1 概述
本儀器是一種便攜式測(cè)量?jī)x，它能快速進一步提升、無(wú)損傷空間廣闊、精密地進(jìn)行涂、鍍層厚度的測(cè)量改革創新。既可用于實(shí)驗(yàn)室知識和技能，也可用于工程現(xiàn)場(chǎng)。通過(guò)使用不同的測(cè)頭新模式，還可滿足多種測(cè)量的需要實現。本儀器能廣泛地應(yīng)用在制造業(yè)不容忽視、金屬加工業(yè)、化工業(yè)服務體系、商檢等檢測(cè)領(lǐng)域說服力。是材料保護(hù)專(zhuān)業(yè)的儀器。
本儀器符合以下標(biāo)準(zhǔn)：
GB/T 4956─1985 磁性金屬基體上非磁性覆蓋層厚度測(cè)量 磁性方法
GB/T 4957─1985 非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層厚度測(cè)量 渦流方法
JB/T 8393─1996 磁性和渦流式覆層厚度測(cè)量?jī)x
JJG 889─95 《磁阻法測(cè)厚儀》
JJG 818─93 《電渦流式測(cè)厚儀》
特點(diǎn)：
l 采用了磁性和渦流兩種測(cè)厚方法分析，即可測(cè)量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度又可測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度表示；
l 可使用10種測(cè)頭(F400、F1非常激烈、F1/90°競爭力所在、F5、F10實力增強、N400體系流動性、N1、N1/90°帶來全新智能、CN02實現了超越、N10)；
l 具有兩種測(cè)量方式：連續(xù)測(cè)量方式（CONTINUE）和單次測(cè)量方式（SINGLE）去完善；
l 具有兩種工作方式：直接方式(DIRECT)和成組方式(A-B)橋梁作用；
l 設(shè)有五個(gè)統(tǒng)計(jì)量：平均值（MEAN）、值（MAX）求索、最小值（MIN）讓人糾結、測(cè)試次數(shù)（NO．）、標(biāo)準(zhǔn)偏差（S．DEV）穩定發展；
l 可采用單點(diǎn)校準(zhǔn)和兩點(diǎn)校準(zhǔn)兩種方法對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)基石之一，并可用基本校準(zhǔn)法對(duì)測(cè)頭的系統(tǒng)誤差進(jìn)行修正；
l 具有存貯功能：可存貯495個(gè)測(cè)量值增持能力；
l 具有刪除功能：對(duì)測(cè)量中出現(xiàn)的單個(gè)可疑數(shù)據(jù)進(jìn)行刪除共同努力，也可刪除存貯區(qū)內(nèi)的所有數(shù)據(jù)，以便進(jìn)行新的測(cè)量影響；
l 可設(shè)置限界：對(duì)限界外的測(cè)量值能自動(dòng)報(bào)警新的動力；
l 具有電源欠壓指示功能；
l 操作過(guò)程有蜂鳴聲提示發展契機；
l 具有錯(cuò)誤提示功能廣泛關註，通過(guò)屏顯或蜂鳴聲進(jìn)行錯(cuò)誤提示；
l 設(shè)有兩種關(guān)機(jī)方式：手動(dòng)關(guān)機(jī)方式和自動(dòng)關(guān)機(jī)方式發力；
l 主機(jī)可通過(guò)安裝軟件與電腦連接優勢領先。連接后可通過(guò)電腦操作完成數(shù)據(jù)下載，儲(chǔ)存，打印等功能推動並實現，快捷方便空白區。
1.1 測(cè)量原理
本儀器采用了磁性和渦流兩種測(cè)厚方法，可無(wú)損地測(cè)量磁性金屬基體( 如鋼信息化、鐵、合金和硬磁性鋼等 )上非磁性覆蓋層的厚度(如鋁實踐者、鉻取得明顯成效、銅、琺瑯數據、橡膠創新的技術、油漆等)及非磁性金屬基體(如銅、鋁顯著、鋅快速增長、錫等)上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度(如:琺瑯、橡膠占、油漆高質量、塑料等)。
a) 磁性法(F型測(cè)頭)
當(dāng)測(cè)頭與覆蓋層接觸時(shí)激發創作，測(cè)頭和磁性金屬基體構(gòu)成一閉合磁路前景，由于非磁性覆蓋層的存在，使磁路磁阻變化增幅最大，通過(guò)測(cè)量其變化可導(dǎo)出覆蓋層的厚度共享應用。
b) 渦流法(N型測(cè)頭)
利用高頻交變電流在線圈中產(chǎn)生一個(gè)電磁場(chǎng)，當(dāng)測(cè)頭與覆蓋層接觸時(shí)標準，金屬基體上產(chǎn)生電渦流示範推廣，并對(duì)測(cè)頭中的線圈產(chǎn)生反饋?zhàn)饔茫ㄟ^(guò)測(cè)量反饋?zhàn)饔玫拇笮】蓪?dǎo)出覆蓋層的厚度重要作用。
1.2 配置清單
| 名 稱(chēng) | 數(shù) 量 | 備注 |
| 主機(jī) | 1臺(tái) | 標(biāo)準(zhǔn)配置 |
| F1測(cè)頭 | 1只 |
| 標(biāo)準(zhǔn)片 | 5片 |
| 基體 | 1塊 |
| 產(chǎn)品包裝箱 | 1個(gè) |
| 使用說(shuō)明書(shū) | 1本 |
| 其他用途的測(cè)頭 | | 可選件 |
| | | |
儀器視圖
1.2.1 測(cè)頭視圖及名稱(chēng)
1. 定位套 2. V型口 3. 加載套 4. 連線 5. 插頭 6. 鎖母
1.2.2 主機(jī)視圖及各部分名稱(chēng)
儀器主機(jī) 2.顯示屏 3. 鍵盤(pán) 4. 測(cè)頭插座 5. 儀器測(cè)頭
1.2.3 屏幕顯示
1.數(shù)據(jù)顯示 2測(cè)量方式 3. 測(cè)頭類(lèi)型指標(biāo)
4.存儲(chǔ)記錄計(jì)數(shù)指示 5. 測(cè)量單位6. 電池電量指示.
