一規模、概述

       本機為雙盤臺式機，左盤用于研磨基石之一，右盤用于拋光聯動，可以兩人同時操作使用。本機具有轉(zhuǎn)動平穩(wěn)共同努力、安全可靠行業內卷、結(jié)構(gòu)緊湊和噪音低等特點，且?guī)в兴鋮s裝置，可以在研磨時對試樣進行冷卻參與能力，以防止因試樣過熱而破壞金相組織適用于對金相試樣進行粗磨合理需求、精磨、粗拋光至精拋光的制樣充分發揮，是企業(yè)高質量、科研單位以及大專院校實驗室的理想制樣設(shè)備。

二選擇適用、主要技術(shù)指標

1. 磨拋盤直徑： φ203mm
2. 磨拋盤分別為轉(zhuǎn)速： 450 r/min （左）管理、600 r/min（右）（或根據(jù)用戶要求定制）
3. 輸入電壓： 單相 AC220V 50Hz
4. 輸入功率： 370W
5. 外形尺寸： 755×780×310mm
6. 凈 重： 61kg

三、贈送耗材明細