Picosun R-200系列原子層沉積體統(tǒng)是一款多種能的原子層沉積平臺，是用于研發(fā)的理想選擇積極參與，適用于IC器件問題分析、MEMS器件、顯示器交流研討、led更加完善、激光、3D物體如鏡片建設應用、光學支撐作用、珠寶信息、硬幣、醫(yī)療植入物等數(shù)十種應用的研發(fā)

產品簡介：

Picosun R-200系列原子層沉積體統(tǒng)是一款多種能的原子層沉積平臺大力發展，是用于研發(fā)的理想選擇豐富內涵，適用于IC器件、MEMS器件產能提升、顯示器適應性、led、激光通過活化、3D物體如鏡片落地生根、光學、珠寶健康發展、硬幣有效保障、醫(yī)療植入物等數(shù)十種應用的研發(fā)。

主要技術參數(shù)：

·適用2-8inch的單片晶圓長效機製；

·工藝溫度：50-500℃講實踐，Advance型號配有等離子處理系統(tǒng)，工藝溫度450℃（可選配特定chuck盤至650℃）奮戰不懈；

·適用鍍膜種類：Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN市場開拓，Pt，Ir等大大縮短；

·手動上料要落實好，可選配機械臂，搬運機器人或Cassette-to-Cassette上料不容忽視；

·前驅體種類：液體組織了，固體，氣體說服力，等離子體搶抓機遇，臭氧體等；