1.3 技術(shù)參數(shù)
1.3.1 測(cè)量范圍及測(cè)量誤差（見(jiàn)附錄1）
1.3.2 使用環(huán)境
溫度：-10℃~40℃
濕度：20%～90%RH
無(wú)強(qiáng)磁場(chǎng)環(huán)境
1.3.3 電源
2×1.5V AA (5號(hào))
1.3.4 外型尺寸和重量
外型尺寸：1250mm×67 mm×31 mm
重量：約400g
2 儀器的使用
使用本儀器前持續向好，請(qǐng)務(wù)必仔細(xì)閱讀第3章(校準(zhǔn))和第4章(影響測(cè)量精度的因素)
2.1 基本測(cè)量步驟
a) 準(zhǔn)備好待測(cè)試件（參見(jiàn)第4章）；
b) 將測(cè)頭插頭插入主機(jī)的測(cè)頭插座中有望，旋緊鎖母進一步推進；
c) 將測(cè)頭置于開(kāi)放空間，按一下“
”鍵方案，開(kāi)機(jī)應用的選擇；
d) 儀器自檢顯示所裝測(cè)頭類(lèi)型，界面如下：
e) 檢查電池電壓左右；如電池電壓過(guò)低背景下，儀器將自動(dòng)關(guān)機(jī)。
說(shuō)明1：當(dāng)電池符號(hào)滿格顯示可靠保障，表示電池電壓正常自然條件；空格顯示設計標準，表示電池電壓已低落，應(yīng)立即更換電池互動互補；
說(shuō)明2：長(zhǎng)期不用時(shí)應(yīng)將電電池卸除發揮重要帶動作用。
自檢后正常情況下，顯示上次關(guān)機(jī)前的測(cè)量值意料之外；如下圖：
| 視窗 | 顯示內(nèi)容 | 表示含義 | 備注 |
| Type 測(cè)頭類(lèi)型 | NON-FERROUS | N型測(cè)頭 | |
| FERROUS | F型測(cè) | |
| Sys 工作方式 | D | 直接測(cè)量方式 | |
| APPL 01 | 成組測(cè)量方式1 | |
| APPL 02 | 成組測(cè)量方式2 | |
| APPL 03 | 成組測(cè)量方式3 | |
| APPL 04 | 成組測(cè)量方式4 | |
| APPL 05 | 成組測(cè)量方式5 | |
| Num 存貯單元 | 1-99 | 正在存儲(chǔ)的單元數(shù) | 共5組 |
f) 是否需要校準(zhǔn)儀器文化價值，如果需要，選擇適當(dāng)?shù)男?zhǔn)方法進(jìn)行（參見(jiàn)第4章）置之不顧；
g) 測(cè)量
迅速將測(cè)頭與測(cè)試面垂直地接觸并輕壓測(cè)頭定位套不斷完善，隨著一聲?shū)Q響，屏幕顯示測(cè)量值方便，提起測(cè)頭可進(jìn)行下次測(cè)量基礎上；
g) 關(guān)機(jī)
在無(wú)任何操作的情況下，大約1~2min后儀器自動(dòng)關(guān)機(jī)應用領域。按一下“
”鍵保持競爭優勢，立即關(guān)機(jī)。
說(shuō)明: 1. 如果在測(cè)量中測(cè)頭放置不穩(wěn)實現，顯示一個(gè)明顯的可疑值不容忽視，按 CLEAR 鍵可刪除
該值；
2.2 各項(xiàng)功能及操作方法
菜單明細(xì)表組織圖
| Data Statistic 數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)值 | Total: | 統(tǒng)計(jì)樣本的總數(shù) |
| Mean | 平均值 |
| Max | 值 |
| Min | 最小值 |
| Sdev | 標(biāo)準(zhǔn)偏差 |
| | | |
| Measuring Mode 測(cè)量方式 | Single | 單次測(cè)量 |
| Continue | 連續(xù)測(cè)量 |
| | | |
| Working Mode 工作方式 | DIRECT | 直接測(cè)量方式 |
| APPL 1 | 成組測(cè)量方式1 |
| APPL 2 | 成組測(cè)量方式2 |
| APPL 3 | 成組測(cè)量方式3 |
| APPL 4 | 成組測(cè)量方式4 |
| APPL 5 | 成組測(cè)量方式5 |
| | | |
| Measuring Unit 測(cè)量單位制式 | μm | 公制單位 |
| mils | 英制單位 |
| | | |
| Delete Files 刪除文件 | APPL 1 | 刪除成組測(cè)量文件1 |
| APPL 2 | 刪除成組測(cè)量文件2 |
| APPL 3 | 刪除成組測(cè)量文件3 |
| APPL 4 | 刪除成組測(cè)量文件4 |
| APPL 5 | 刪除成組測(cè)量文件5 |
| | | |
| ViewData File 查看數(shù)據(jù)記錄內(nèi)容 | APPL 1 | 查看相應(yīng)成組方式下 的記錄數(shù)據(jù) |
| APPL 2 |
| APPL 3 |
| APPL 4 |
| APPL 5 |
| | | |
| About Software 軟件信息 | Version | 儀器軟件版本號(hào) |
| Code | 儀器出廠代碼 |
| SN | 儀器出廠序列號(hào) |
2.2.1 測(cè)量方式（單次測(cè)量?連續(xù)測(cè)量）
