高更加完善,晶格的微細化越來越密形式,要求表面的潔凈度越來越高,光清洗可以有效地實現(xiàn)表面的原子清潔度支撐作用,而且對芯片表面不會造成損傷日漸深入。
8、在半導(dǎo)體生產(chǎn)中同時,硅晶片涂保護膜互動式宣講、鋁蒸發(fā)膜前進行光清洗,可以提高粘合力模式,防止針孔自動化、裂縫的發(fā)生。
9高品質、在光盤的生產(chǎn)中不折不扣,沉積各種膜前作光清洗準(zhǔn)備,可以提高光盤的質(zhì)量文化價值。
10形式、磁頭固定面的粘合,磁頭涂敷不斷完善,以及提高金屬絲的連接強度數字化,光清洗后效果好。
11基礎上、石英晶體振蕩器生產(chǎn)中各領域,除去晶體檢測后涂層上的墨跡,晶體在銀蒸發(fā)沉積前保持競爭優勢,進行光清洗可以提高鍍膜質(zhì)量和產(chǎn)品性能新模式。
12、在IC卡表面插裝ROM前不容忽視,經(jīng)過光清洗可提高產(chǎn)品質(zhì)量。
13服務體系、彩色濾光片生產(chǎn)中說服力,光清洗后能洗凈表面的有機污染物。
14分析、敷銅箔層壓板生產(chǎn)中表示,經(jīng)過光照改質(zhì),不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護氧化層非常激烈,產(chǎn)品質(zhì)量顯著提高競爭力所在。
15、光學(xué)玻璃經(jīng)過紫外光清洗后領域,鍍膜質(zhì)量更好溝通機製。
16好宣講、樹脂透鏡光照后,能加強與防反射板的粘貼性領先水平。


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