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擴展非破壞性納米尺度成像的范圍和價值使用蔡司Xradia810UltraX射線顯微鏡實現(xiàn)低至50nm的空間分辨率,這是基于實驗室的X射線成像系統(tǒng)中*高的

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擴展非破壞性納米尺度成像的范圍和價值
使用蔡司Xradia 810 Ultra X射線顯微鏡實現(xiàn)低至50 nm的空間分辨率充分,這是基于實驗室的X射線成像系統(tǒng)中*高的進一步完善。通過非破壞性3D成像體驗的
性能和靈活性,在當(dāng)今的突破性研究中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用競爭力。創(chuàng)新的Xradia Ultra架構(gòu)采用的X射線光學(xué)系統(tǒng)調整推進,采用同步加速器技術(shù),具有吸收
和相位對比C製性梗阻,F(xiàn)在能量為5.4keV機製,您可以將納米級成像的吞吐量提高10倍。使用Xradia 810 Ultra的低能量集成應用,為中低Z樣品實現(xiàn)更好的對比度和圖像
質(zhì)量探討。期望在不同條件下實現(xiàn)的原位和4D能力,以研究結(jié)構(gòu)演變高效流通。利用3D X射線成像擴展材料研究調解製度,生命科學(xué),自然資源和各種工業(yè)應(yīng)用的探
索極限功能。
高分辨率應用的因素之一,更高對比度,更快
蔡司解決方案在實驗室儀器中提供世界上的非破壞性3D X射線成像生產製造,分辨率低至50nm開展試點。除了吸收和Zernike相位對比外,蔡司Xradia 810 Ultra
采用了從同步加速器改進的光學(xué)系統(tǒng)共同,為您的研究提供業(yè)界*佳的分辨率和對比度進一步。這種創(chuàng)新儀器通過為您的傳統(tǒng)成像工作流程添加關(guān)鍵的非破壞
性步驟,實現(xiàn)了突破性研究強大的功能。
通過為5.4 keV的研究提供更高的對比度實際需求,Xradia 810 Ultra可以為各種難以成像的材料提供高分辨率的X射線成像。通過吸收和相襯來優(yōu)化您的成
像優勢,適用于各種材料善謀新篇,如聚合物,氧化物便利性,復(fù)合材料方法,燃料電池,地質(zhì)樣品和生物材料。ZEISS XRM在同步加速器和實驗室設(shè)施中進行
了納米級X射線成像切實把製度,提供了突破性的解決方案保供,幫助您將研究放在研究的*前沿。
通過使納米級X射線成像速度提高一個數(shù)量級進行部署,Xradia 810 Ultra可以優(yōu)化XRM的商業(yè)案例責任,無論您的工作是針對科學(xué)還是工業(yè)。對于顯微鏡
實驗室而言保護好,更快的工作流程轉(zhuǎn)化為允許更多用戶在更短的時間內(nèi)利用儀器的能力組建,從而將XRM擴展到更廣泛的用戶群。同樣特點,您可以快速執(zhí)行和重
復(fù)內(nèi)部結(jié)構(gòu)的4D和原位研究深刻變革,使這些技術(shù)適用于更多應(yīng)用。如果您的應(yīng)用非常有針對性和諧共生,例如用于探索石油和天然氣開采可行性的數(shù)字巖石物理質生產力,
Xradia 810 Ultra可提供可用于在幾小時內(nèi)表征關(guān)鍵參數(shù)(如孔隙度)的測量數(shù)據(jù)。
優(yōu)點
在實驗室中可獲得的*高分辨率-低至50納米的3D X射線成像
非破壞性3D X射線成像允許對同一樣品進行重復(fù)成像技術交流,以便直接觀察微觀結(jié)構(gòu)的演變
吸收和Zernike相位對比成像各種材料-中等到低Z先進的解決方案,碳酸鹽到頁巖,組織到生物力學(xué)-在納米尺度上快10倍
無需研究人員對同步加速器的有限訪問或使同步加速器時間更有效的挑戰(zhàn)在此基礎上,您的實驗室就會產(chǎn)生同步加速器
基于更快的圖像采集時間提高經(jīng)濟效益自然條件,將中心顯微鏡實驗室的范圍擴大到更廣泛的研究人員
可切換的視野范圍為16至65μm共創輝煌,*適合您的成像需求
在原位設(shè)備內(nèi)對樣品進行成像時保持高分辨率
用于斷層攝影重建的自動圖像對準(zhǔn)
在您的實驗室中開發(fā)更高要求,準(zhǔn)備和測試您計劃的同步加速器實驗建立和完善,以提高同步加速器光束時間的有效性
現(xiàn)在,Scout-and-Scan控制系統(tǒng)具有簡單的基于工作流程的用戶界面不同需求,非常適合成像實驗室發展,用戶可以擁有各種各樣的經(jīng)驗水平



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