l 單次測(cè)量──測(cè)頭每接觸被測(cè)件1次可以使用，隨著一聲?shū)Q響進入當下，顯示一個(gè)測(cè)量結(jié)果；
l 連續(xù)測(cè)量──不提起測(cè)頭動(dòng)態(tài)測(cè)量效高化，測(cè)量過(guò)程中不伴鳴響新體系，屏幕閃顯測(cè)量結(jié)果；
l 兩種方式的轉(zhuǎn)換方法是：開(kāi)機(jī)狀態(tài)下創造，按“ENTER”鍵后不難發現，屏顯菜單，選擇按
鍵將反顯項(xiàng)目選中在“Measuring Mode”后再按“ENTER”鍵設備製造，進(jìn)入測(cè)量方式設(shè)置界面發展需要，按鍵進(jìn)行測(cè)量方式的選擇，Single（單次測(cè)量）管理； Continue（連續(xù)測(cè)量）顯示，選擇后按“ESC”鍵依次退回到主顯示界面，開(kāi)始進(jìn)入新的測(cè)量方式進(jìn)行測(cè)量效率和安。
2.2.2 工作方式（直接方式
成組方式）
l 直接（DIRECT）方式 ── 此方式用于隨意性測(cè)量設計能力，測(cè)量值暫存在內(nèi)存單元（共有99個(gè)存貯單元），當(dāng)存滿99個(gè)存貯單元時(shí)，新的測(cè)量值將替掉舊的測(cè)量值更為一致，也就是說(shuō)總是的99個(gè)測(cè)量值參與統(tǒng)計(jì)計(jì)算等形式。
l 成組方式（APPL）── 此方式便于用戶分批記錄所測(cè)試的數(shù)據(jù)，一組最多存99個(gè)數(shù)值研究與應用，總共五組飛躍，可存495個(gè)數(shù)值。每組當(dāng)存滿99個(gè)數(shù)值時(shí)全面協議，屏幕的”num”將顯示“99” 組成部分，此時(shí)，仍可進(jìn)行測(cè)量新的動力，但是測(cè)量值只顯示不存儲(chǔ)，也不參與統(tǒng)計(jì)計(jì)算發展契機。需要時(shí)廣泛關註，可刪除該組數(shù)據(jù)，再進(jìn)行新的測(cè)量 發力。
每組內(nèi)設(shè)有一個(gè)校準(zhǔn)值優勢領先，即該組下各個(gè)數(shù)據(jù)都是基于這個(gè)校準(zhǔn)值測(cè)得的。每組內(nèi)可設(shè)限界智能設備，即可對(duì)該組中的測(cè)量結(jié)果進(jìn)行超限標(biāo)識(shí)和報(bào)警不可缺少。成組方式下，每個(gè)測(cè)量值都自動(dòng)進(jìn)入統(tǒng)計(jì)程序參與統(tǒng)計(jì)計(jì)算特點。因?yàn)槌山M方式下積極回應，可以存貯幾套基于不同校準(zhǔn)值的測(cè)量數(shù)據(jù)，因此該方式特別適合于現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量又進了一步。
注意：所有測(cè)量值都將自動(dòng)輸入統(tǒng)計(jì)（程序不適用于F1/90℃和N1/90℃測(cè)頭）多種場景。
l 兩種方式的轉(zhuǎn)換方法是：
儀器開(kāi)機(jī)后，自動(dòng)進(jìn)入直接工作方式規劃，工作方式區(qū)顯示“D”擴大公共數據。按“ENTER”鍵，然后再按鍵帶動擴大，將反顯項(xiàng)目選中在“Working Mode”后再按“ENTER”鍵核心技術體系，進(jìn)入工作方式設(shè)置界面，按
鍵進(jìn)行工作方式的選擇持續發展，選擇后按“ESC”鍵依次退回到主顯示界面必然趨勢。儀器進(jìn)入成組方式，“sys”工作方式區(qū)顯示“APPL 01”供給；“APPL 02”…“APPL 05”的方法；
2.2.3 單位制式轉(zhuǎn)換（公制
英制）
公制和英制的轉(zhuǎn)換方法是：開(kāi)機(jī)狀態(tài)下，按“ENTER”鍵后，屏顯菜單落到實處，選擇按
鍵將反顯項(xiàng)目選中在“Measuring Unit”后再按“ENTER”鍵服務水平，進(jìn)入單位制式設(shè)置界面，按鍵進(jìn)行測(cè)量方式的選擇技術創新，μm（公制）處理方法； mils（英制），選擇后按“ESC”鍵依次退回到主顯示界面持續向好，開(kāi)始進(jìn)入新的測(cè)量方式
2.2.4 統(tǒng)計(jì)計(jì)算
本儀器對(duì)測(cè)量值自動(dòng)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)處理習慣，它需要至少三個(gè)測(cè)量值來(lái)產(chǎn)生5個(gè)統(tǒng)計(jì)值：平均值（MEAN）、標(biāo)準(zhǔn)偏差（S.DEV）進展情況、測(cè)試次數(shù)（No.）的積極性、測(cè)試值（MAX）、最小測(cè)試值（MIN）至關重要。
a) 參加統(tǒng)計(jì)計(jì)算的測(cè)量值
⊙ 在直接方式下所有測(cè)量值（包括關(guān)機(jī)前的測(cè)量值）均參加統(tǒng)計(jì)計(jì)算使命責任。
注意：當(dāng)存滿99個(gè)存貯單元時(shí)，新的測(cè)量值將替代舊的測(cè)量值使用。存貯區(qū)內(nèi)保存的99個(gè)測(cè)量值合規意識。
⊙ 在成組方式下，參加統(tǒng)計(jì)計(jì)算的測(cè)量值于本組內(nèi)的數(shù)據(jù)有效性。
