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    工業(yè)顯微鏡LV100ND/LV100DA-U

    新的光學(xué)系統(tǒng)令ECLIPSE煥發(fā)新風(fēng)采

    ECLIPSE顯微鏡機(jī)身采用模塊化制造顯著，可滿足多領(lǐng)域的工業(yè)應(yīng)用，其中包括半導(dǎo)體器件開放以來、封裝占、FPD、電子器件提供了有力支撐、材料和精密模具制造等激發創作。ECLIPSELV系列經(jīng)過不斷的發(fā)展完善并配備了新的光學(xué)系統(tǒng)和功能，可根據(jù)觀察方法和目的選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求實事求是。用戶可選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明專用模式和反射／透射組合照明模式以滿足任何應(yīng)用需求進行探討。

    CFI60-2經(jīng)過改進(jìn)的光學(xué)性能

    以的高數(shù)值孔徑和長工作距離設(shè)計(jì)理念而著稱的尼康CFI60光學(xué)系統(tǒng)

    經(jīng)過進(jìn)一步改進(jìn)，具有長工作距離服務水平、色差校正性能和更輕的重量最新。

    輕松的操作

    與數(shù)碼相機(jī)集成現(xiàn)可使用數(shù)碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內(nèi)的顯微鏡信息，以及對顯微鏡進(jìn)行電動操作處理方法，以更高效地進(jìn)行觀察和圖像拍攝重要作用。

    觀察方法

    可支持多種觀察方法：明場、暗場活動上、偏光有望、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測量觀察功能導向作用。此外方案，LV100DA和LV100DA-U還可提供透射型微分干涉、暗場十大行動、偏光和相襯觀察功能左右。