產品型號:WH91測量范圍:0-1250um測量原理:電磁式基體:0.4mm
WH91單鐵基分體測厚儀是威福研發(fā)生產的一種帶線的延長探頭測凹槽面更加方便了確定性,還有一些桌面底下,窗外測不到的地方技術交流,用這種帶探頭的測量非常方便先進的解決方案,可滿足客戶的不同需求。
WH91單基涂層測厚儀的技術參數如下所示
測量范圍 | 0-1250um |
工作電源 | 兩節(jié) 5 號電池 |
測量精度誤差 | 零點校準 ±(1+3%H);二點校準±【(1%~3%H)】H+1.5 |
環(huán)境溫度 | 0-40℃ |
相對濕度 | ≤85% |
最小基體 | 10*10mm |
最小曲率 | 凸:5mm;凹 :5mm |
基體 | 0.4mm |
重量 | 115 克(含電池) |
尺寸 | 110mm*65mm*30mm |
WH91單鐵基分體涂層測厚儀的產品特點
1創造更多、具有電源欠壓指示功能
2、操作過程有蜂鳴聲提示
3不斷進步、能快速自動識別鐵基體與非鐵基體
4工藝技術、設有兩種關機方式:手動關機方式和自動關機方式;
5、有負數顯示功能規模,保證儀器在零位點的校準準確性;
6近年來、采用了磁性測厚方法,適用導磁材料上的非導磁層厚度測量發展目標奮鬥。導磁材料一般為:鋼技術先進、鐵、銀延伸、鎳認為。
7、可采用單點校準和兩點校準兩種方法對儀器進行校準新趨勢,并可用基本校準法對測量頭的系統(tǒng)誤差進行修正反應能力,保證儀器在測量過程中儀器的準確性;
WH91單鐵基分體涂層測厚儀的使用說明
1)開機
按下 ON 鍵后儀器聽到一聲鳴響,自動恢復上次關機前的參數設置后學習,將顯示0.0μm結構重塑,儀器進入待測狀態(tài)脙瀯??蓽y量工件了高質量發展。經過一段時間不使用儀器將自動關機。
2)關機
在無任何操作的情況下高效節能,大約 3分鐘后儀器自動關機影響力範圍。按一下“ON”鍵,立即關機。
3)單位制式轉換(公制與英制轉換)
在待測狀態(tài)下應用提升,按μm/mil可轉換其測量單位主動性。
4)測量
a)準備好待測試件
b)是否需要校準儀器,如果需要發展的關鍵,選擇適當的校準方法進行(參照 4 儀器校準)
c)迅速將測量頭與測試面垂直地接觸并輕壓測量頭定位套道路,隨著一聲鳴響,屏幕顯示測量值多種方式,儀器會自動感應被測基體:感應到是磁性基體時儀器顯示 Fe感應到是非磁性金屬時儀器顯示 NFe對外開放。測量時請始終保持儀器處于垂直狀態(tài)!提起測量頭可進行下次測量;
WH91單鐵基分體涂層測厚儀的校準
為使測量準確,應在測量場所對儀器進行校準深入交流研討。
1 校準標準片(包括箔和基體)
已知厚度的箔或已知覆蓋層厚度的試樣均可作為校準標準片資料。簡稱標準片。
a) 校準箔
對于磁性方法關註度, “箔”是指非磁性金屬或非金屬的箔或墊片橫向協同。對于渦流方法,通常采用塑料箔敢於挑戰。 “箔”有利于曲面上的校準不斷創新,而且比用有覆蓋層的標準片更合適。
b) 有覆蓋層的標準片
采用已知厚度的提供了遵循、均勻的參與水平、并與基體牢固結合的覆蓋層作為標準片。對于磁性方法服務效率,覆蓋層是非磁性的明確相關要求。對于渦流方法,覆蓋層是非導電的統籌發展。
2 基體
a)對于磁性方法深化涉外,標準片基體金屬的磁性和表面粗糙度,應當與待測試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似創新科技。對于渦流方法服務延伸,標準片基體金屬的電性質,應當與待測試件基體金屬的電性質相似具有重要意義。為了證實標準片的適用性進一步,可用標準片的基體金屬與待測試件基體金屬上所測得的讀數進行比較。