注意：每組當(dāng)存滿99個(gè)數(shù)值時(shí)創新內容，盡管測(cè)量能繼續(xù)，但不能修改統(tǒng)計(jì)值廣泛關註。需要時(shí)善於監督，可清除內(nèi)存單元，再進(jìn)行新的測(cè)量就能壓製；
b) 顯示統(tǒng)計(jì)值
按“ENTER”鍵至關重要，操作鍵將反顯項(xiàng)目選中在“Data Statistic”后再按“ENTER”鍵， 5個(gè)統(tǒng)計(jì)值將全部顯示效果。
2.2.5 存貯
成組方式下測(cè)量值自動(dòng)存入內(nèi)存單元有所應，一組最多存99個(gè)數(shù)值，總共五組合作關系，可存495個(gè)數(shù)值著力提升。
2.2.6 刪除
⊙ 刪除當(dāng)前測(cè)量值
無(wú)論在直接方式或成組方式下，只要在測(cè)量值顯示狀態(tài)傳遞，按一下“CLEAR”鍵融合，隨著一聲?shū)Q響，當(dāng)前測(cè)量值已被刪除相關性。
⊙ 刪除直接方式下的所有測(cè)量值完成的事情、統(tǒng)計(jì)值物聯與互聯、兩點(diǎn)校準(zhǔn)值
在直接方式測(cè)量值顯示狀態(tài)下，按二次 “CLEAR” 鍵改造層面，隨著一聲長(zhǎng)鳴響供給，直接方式下的所有測(cè)量值、統(tǒng)計(jì)值經驗分享、兩點(diǎn)校準(zhǔn)值已被刪除解決方案。
⊙ 刪除某組中的所有測(cè)量值、統(tǒng)計(jì)值有力扭轉、校準(zhǔn)值上高質量、界限值
按“ENTER”鍵，操作“锓 ê”鍵將反顯項(xiàng)目選中在“Delete Files”后再按“ENTER”鍵慢體驗，進(jìn)入刪除界面著力增加，操作“锓 ê”鍵選擇組號(hào)后按“CLEAR”鍵，隨著一聲長(zhǎng)鳴響科技實力，該組下的所有測(cè)量值流程、統(tǒng)計(jì)值、校準(zhǔn)值勃勃生機、界限值已被刪除。
2.2.7 設(shè)置限界
a) 按“LIMITS”鍵極致用戶體驗，顯示以前設(shè)置的上限提供有力支撐，然后用鍵設(shè)定新的上限值。
b) 再按“LIMITS”鍵建議，顯示以前設(shè)置的下限品率，然后通過(guò)é、ê鍵設(shè)定新的上限值不斷發展，
提示: 1. 限界僅在成組方式下有效積極影響；
2. 限界以外的測(cè)試結(jié)果由蜂鳴聲報(bào)警；
3. 限界以外的測(cè)試結(jié)果與其它測(cè)試結(jié)果一起被存貯并進(jìn)行統(tǒng)計(jì)計(jì)算緊密協作。
4. 上限與下限的接近程度是有限的越來越重要。在上限值為200μm以上時(shí)，上高品質、下限最小接近程度為上限的3%規模最大，在上限值為200μm以下時(shí)倍增效應，上、下限最小接近程度為5μm也逐步提升。
2.2.8 操作一覽表
表3-1 操作一覽表
| 鍵 名 | 功 能 | 備 注 |
| ZERO | 零點(diǎn)校準(zhǔn) | 3.3.1 |
| LIMIT | 設(shè)置限界 | 2.2.7 |
| CLEAR | 刪除測(cè)試值、統(tǒng)計(jì)值註入了新的力量、限界重要的作用、校準(zhǔn)值 | 2.2.6 |
| 數(shù)字調(diào)節(jié) | |
 | 開(kāi)更多可能性、關(guān)機(jī) | 2.1 |
 | 用于進(jìn)入基本校準(zhǔn)狀態(tài) | 3.4 |
*備注欄內(nèi)給出的標(biāo)號(hào)為本使用說(shuō)明書(shū)中講解本功能的章節(jié)。
2.2.9 關(guān)于測(cè)量和誤差的說(shuō)明
⊙ 如果已經(jīng)進(jìn)行了適當(dāng)?shù)男?zhǔn)足夠的實力，所有的測(cè)量值將保持在一定的誤差范圍內(nèi)(見(jiàn)附錄1)緊迫性；
⊙ 根據(jù)統(tǒng)計(jì)學(xué)的觀點(diǎn)，一次讀數(shù)是不可靠的多種場景。因此任何由儀器顯示的測(cè)量值都是五次"看不見(jiàn)"的測(cè)量的平均值多元化服務體系。這五次測(cè)量是在幾分之一秒的時(shí)間內(nèi)由測(cè)頭和儀器完成的；
⊙ 為使測(cè)量更加精確先進水平，可利用統(tǒng)計(jì)程序在一個(gè)點(diǎn)多次測(cè)量便利性，粗大誤差用CLEAR刪除，最后覆層的厚度為：
CH = M+S+δ
其中: CH：覆層厚度
M：多次測(cè)量的平均值
S：標(biāo)準(zhǔn)方差
δ：儀器允許誤差
3 儀器的校準(zhǔn)
為使測(cè)量準(zhǔn)確重要平臺，應(yīng)在測(cè)量場(chǎng)所對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)深刻認識。
3.1 校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片（包括箔和基體）
已知厚度的箔或已知覆蓋層厚度的試樣均可作為校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片。簡(jiǎn)稱(chēng)標(biāo)準(zhǔn)片應用提升。
a) 校準(zhǔn)箔
對(duì)于磁性方法主動性，“箔”是指非磁性金屬或非金屬的箔或墊片。對(duì)于渦流方法發展的關鍵，通常采用塑料箔道路。“箔”有利于曲面上的校準(zhǔn)真諦所在，而且比用有覆蓋層的標(biāo)準(zhǔn)片更合適指導。
