參考價(jià)	面議

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱(chēng) 尖豐科技（香港）有限公司
品牌
型號(hào)
所在地 香港特別行政區(qū)
廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2024/7/8 15:55:57
訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 118

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促銷(xiāo)詳情

促銷(xiāo)時(shí)間：

特價(jià)說(shuō)明：

促銷(xiāo)詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價(jià)促銷(xiāo)

模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化功能，降低對(duì)人的依賴(lài)度；傳統(tǒng)的塑膠模具開(kāi)模后產(chǎn)品與澆口相連解決，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離預期，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開(kāi)模前實踐者，消除后續(xù)工序全方位，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴(lài)聽得進。

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

PMGI負(fù)光刻膠產(chǎn)品名稱(chēng)：光刻膠型號(hào)：PMGI關(guān)鍵詞：MicroChem系列光刻膠PMGILOR負(fù)光刻膠使能高產(chǎn)貢獻，廣泛應(yīng)用于在處理多種數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和無(wú)線(xiàn)芯片到MEMS的金屬剝離

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PMGI 負(fù)光刻膠

產(chǎn)品名稱(chēng)：光刻膠

型號(hào)：PMGI

關(guān)鍵詞：MicroChem系列光刻膠

PMGI & LOR負(fù)光刻膠使能高產(chǎn)更優美，廣泛應(yīng)用于在處理多種數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和無(wú)線(xiàn)芯片到MEMS的金屬剝離。PMGI & LOR負(fù)光刻膠作為雙疊層光刻膠防控，PMGI & LOR在超出單層防腐可以延長(zhǎng)限制剝離處理成效與經驗。這包括非常高的分辨率的金屬化（＜0.25µM），以及非常厚（＞4µm）金屬化堅實基礎。這些的材料可幾乎滿(mǎn)足任何客戶(hù)需要便利性。

材料用途：金屬電梯加工，橋制造行動力，釋放層

材料屬性：

l 覆蓋在成像抗蝕劑不會(huì)混雜

l 在TMAH雙疊層一步發(fā)展提供有力支撐，或KOH開(kāi)發(fā)

l 高熱穩(wěn)定性：Tg ~190 C

l 快速清除和常規(guī)抗剝離干凈

l 0.25µm微米雙層抗蝕成像

l 產(chǎn)量高，可用于很厚（＞3µm）金屬剝離處理

Bi-Layer Lift-Off Process	Lift-Off: An enabling, additive lithographic process.

Step 1. LOR or PMGI is coated	1. Bi-layer resist pattern

Step 2. The imaging resist is coated onto the LOR or PMGI layer.	2. Metal Deposition

Step 3. The imaging resist is exposed.	3. Clean solvent lift-off

Step 4. The wafer is developed.

Step 5. Metal Deposition

Step 6. Lift-Off!