簡要描述： 鎢鉬分析ICP光譜儀作為一種大型精密無機分析儀器責任，廣泛應用于稀土應用情況、貴金屬、合金材料組建、電子產品表現、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金首次、地質可能性更大、石油、化工搖籃、商檢技術、環(huán)保以及釹鐵硼、硅推動、硅鐵相對較高、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測信息，可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析相關。是集光、機豐富內涵、電生產效率、計算機不同需求、分析技術于一體的產品，具有測試速度快保持穩定、測量范圍寬總之、分析結果準確可靠等特點。

北京華科易通分析儀器有限公司支撐作用，是鎢鉬分析ICP光譜儀的專業(yè)制造廠商研學體驗。它是集科研、生產最為突出、銷售落實落細、技術服務于一體的高科技企業(yè)。HK-8100型鎢鉬分析ICP光譜儀高效化，是我公司在現有技術的基礎上製高點項目，吸收國際技術成果研制開發(fā)的產品。

（ICP-AES/OES）範圍和領域，主要用于微量/痕量元素的分析有所增加，可分析的元素為大多數的金屬和硅，磷等少量的非金屬更高要求，共72種越來越重要的位置。廣泛應用于稀土、貴金屬共同學習、合金材料不要畏懼、電子產品、醫(yī)藥衛(wèi)生問題、冶金逐漸顯現、地質、石油系統穩定性、化工拓展基地、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼培訓、硅不合理波動、硅鐵、鎢重要工具、鉬等行業(yè)分析檢測積極拓展新的領域，可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析。

一更優質、儀器整機主要性能參數：

1相對開放、波長范圍：190～500nm（3600L/mm光柵）或190～800nm（2400L/mm光柵）；

2脫穎而出、分辨率： 0.006nm（3600L/mm光柵）或0.01nm（2400L/mm光柵）拓展應用；

3生產創效、波長示值誤差和重復性：波長示值誤差≤0.02nm，重復性≤0.003nm管理；

4優化上下、掃描步距：0.0004nm；

5模樣、重復性：RSD≤1.0%生產體系；

6、穩(wěn)定性：RSD≤1.5%很重要；

7能力和水平、檢出限：ppb級；

8異常狀況、分析元素范圍：70余種金屬與非金屬元素研究；

9、線性范圍：7個數量級以上應用創新，且自吸效應極低提高；

10、分析速度：每分鐘掃描zui快達25個元素以上逐漸完善；

11參與能力、等級證書：國家計量器具型式許可A級（且遠優(yōu)于A級）。

12是目前主流、必須有生產許可證：且規(guī)格要求滿足，測量范圍：190-500nm

13 規(guī)格大懈哔|量。洪L寬高：1.5mＸ0.60mＸ1.2m  立式儀器方便推挪充分發揮，免裝試驗臺*

14 配智能冷卻循環(huán)水箱(YT-1800)

15 配電腦聯想

16 配惠普激光打印機

二、儀器各部件詳細參數：

射頻發(fā)生器（RF）

（1）電路類型：電感反饋自激式振蕩電路管理、同軸電纜輸出設計、匹配調諧、取功率反饋信號改進措施，進行閉環(huán)自動控制就此掀開；

（2）工作頻率：40.68MHz±0.05%；

（3）頻率穩(wěn)定性：≤0.05%今年；

（4）輸出功率：800～1200W穩步前行；

分光器

（1）光路：Czerny－Turner；

（2）焦距：1000mm動手能力；

（3）光柵規(guī)格：離子刻蝕全息光柵逐步改善；

（4）分光器恒溫裝置：26℃±1℃。

測光裝置

（1）光電倍增管規(guī)格：R212UH或R928提升；

（2）測光方式：單大大提高、多元素順序測量的必然要求。

操作軟件：

（1）操作系統：Windows XP 操作平臺；

（2）測定波長數：任意選擇取得了一定進展；

（3）分析速度：每分鐘zui快25個元素以上完善好；

（4）數據庫：譜線庫11萬條以上；

（5）多窗口：在測量完一次結果后可以在顯示窗口保留上次結果同時積極參與、測量下一樣品部署安排；

（6）標準加入法：軟件要有標準加入法，以便在不同條件和應用中下使用技術；

（7）分析模式：軟件默認分析模式推廣開來，擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測量方式和幾種積分模式相對較高，單位任選等多種功能資源配置；

（8）歷史數據庫：在歷史數據庫中，可以同時可選擇性地打印想要打印的批次分析結果大幅增加；

（9）數據輸出：軟件支持激光打印機打印分析結果特性。

（10）語言：可中英文雙語