b) 有覆蓋層的標(biāo)準(zhǔn)片
采用已知厚度的、均勻的充分、并與基體牢固結(jié)合的覆蓋層作為標(biāo)準(zhǔn)片進一步完善。對(duì)于磁性方法，覆蓋層是非磁性的競爭力。對(duì)于渦流方法調整推進，覆蓋層是非導(dǎo)電的。
3.2 基體
a) 對(duì)于磁性方法機製性梗阻，標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的磁性和表面粗糙度機製，應(yīng)當(dāng)與待測(cè)試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。對(duì)于渦流方法集成應用，標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì)使命責任，應(yīng)當(dāng)與待測(cè)試件基體金屬的電性質(zhì)相似。為了證實(shí)標(biāo)準(zhǔn)片的適用性使用，可用標(biāo)準(zhǔn)片的基體金屬與待測(cè)試件基體金屬上所測(cè)得的讀數(shù)進(jìn)行比較合規意識。
b) 如果待測(cè)試件的金屬基體厚度沒(méi)有超過(guò)表一中所規(guī)定的臨界厚度，可采用下面兩種方法進(jìn)行校準(zhǔn)：
1) 在與待測(cè)試件的金屬基體厚度相同的金屬標(biāo)準(zhǔn)片上校準(zhǔn)有效性；
2) 用一足夠厚度的創新內容，電學(xué)性質(zhì)相似的金屬襯墊金屬標(biāo)準(zhǔn)片或試件機遇與挑戰，但必須使基體金屬與襯墊金屬之間無(wú)間隙。對(duì)兩面有覆蓋層的試件善於監督，不能采用襯墊法共創輝煌。
c) 如果待測(cè)覆蓋層的曲率已達(dá)到不能在平面上校準(zhǔn)，則有覆蓋層的標(biāo)準(zhǔn)片的曲率或置于校準(zhǔn)箔下的基體金屬的曲率進一步，應(yīng)與試樣的曲率相同大部分。
3.3 校準(zhǔn)方法
本儀器有三種測(cè)量中使用校準(zhǔn)方法: 零點(diǎn)校準(zhǔn)、二點(diǎn)校準(zhǔn)實際需求、在噴沙表面上校準(zhǔn)解決方案。二點(diǎn)校準(zhǔn)法又分一試片法和二試片法。還有一種針對(duì)測(cè)頭的基本校準(zhǔn)善謀新篇。本儀器的校準(zhǔn)方法是非常簡(jiǎn)單的增產。
3.3.1 零點(diǎn)校準(zhǔn)
適用于除CN02外的所有的測(cè)頭。
a) 在基體上進(jìn)行一次測(cè)量方法，屏幕顯示＜×.×µm＞行動力。
b) 按ZERO鍵，屏顯
c) 重復(fù)上述a切實把製度、b步驟可獲得更為精確的零點(diǎn)保供，高測(cè)量精度。零點(diǎn)校準(zhǔn)完成后就可進(jìn)行測(cè)量了進行部署。
3.3.2 二點(diǎn)校準(zhǔn)
3.3.2.1 一試片法
適用于除CN02外的所有測(cè)頭責任。這一校準(zhǔn)法適用于高精度測(cè)量及小工件、淬火鋼利用好、合金鋼。
a) 先校零點(diǎn)（如上述）解決問題。
b) 在厚度大致等于預(yù)計(jì)的待測(cè)覆蓋層厚度的標(biāo)準(zhǔn)片上進(jìn)行一次測(cè)量系列，屏幕顯示＜×××µm＞。
c) 用鍵修正讀數(shù)相互配合，使其達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)值慢體驗。校準(zhǔn)已完成，可以開(kāi)始測(cè)量了智能化。
注意:
1. 即使顯示結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)片值相符科技實力，按é ê鍵也是的。例如按一次é一次ê建設。這一點(diǎn)適用于所有校準(zhǔn)方法在此基礎上。
2. 如欲較準(zhǔn)確地進(jìn)行二點(diǎn)校準(zhǔn)，可重復(fù)b前來體驗、c過(guò)程自主研發，以提高校準(zhǔn)的精度首要任務，減少偶然誤差。
3. 用F5 和 F10 測(cè)頭不同需求，測(cè)量金屬鍍層時(shí)發展，應(yīng)使用兩點(diǎn)校準(zhǔn)法校準(zhǔn)。
3.3.2.2 二試片法
適用于除CN02外的所有測(cè)頭總之。兩個(gè)標(biāo)準(zhǔn)片厚度至少相差三倍面向。待測(cè)覆蓋層厚度應(yīng)該在兩個(gè)校準(zhǔn)值之間。這種方法尤其適用于粗糙的噴沙表面和高精度測(cè)量研學體驗。
a) 先校零值建設項目。
b) 在較薄的標(biāo)準(zhǔn)片上進(jìn)行一次測(cè)量，用鍵修正讀數(shù)近年來，使其達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)值講道理。
c) 緊接著在厚的一個(gè)樣片上進(jìn)行一次測(cè)量，用鍵修正讀數(shù)技術先進，使其達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)
值更多的合作機會。校準(zhǔn)已完成，可以開(kāi)始測(cè)量了認為。
3.3.2.3 在噴沙表面上校準(zhǔn)
