為了滿足高分子領(lǐng)域的研究員對(duì)AFM快速高分辨的掃描以及定量的納米力學(xué)性能測(cè)試等方面日益增長的需求深刻認識，牛津儀器Asylum Research發(fā)布 Cypher™ ES 高分子版原子力顯微鏡核心技術。新一代Cypher™ ES 高分子版原子力顯微鏡針對(duì)高分子領(lǐng)域的研究進(jìn)行了優(yōu)化，能夠提供*分辨率的成像深入，快速掃描效高，精確的溫控以及相當(dāng)全面的納米力學(xué)表征模式。Cypher™ ES 高分子版是眾多高分子和材料科學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域的理想工具基礎，例如性能，表面形貌成像，測(cè)量力曲線對外開放，納米力學(xué)成像技術創新，熱學(xué)性能測(cè)試，觀測(cè)溶液以及熱作用下的動(dòng)力學(xué)過程資料，探測(cè)電學(xué)和功能行為特性廣泛應用。
銷售總監(jiān)John Grenn說：“Asylum Research創(chuàng)新性的納米力學(xué)掃描模式和環(huán)境控制能力使得Cypher ES高分子版能夠滿足高分子領(lǐng)域研究者的特別需求。Asylum Research是*能夠提供高分辨的成像和對(duì)材料粘彈性進(jìn)行定量成像的原子力顯微鏡生產(chǎn)商橫向協同。聚合物本質(zhì)上都有明顯的粘彈性哪些領域，因此這對(duì)聚合物的科學(xué)家來說是一項(xiàng)必需的功能。利用Cypher ES聚合物版原子力顯微鏡不斷創新，聚合物研究者如今可以在一個(gè)系統(tǒng)中利用多種強(qiáng)大的工具進(jìn)行高效地操作積極，獲得定量的數(shù)據(jù)和相關(guān)結(jié)果。
Cypher ES Polymer 聚合物版包括三種*的納米力學(xué)表征技術(shù)堅持先行。兩種AFM技術(shù)，AM-FM和接觸共振粘彈性成像技術(shù)能夠高分辨并且定量的對(duì)彈性模量和粘彈性響應(yīng)（也就是損耗模量和損耗因子等）滿意度。第三種技術(shù) 情況較常見，快速力譜成像技術(shù)，能夠進(jìn)行定量的高速彈性模量成像主要抓手。與其它的力譜技術(shù)不同體製，Asylum的快速力譜成像技術(shù)記錄成像過程中的每一條力曲線構建，測(cè)量形變型號(hào)和Z閉環(huán)傳感器的信號(hào)，其不但支持常規(guī)的縮進(jìn)模型服務延伸，例如 Hertz, Sneddon 以及DMT等力學(xué)模型共創輝煌，而且還支持更多*的力學(xué)模型，包括JKR 以及Oliver-Pharr進一步。
此外大部分， Cypher ES 聚合物版提供結(jié)合環(huán)境控制的*分辨率的快速掃描。系統(tǒng)中包含一個(gè)全密封的高溫樣品加熱臺(tái)實際需求，與系統(tǒng)無縫對(duì)接解決方案，不需要任何外加的線纜、管道以及控制器等交流。利用該加熱臺(tái)能夠在室溫至250°C范圍內(nèi)無干擾的探測(cè)聚合物的相轉(zhuǎn)變過程基礎。zui終，該系統(tǒng)還包括Asylum *的blueDrive光熱激發(fā)模塊還不大，其能夠讓輕敲模式更簡單高產，更穩(wěn)定和更準(zhǔn)確。
對(duì)AFM在聚合物中應(yīng)用感興趣的研究者可以從上找到眾多的應(yīng)用手冊(cè)發揮作用，研討會(huì)以及實(shí)際的樣品成像資料等
以下圖像為：從室溫加熱到135°C良好，冷卻之后Cypher ES 聚合物版AFM 對(duì)syndiotactic polypropylene (sPP) 和polystyrene (PS)樣品的成像。圓形獨(dú)立的區(qū)域是 PS 勇探新路，周圍連續(xù)的介質(zhì)是 sPP單產提升。掃描范圍3 μm。
