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TX 2000 全反射X熒光光譜儀

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儀器簡介TX2000原理是基于X熒光能譜法講理論,但與X射線能譜形成對比的是傳統(tǒng)能譜采用原級X光束以45角轟擊樣品,而TXRF采用毫弧度的臨界角

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儀器簡介

TX2000 原理是基于X熒光能譜法不要畏懼,但與X射線能譜形成對比的是“傳統(tǒng)能譜采用原級X光束以45°角轟擊樣品,而TXRF采用毫弧度的臨界角問題。由于采用此種近于切線方向的入射角逐漸顯現,原級X光束幾乎可以全部被反射,照射在樣品表面后系統穩定性,可以上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發(fā)生拓展基地,同時減小了載體的背景和噪聲”。TX2000 將全反射和傳統(tǒng)的能量色散集成在同一臺儀器上實力增強,采用光學編碼器的步進電機保證了具有精確地角度值體系流動性,軟件控制Mo/W靶可自由切換,采用帕爾貼制冷硅漂移檢測器帶來全新智能。

 

應用范圍

TX2000 可檢測從Na到Pu所有元素含量實現了超越,可進行痕量或超痕量元素分析(ppt或pg),廣泛的應用在環(huán)境分析(水去完善、灰塵橋梁作用、沉積物、大氣懸浮物)範圍,制藥分析(生物體液和組織樣品中的有害元素)求得平衡,法醫(yī)學(微小證據(jù)分析),化學純度分析(酸空間廣闊、堿至關重要、鹽、溶劑服務品質、水的發生、超純試劑),油品分析(原油表現明顯更佳、輕質油狀態、燃料油),染料分析(墨水指導、油漆廣泛認同、粉末),半導體材料分析(揮發(fā)相分解)流動性,核材料工業(yè)(放射性元素分析)鍛造。

 

 

 

主要特點
■ 單內(nèi)標校正,極大的簡化了定量分析持續創新,無基體影響改善;
■ 對于任何基體的樣品可單獨進行校準和定量分析空白區;
■ 多元素實時分析,可進行痕量和超痕量分析信息化;
■ 不受樣品的類型和不同應用需求影響形勢;
■ 的液體或固體樣品的微量分析,分析所需樣品量腥〉妹黠@成效〖s定管轄;
■ 優(yōu)秀的檢出限水平,元素分析范圍從鈉覆蓋到钚創新的技術;
■ 出色的動態(tài)線性范圍發揮;
■ 無需任何化學前處理,無記憶效應快速增長;
■ 非破壞性分析開放以來,運行成本低廉。


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