噴沙表面的特性導(dǎo)致了測(cè)量值大大偏離真值服務好，其覆蓋層厚度大致可用下面的方法確定。
方法一：
a) 儀器要用3.3.1或3.3.2.1的方法在曲率半徑和基材相同的平滑表面校準(zhǔn)好反應能力。
b) 在未涂覆的經(jīng)過(guò)同樣噴沙處理的表面測(cè)量10次左右共謀發展，得到平均值Mo。
c) 然后結構重塑，在已涂覆的表面上測(cè)量10次得到平均值Mm聽得懂。
d) （Mm—Mo）±S即是覆蓋層厚度。
其中S（標(biāo)準(zhǔn)偏差）是SMm和SMo中較大的一個(gè)高質量發展。
方法二：
a) 用直接方式下的單次測(cè)量法測(cè)量全方位。
b) 先用兩試片法校準(zhǔn)儀器。
c) 在試樣上測(cè)量5～10次影響力範圍。按STATS鍵大局，統(tǒng)計(jì)值中的平均值即是覆層厚度。
3.3.2.4 銅上鍍鉻層的校準(zhǔn)方法
適用于N400邁出了重要的一步、N1和N1/90°測(cè)頭有序推進，并使用特殊的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片。
⊙必須使用一試片法需求。
⊙使用標(biāo)有“銅上鍍鉻” (CHROME ON COPPER) 字樣的特殊標(biāo)準(zhǔn)片配套設備。
3.3.2.5 CN02測(cè)頭的校準(zhǔn)方法
CN02是一種平展的測(cè)頭，僅適用于測(cè)量平滑表面的銅板或銅箔的厚度相對開放。
a) 開(kāi)機(jī)后對外開放，將CN02測(cè)頭平穩(wěn)地放在隨機(jī)配帶的5.0mm銅塊上技術創新，按ZERO鍵，屏幕顯示“OO”資料；
b) 在標(biāo)準(zhǔn)片上進(jìn)行一次測(cè)量廣泛應用；
c) 用鍵修正讀數(shù)，使其達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)值橫向協同。校準(zhǔn)已完成哪些領域，可以開(kāi)始測(cè)量。
d) 測(cè)量雙面覆銅板需用雙面敷銅標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)不斷創新。
說(shuō)明：在溫度變化極大的情況下建立和完善，如冬季或盛夏在室外操作時(shí)，應(yīng)在與待測(cè)箔厚度接近的標(biāo)準(zhǔn)片上進(jìn)行校準(zhǔn)參與水平。校準(zhǔn)時(shí)的環(huán)境溫度應(yīng)與使用時(shí)的環(huán)境溫度一致大型。
注意:
1. 出現(xiàn)下列情況，必需重新校準(zhǔn)明確相關要求。
u 校準(zhǔn)時(shí)重要意義，輸入了一個(gè)錯(cuò)誤值
u 操作錯(cuò)誤
u 更換了測(cè)頭
2. 在直接方式下，如果輸入了錯(cuò)誤的校準(zhǔn)值深化涉外，應(yīng)緊接著做一次測(cè)量體系，隨后再做一次校準(zhǔn)，即可獲取新值消除錯(cuò)誤值開展試點；
3. 每一組單元中攜手共進，只能有一個(gè)校準(zhǔn)值。
4. 零點(diǎn)校準(zhǔn)和二點(diǎn)校準(zhǔn)都可以重復(fù)多次推進一步，以獲得更為精確的校準(zhǔn)值經過，提高測(cè)量精度但此過(guò)程中一旦有過(guò)一次測(cè)量，則校準(zhǔn)過(guò)程便告結(jié)束力度。
3.3.3 修改組FX中的校準(zhǔn)值
刪除組單元中的所有數(shù)據(jù)和校準(zhǔn)值之后才能重新校準(zhǔn)明確了方向。否則將出現(xiàn)E20錯(cuò)誤代碼和鳴響報(bào)警。更換測(cè)頭后善謀新篇，必須用此方法增產！
3.4 基本校準(zhǔn)的修正
在下述情況下提供堅實支撐，改變基本校準(zhǔn)是有必要的:
____測(cè)頭頂端被磨損還不大。
____新?lián)Q的測(cè)頭。
____特殊的用途信息化技術。
在測(cè)量中發揮作用，如果誤差明顯地超出給定范圍，則應(yīng)對(duì)測(cè)頭的特性重新進(jìn)行校準(zhǔn)稱(chēng)為基本校準(zhǔn)逐步顯現。通過(guò)輸入 6個(gè)校準(zhǔn)值(1個(gè)零和5個(gè)厚度值)銘記囑托，可重新校準(zhǔn)測(cè)頭引領。
a) 在儀器關(guān)閉的狀態(tài)下按住 
鍵再按 鍵，直到一聲長(zhǎng)鳴示範，即進(jìn)入基本校準(zhǔn)狀態(tài)應用前景；
b) 先校零值∵\行好？蛇B續(xù)重復(fù)進(jìn)行多次首次，以獲得一個(gè)多次校準(zhǔn)的平均值，這樣做可以提高校準(zhǔn)的準(zhǔn)確性部署安排；
c) 使用標(biāo)準(zhǔn)片搖籃，按厚度增加的順序，一個(gè)厚度上可做多次推廣開來。每個(gè)厚度應(yīng)至少是上一個(gè)厚度的1.6 倍以上推動，理想的情況是2倍。例如: 50資源配置、100信息、200、400相互融合、800μm首要任務。值應(yīng)該接近但低于測(cè)頭的測(cè)量范圍；
注意: 每個(gè)厚度應(yīng)至少是上一個(gè)厚度的1.6 倍以上不同需求，否則視為基本校準(zhǔn)失敗發展。
d) 在輸入 6個(gè)校準(zhǔn)值以后，測(cè)量一下零點(diǎn)總之，儀器自動(dòng)關(guān)閉面向，新的校準(zhǔn)值已存入儀器。當(dāng)再次開(kāi)機(jī)時(shí)研學體驗，儀器將按新的校準(zhǔn)值工作建設項目。
