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Lumina AT1薄膜缺陷檢測儀

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Lumina AT1薄膜缺陷檢測儀實現(xiàn)亞納米薄膜涂層相對開放、納米顆粒推進高水平、劃痕脫穎而出、凹坑、凸起生產創效、應(yīng)力點和其他缺陷的全表面掃描和成像結構。實用于透明、硅優化上下、化合物半導(dǎo)體和金屬基底能力建設。在3分鐘內(nèi)掃描并顯示150毫米晶圓∩a體系?梢詷?biāo)刻出缺陷的位置服務,以便進(jìn)一步分析〖夹g節能?扇菁{高達(dá)300 x 300 mm的非圓形和易碎基板指導。能夠通過一次掃描分離透明基板上的頂部/底部特征。

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Lumina AT1薄膜缺陷檢測儀



產(chǎn)品特點

  • 實現(xiàn)亞納米薄膜涂層國際要求、納米顆粒流動性、劃痕、凹坑競爭激烈、凸起持續創新、應(yīng)力點和其他缺陷的全表面掃描和成像。

  • 實用于透明空白區、硅協調機製、化合物半導(dǎo)體和金屬基底。

  • 在3分鐘內(nèi)掃描并顯示150毫米晶圓充分發揮。

  • 可以標(biāo)刻出缺陷的位置高質量,以便進(jìn)一步分析。

  • 可容納高達(dá)300 x 300 mm的非圓形和易碎基板選擇適用。

  • 能夠通過一次掃描分離透明基板上的頂部/底部特征管理。


系統(tǒng)優(yōu)勢的四個檢測通道:

  • 偏光(污漬、薄膜不均勻性) 

  • 坡度(劃痕業務指導、表面形貌)

  • 反射率(內(nèi)應(yīng)力改進措施、條紋)

  • 暗場(顆粒、夾雜物)



AT1應(yīng)用:

1.透明基底上的缺陷



2.單層污漬或薄膜不均勻性

3.化合物半導(dǎo)體的晶體缺陷

在化合物半導(dǎo)體基底和外延生長層上檢測和分類多種類型的晶體缺陷


AT1的多用途:

  • 所有缺陷類型

  • 薄厚基板

  • 透明和不透明基板

  • 電介質(zhì)涂層

  • 金屬涂層

  • 鍵合硅片

  • 開發(fā)和在線生產(chǎn)


AT1規(guī)格參數(shù):



AT1 軟件使用來自多個探測器任意組合的數(shù)據(jù)生成缺陷圖和報告:

  • 地圖和位置

  • 缺陷數(shù)量

  • 彩色編碼缺陷

  • 缺陷尺寸







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