b) 如果待測試件的金屬基體厚度沒有超過表一中所規(guī)定的臨界厚度強大的功能,可采用下面兩種方法進行校準:
1) 在與待測試件的金屬基體厚度相同的金屬標準片上校準;
2) 用一足夠厚度的實際需求,電學性質相似的金屬襯墊金屬標準片或試件,但必須使基體金屬與襯墊金屬之間無間隙優勢。對兩面有覆蓋層的試件善謀新篇,不能采用襯墊法增產。
c) 如果待測覆蓋層的曲率已達到不能在平面上校準,則有覆蓋層的標準片的曲率或置于校準箔下的基體金屬的曲率方法,應與試樣的曲率相同行動力。
3 校準方法
本儀器有三種測量中使用校準方法: 零點校準、二點校準發揮作用,還有一種針對測量頭的六點修正校準良好。本儀器的校準方法是非常簡單的。
3.1 零點校準
a) 在基體上進行一次測量銘記囑托,屏幕顯示<×.×µm>引領。
b) 按 ZERO 鍵,屏顯<0.0>示範。校準已完成應用前景,可以開始測量了。
c) 重復上述 a運行好、b 步驟可獲得更為精確的零點首次,高測量精度。零點校準完成后就可進行測量了統籌推進。注:本儀器提供負數顯示方案,為用戶更方便的選擇零點。
3.2 二點校準
這一校準法適用于高精度測量及小工件了解情況、淬火鋼、合金鋼技術研究。
a) 先校零點(如上述)重要的。
b) 在厚度大致等于預計的待測覆蓋層厚度的標準片上進行一次測量,屏幕顯示<×××µm>姿勢。
c) 用▲相互融合、▲、鍵修正讀數綠色化,使其達到標準值不同需求。校準已完成,可以開始測量保持穩定。
注:在儀器校準時總之,單次按將跳動一個數,長按不松開支撐作用,將連續(xù)跳動要修正的值研學體驗。
4 六點修正校準
在下述情況下,改變基本校準是有必要的:
測量頭頂端被磨損最為突出、新?lián)Q的測量頭落實落細、特殊的用途自動化。
在測量中,如果誤差明顯地超出給定范圍高品質,則應對測量頭的特性重新進行校準稱為基本校準不折不扣。通過輸入 6 個校準值(1 個零和 5 個厚度值),可重新校準測量頭資源優勢,具體操作方法如下:
a) 在儀器開啟的狀態(tài)下高效利用,按順序連續(xù)、快速按下以下按鈕長效機製,即可進入六點修正校準;
b)先校零值講實踐。在六點修正校準界面的個界面,測一下沒有任何涂層的基體奮戰不懈,然后按 ZERO 鍵市場開拓,屏幕中的 ADJ 顯示 0.0µm,按 進入下一點的校準;
c)校準儀器自帶校準片大大縮短,把 50µm 的放到基體上要落實好,測一下 50µm 的厚度,測出來的(ADJ)數與校準片的值不符按? ?調整到與校準片的值一樣(如50µm 測出來是 54µm 按?調整到 50µm)更默契了, 然后按 進入下一點校準,接著用相同的校準方法依次校準 100μm先進技術、250μm、500μm不合理波動、1000μm 校準膜片;
d)6 點數據調整完之后宣講手段,會出現對話框詢問是否保存,按 確認保存;
e)若使用其他膜片標準積極拓展新的領域,須按厚度增加的順序配套設備,一個厚度上可做多次。每個厚度應至少是上一個厚度的 1.6 倍以上相對開放,理想情況是 2 倍推進高水平。例如: 50、100拓展應用、250生產創效、500、1000μm管理。值應該接近但低于測量頭的測量范圍;
注意: 每個厚度應至少是上一個厚度的 1.6 倍以上優化上下,否則視為基本校準失敗,后面一個點必須大于 500μm
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