商品簡(jiǎn)介儀器介紹： SGC-10薄膜測(cè)厚儀服務體系，適用于介質(zhì)，半導(dǎo)體搶抓機遇，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測(cè)量

• 商品簡(jiǎn)介

• 儀器介紹：
  SGC-10薄膜測(cè)厚儀分析，適用于介質(zhì)，半導(dǎo)體全面闡釋，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測(cè)量非常激烈。該薄膜測(cè)厚儀，是我公司與美國(guó)new-span公司合作研制的引人註目，采用new-span公司的薄膜測(cè)厚技術(shù)領域，基于白光干涉的原理來(lái)測(cè)定薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)（折射率n，消光系數(shù)k）好宣講。通過分析薄膜表面的反射光和薄膜與基底界面的反射光相干形成的反射譜註入新的動力，用軟件來(lái)擬合運(yùn)算，得到單層或多層膜系各層的厚度d，折射率n雙重提升，消光系數(shù)k。該設(shè)備關(guān)鍵部件均為國(guó)外進(jìn)口長遠所需，也可根據(jù)客戶需要整機(jī)進(jìn)口求索。
  強(qiáng)大的軟件功能：
  界面友好，操作簡(jiǎn)便規模，用戶點(diǎn)擊幾下鼠標(biāo)就可以完成測(cè)量。便捷快速的保存基石之一、讀取測(cè)量得到的反射譜數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)大聯動，可同時(shí)測(cè)量多達(dá)四層的薄膜的反射率數(shù)據(jù)增持能力。一次測(cè)量即可得到四層薄膜分別的厚度和光學(xué)常數(shù)等數(shù)據(jù)。材料庫(kù)中包含了大量常規(guī)的材的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)組成部分。用戶可以非常方便地自行擴(kuò)充材料數(shù)據(jù)庫(kù)影響。
  產(chǎn)品功能適用性：
  該儀器適用于多種介質(zhì)，半導(dǎo)體的過程中，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測(cè)量發展契機。
  典型的薄膜材料為：
  SiO2、CaF2促進進步、MgF2發力、光刻膠狀況、多晶硅提升、非晶硅創造更多、SiNx技術創新、TiO2功能、聚酰亞胺成就、高分子膜紮實做。
  典型的基底材料為：
  SiGe基礎上、GaAs積極性、ZnS奮勇向前、ZnSe、鋁丙烯酸實施體系、藍(lán)寶石組建、玻璃、聚碳酸酯發揮、聚合物顯著、石英。

  儀器具有開放性設(shè)計(jì)開放以來，儀器的光纖探頭可很方便地取出占，通過儀器附帶的光纖適配器（如圖所示）連接到帶C-mount的顯微鏡（顯微鏡需另配），就可以使本測(cè)量?jī)x適用于微區(qū)（>10μm提供了有力支撐，與顯微鏡放大率有關(guān)）薄膜厚度的測(cè)量激發創作。

  技術(shù)指標(biāo)：

  名稱	參數(shù)
  厚度范圍	20nm-50um（只測(cè)膜厚）， 100nm-10um（同時(shí)測(cè)量膜厚和光學(xué)常數(shù)n進一步意見，k） 根據(jù)薄膜材料的種類增幅最大，其范圍有所不同。
  準(zhǔn)確性	<1nm或<0.5%
  重復(fù)性	0.1nm
  波長(zhǎng)范圍	380nm-1000nm
  可測(cè)層數(shù)	1-4層
  樣品尺寸	樣品鍍膜區(qū)直徑>1.2mm
  測(cè)量速度	5s-60s
  光斑直徑	1.2mm-10mm可調(diào)
  樣品臺(tái)	290mm*160mm
  光源	長(zhǎng)壽命溴鎢燈（2000h）
  光纖	純石英寬光譜光纖
  探測(cè)器	進(jìn)口光纖光譜儀
  電源	AC100V-240V生產能力，50HZ-60HZ
  重量	18kg
  尺寸	300mm*300mm*350mm