4 影響測(cè)量精度的因素
4.1 影響因素相關(guān)表
表4-1 影響因素相關(guān)表
| 測(cè)量方法 影響因素 | 磁性方法 | 渦流方法 |
| 基體金屬磁性質(zhì) | ▲ | |
| 基體金屬電性質(zhì) | | ▲ |
| 基體金屬厚度 | ▲ | ▲ |
| 邊緣效應(yīng) | ▲ | ▲ |
| 曲率 | ▲ | ▲ |
| 試樣的變形 | ▲ | ▲ |
| 表面粗糙度 | ▲ | ▲ |
| 磁場(chǎng) | ▲ | |
| 附著物質(zhì) | ▲ | ▲ |
| 測(cè)頭壓力 | ▲ | ▲ |
| 測(cè)頭取向 | ▲ | ▲ |
▲ ------ 表示有影響
4.2 影響因素的有關(guān)說(shuō)明
a) 基體金屬磁性質(zhì)
磁性法測(cè)厚受基體金屬磁性變化的影響（在實(shí)際應(yīng)用中，低碳鋼磁性的變化可以認(rèn)為是輕微的）模式，為了避免熱處理和冷加工因素的影響自動化，應(yīng)使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)片對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)；亦可用待涂覆試件進(jìn)行校準(zhǔn)高品質。
b) 基體金屬電性質(zhì)
基體金屬的電導(dǎo)率對(duì)測(cè)量有影響不折不扣，而基體金屬的電導(dǎo)率與其材料成分及熱處理方法有關(guān)。使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)片對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)資源優勢。
c) 基體金屬厚度
每一種儀器都有一個(gè)基體金屬的臨界厚度高效利用。大于這個(gè)厚度，測(cè)量就不受基體金屬厚度的影響。本儀器的臨界厚度值見(jiàn)附表1講理論。
d) 邊緣效應(yīng)
本儀器對(duì)試件表面形狀的陡變敏感的可能性。因此在靠近試件邊緣或內(nèi)轉(zhuǎn)角處進(jìn)行測(cè)量是不可靠的。
e) 曲率
試件的曲率對(duì)測(cè)量有影響服務為一體。這種影響總是隨著曲率半徑的減少明顯地增大問題。因此，在彎曲試件的表面上測(cè)量是不可靠的全會精神。
f) 試件的變形
測(cè)頭會(huì)使軟覆蓋層試件變形緊密相關，因此在這些試件上測(cè)出可靠的數(shù)據(jù)。
g) 表面粗糙度
基體金屬和覆蓋層的表面粗糙程度對(duì)測(cè)量有影響先進技術。粗糙程度增大培訓，影響增大。粗糙表面會(huì)引起系統(tǒng)誤差和偶然誤差宣講手段，每次測(cè)量時(shí)重要工具，在不同位置上應(yīng)增加測(cè)量的次數(shù)，以克服這種偶然誤差配套設備。如果基體金屬粗糙更優質，還必須在未涂覆的粗糙度相類(lèi)似的基體金屬試件上取幾個(gè)位置校對(duì)儀器的零點(diǎn)；或用對(duì)基體金屬?zèng)]有腐蝕的溶液溶解除去覆蓋層后推進高水平，再校對(duì)儀器的零點(diǎn)脫穎而出。
g) 磁場(chǎng)
周?chē)鞣N電氣設(shè)備所產(chǎn)生的強(qiáng)磁場(chǎng)，會(huì)嚴(yán)重地干擾磁性法測(cè)厚工作生產創效。
h) 附著物質(zhì)
本儀器對(duì)那些妨礙測(cè)頭與覆蓋層表面緊密接觸的附著物質(zhì)敏感結構，因此，必須清除附著物質(zhì)，以保證儀器測(cè)頭和被測(cè)試件表面直接接觸雙重提升。
i) 測(cè)頭壓力
測(cè)頭置于試件上所施加的壓力大小會(huì)影響測(cè)量的讀數(shù)，因此事關全面，要保持壓力恒定表現明顯更佳。
j) 測(cè)頭的取向
測(cè)頭的放置方式對(duì)測(cè)量有影響。在測(cè)量中技術節能，應(yīng)當(dāng)使測(cè)頭與試樣表面保持垂直指導。
4.3 使用儀器時(shí)應(yīng)當(dāng)遵守的規(guī)定
a) 基體金屬特性
對(duì)于磁性方法，標(biāo)準(zhǔn)片的基體金屬的磁性和表面粗糙度國際要求，應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似流動性。
對(duì)于渦流方法，標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì)行業內卷，應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的電性質(zhì)相似追求卓越。
b) 基體金屬厚度
檢查基體金屬厚度是否超過(guò)臨界厚度逐漸完善，如果沒(méi)有參與能力，可采用3.3)中的某種方法進(jìn)行校準(zhǔn)合理需求。
c) 邊緣效應(yīng)
不應(yīng)在緊靠試件的突變處，如邊緣充分發揮、洞和內(nèi)轉(zhuǎn)角等處進(jìn)行測(cè)量高質量。
d) 曲率
不應(yīng)在試件的彎曲表面上測(cè)量。
e) 讀數(shù)次數(shù)
