總體描述

為對任意樣品進行高水準的成像和分析而生
蔡司GeminiSEM 系列產品具有出色的探測效率，能夠輕松地實現(xiàn)亞納米分辨成像橋梁作用。無論是在高真空還是在可變壓力模式下長遠所需，更高的表面細節(jié)信息靈敏度讓您在對任意樣品進行成像和分析時都具備更佳的靈活性，為您在材料科學研究讓人糾結、生命科學研究規模、工業(yè)實驗室或是顯微成像平臺中獲取各種類型樣品在微觀世界中清晰、真實的圖像基石之一，提供靈活聯動、可靠的場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術和方案。

技術參數(shù)：

Gemini 1 –成熟的Gemini技術概覽
場發(fā)射掃描電子顯微鏡具有更高的分辨率共同努力，離不開其性能優(yōu)異的電子光學鏡筒行業內卷。蔡司Gemini技術專為對任意樣品進行高分辨成像設計，尤其在低電壓下保持完整和高效的探測系統(tǒng)逐漸完善、出色的分辨率和易用性等特點參與能力。
蔡司Gemini電子光學鏡筒具有以下三個主要特點
蔡司Gemini物鏡的設計結合了靜電場和磁場合理需求，在提高其電子光學性能的同時將它們對樣品的影響降至更低。無漏磁物鏡設計充分發揮，可以對如磁性材料等挑戰(zhàn)的樣品同樣地進行高品質成像高質量；
蔡司Gemini電子束推進器技術，讓電子束經過加速后以高電壓通過鏡筒選擇適用，最終再減速至設定電壓后進入樣品倉管理，很大程度地減小電子束的像差，保證了在非常低的加速電壓下仍可獲得小束斑和高信噪比交流；
蔡司Gemini 鏡筒的設計理念將Inlens二次電子（SE）和背散射電子（BSE）探測器均放置在鏡筒內正光軸上基礎，使兩者均具有更高的信號采集效率且可以同時成像，有效的縮短了獲取圖像的時間還不大，更好地提高工作效率實踐者。
蔡司Gemini技術優(yōu)勢能為您提供以下便利：
經校準后的鏡筒具有長期的穩(wěn)定性，您在日常使用時只需要簡易地設定基本的參數(shù)約定管轄，如加速電壓數據、探針電流等；
無漏磁的物鏡設計發揮，可對包括磁性樣品在內的各類型樣品進行無畸變顯著、高分辨率的成像；
Inlens二次電子探測器具有高效的SE 1信號采集效率開放以來，給您呈現(xiàn)來自樣品極表面的真實形貌圖像占；
鏡筒內能量過濾背散射探測器以其創(chuàng)新的設計理念，使您在低電壓下可獲得高分辨率提供了有力支撐、高襯度激發創作、以及更真實的樣品材料襯度圖像。

特點：

更強的信號進一步意見，更豐富的細節(jié)
GeminiSEM 500 為您呈現(xiàn)任意樣品表面更強的信號和更豐富的細節(jié)信息增幅最大，尤其在低的加速電壓下，在避免樣品損傷的同時快速地獲取更高清晰度的圖像生產能力。
更高的速度與靈敏度標準，更好的成像和分析
GeminiSEM 450更快的響應和更高的表面靈敏度使其能快速、靈活堅持好、可靠地對樣品進行表面成像和分析即將展開，簡便、快速地進行EDS能譜和EBSD等分析問題分析，同時保持出色的空間分辨率培養，充當您的得力助手。
更靈活的成像方式
無論是用戶還是初學者更加完善，GeminiSEM 300將讓您體驗到在更高的分辨率和更佳的襯度下進行極大視野范圍成像的樂趣形式，并且在高真空或是可變壓力模式下都可以實現(xiàn)建設應用。