通常由于儀器的每次讀數(shù)并不相同選擇適用，因此必須在每一測(cè)量面積內(nèi)取幾個(gè)讀數(shù)管理。覆蓋層厚度的局部差異，也要求在任一給定的面積內(nèi)進(jìn)行多次測(cè)量業務指導，表面粗造時(shí)更應(yīng)如此改進措施。
f) 表面清潔度
測(cè)量前，應(yīng)清除表面上的任何附著物質(zhì)長足發展，如塵土今年、油脂及腐蝕產(chǎn)物等，但不要除去任何覆蓋層物質(zhì)結構不合理。
5 保養(yǎng)與維修
5.1 環(huán)境要求
嚴(yán)格避免碰撞動手能力、重塵、潮濕意見征詢、強(qiáng)磁場(chǎng)提升、油污等。
5.2 更換電池
本儀器在使用中等多個領域，當(dāng)電池電壓過(guò)低時(shí)再獲，即屏幕上的電池標(biāo)志顯示為空，應(yīng)盡快給儀器更換電池應用擴展。更換電池時(shí)應(yīng)特別注意電池安裝的正負(fù)極性的方向激發創作。
5.3 故障排除
下面的錯(cuò)誤信息表告訴您如何去識(shí)別和排除故障：
表5-1 錯(cuò)誤信息表
| 錯(cuò)誤代號(hào) | 錯(cuò)誤代號(hào)的含意 | 原因及解決辦法 |
| E02 | 測(cè)頭或儀器損壞 | 修理測(cè)頭或儀器 |
| E03 | 測(cè)頭或儀器損壞 | 修理測(cè)頭或儀器 |
| E04 | 測(cè)量值發(fā)生大的波動(dòng)(例如在軟覆蓋層上測(cè)量時(shí))；磁場(chǎng)影響 | 在軟質(zhì)覆蓋層上測(cè)量時(shí)進一步意見，應(yīng)采用輔助裝置進(jìn)行測(cè)量增幅最大；遠(yuǎn)離強(qiáng)磁場(chǎng)環(huán)境 |
| E05 | 開(kāi)機(jī)時(shí)測(cè)頭離金屬基體太近 | 測(cè)頭遠(yuǎn)離金屬基體 |
| E08 | 測(cè)頭或儀器損壞 | 修理測(cè)頭或儀器 |
| E11 | 測(cè)頭型號(hào)與本組原有數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的測(cè)頭型號(hào)不符 | 更換合適的測(cè)頭 另選一個(gè)未使用的組單元 刪除后重新校準(zhǔn) |
| E15 | 零值偏差太大，不能校零 | 選擇合適的基體或修理儀器 |
| E20 | 這個(gè)組單元中已有校準(zhǔn)值 | 另選一個(gè)未使用的分組單元 或刪除后重新校準(zhǔn) |
如果未顯示錯(cuò)誤代碼而工作不正常生產能力，例如：
a) 儀器不能自動(dòng)關(guān)機(jī)標準；
b) 不能測(cè)量；
c) 鍵不工作堅持好；
d) 測(cè)量值反復(fù)無(wú)常即將展開。
出現(xiàn)這類(lèi)故障時(shí)， 當(dāng)用戶通過(guò)上述方法仍不能排除故障時(shí)特性，請(qǐng)用戶不要拆機(jī)自修傳承。填妥保修卡后，請(qǐng)將儀器交我公司維修部門(mén)，執(zhí)行保修條例多種。
如果能將出現(xiàn)錯(cuò)誤的情況簡(jiǎn)單描述一下將進一步，一同寄出，我們將會(huì)非常感謝您發展成就。
6 用戶須知
一成就、 用戶購(gòu)買(mǎi)本公司產(chǎn)品后，請(qǐng)認(rèn)真填寫(xiě)《保修登記卡》并請(qǐng)加蓋用戶單位公章開展面對面。請(qǐng)將（一）聯(lián)和購(gòu)機(jī)發(fā)票復(fù)印件寄回本公司用戶服務(wù)部系統，也可購(gòu)機(jī)時(shí)委托售機(jī)單位代寄。（二）聯(lián)寄（留）當(dāng)?shù)胤止揪S修站辦理登記手續(xù)進一步提升。無(wú)維修站地區(qū)請(qǐng)用戶將（一）空間廣闊、（二）聯(lián)寄回本公司用戶服務(wù)部。手續(xù)不全時(shí)改革創新，只能維修不予保修支撐能力。
二、本公司產(chǎn)品從用戶購(gòu)置之日起高效利用，一年內(nèi)出現(xiàn)質(zhì)量故障（非保修件除外）特征更加明顯，請(qǐng)憑“保修卡”（用戶留存聯(lián)）或購(gòu)機(jī)發(fā)票復(fù)印件與本公司各地的分公司維修站聯(lián)系，維修產(chǎn)品數字化、更換或退貨方便。保修期內(nèi)，不能出示保修卡或購(gòu)機(jī)發(fā)票復(fù)印件各領域，本公司按出廠日期計(jì)算保修期應用領域，期限為一年。
三進行培訓、超過(guò)保修期的本公司產(chǎn)品出現(xiàn)故障發展機遇，各地維修站負(fù)責(zé)售后服務(wù)、維修產(chǎn)品法治力量，按本公司規(guī)定核收維修費(fèi)全技術方案。
四、公司定型產(chǎn)品外的“特殊配置”（異型傳感器共享，專(zhuān)用軟件等）信息化，按有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)收取費(fèi)用。
五生動、凡因用戶自行拆裝本公司產(chǎn)品新型儲能、因運(yùn)輸、保管不當(dāng)或未按“產(chǎn)品使用說(shuō)明書(shū)”正確操作造成產(chǎn)品損壞新品技，以及私自涂改保修卡範圍，無(wú)購(gòu)貨憑證求得平衡，本公司均不能予以保修。
7 附表
杰出的高技術(shù)產(chǎn)品
令人放心的質(zhì)量
讓您滿意的服務(wù)
