1.束流穩(wěn)定，與電子探針相似

蔡司的掃描電鏡配有自動法拉第籠質生產力。它安裝在掃描電鏡的鏡筒內(nèi)適應性強，由氣動控制其進出，用以直接測量電子束流先進的解決方案。鏡筒內(nèi)還含有閉環(huán)反s控制系統(tǒng)拓展，以便對電子束流進行精確控制。其電子束流的穩(wěn)定度優(yōu)于0.2%/h信息，接近電子探針的水平相關。此外，束流穩(wěn)定，能進行能譜分析生產效率，特別是波譜儀的分析工作(如果將來購買的話)產能提升。

 

2.Optibeam透鏡：-----五種觀察模式的電子光學(xué)系統(tǒng)

其掃描電鏡具有電子光學(xué)系統(tǒng)，在電子束對中保持穩定、消像散總之、調(diào)焦等方面特色面向。蔡司掃描電鏡的每個鏡筒均獨立供電所以可提供五種觀察模式：分辨率模式支撐作用、大景深模式、廣角模式建設項目、分析模式最為突出，魚眼模式。分辨率模式有利于高分辨率圖像的觀察相結合；大景深模式有利于非常粗糙樣品和 斜面樣品的觀察高效化；ZEISS束流很大可以到5uA,所以景深度高。廣角模式使得觀察的范圍很大為產業發展，最小放大倍數(shù)僅為五倍範圍和領域；而分析模式用于能譜波譜分析。魚眼模式可同時觀察九樁樣品座的全貌各項要求。

大景深模式

 

3．設(shè)計優(yōu)化無需復(fù)雜附件

ZEISS EVO系列已經(jīng)不需要冷卻系統(tǒng)更高要求，冷卻系統(tǒng)的需求與E-beam的使用率有關(guān),如果利用率低耗散會較大需要冷卻,Zeiss對電子束利用率很高耗散很少4以不需要冷卻.而且本身電子束耗散大的話對Column也是一種損耗,會影響儀器壽命.所以Zeiss可以減少這些對儀器的不必要的損耗.所以也不需要空壓機等附件，使用方便新技術。其他廠家都需要空壓機與冷卻系統(tǒng)共同學習。

 

4．低真空技術(shù)

4低真空二次電子探頭解決了不導(dǎo)電樣品在不做導(dǎo)電處理的情況下在低真空環(huán)境下的二次電子像問題。目前在低真空環(huán)境下普遍使用背散射電子探頭來獲取圖像深入，但是背散射電子信號并不能很真實的反映樣品表面的形貌信息效高，所以能夠直接用二次電子信號成像是低真空二次電子探頭在反映樣4表面形貌信息時優(yōu)勢。

ZEISS具備低真空技術(shù)基礎。ZEISS的低真空技術(shù)可以做到400Pa,超低真空（環(huán)掃）可達3000 Pa性能，對一般的非導(dǎo)體比如陶瓷,塑料,頭發(fā)等可以直接觀察,而且可以對含有水分的生物樣品比如豬腦, 細(xì)胞, 植物, 微生物也可以直接觀察, 但FEI,日本電子和日立的低真空只是到270Pa,對含有水分等動植物樣品都不可以直接做。

5.BeamSleeve技術(shù)

ZeissBeamsleeve（電子束套管）的設(shè),（如下圖）縮小了電子束與樣品的氣體路徑長度（可低到1mm）對外開放，極大的將電子束與樣品室內(nèi)的荷電補償氣體隔離開來技術創新，使得在低加速電壓時，電子槍的虛擬電子源在光軸上的移動距離小宣講手段，避免低電壓下電子束斑在樣品表面上的大范圍離焦重要工具，保證在低電壓和低真空條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時電子束能量沒有缺失和擴散確保能譜分析的準(zhǔn)確配套設備。Beamsleeve（電子束套管）還起到了隔斷樣品室的低真空與Column的高真空保護了Column不受污染,所以ZEISS的EVO系列幾乎不需要去清洗Column更優質，同時因為其儀器的設(shè)計aperture（光闌）很難堵也是十幾年都不需要更換（至今ZEISS大陸的鎢燈絲的用戶還沒有更換過aperture（光闌）的歷史）。

 

6.  X射線分析工作距離：

ZEISS的電鏡能譜儀的分析工作距離可以低到8.5mm 一般能譜儀的分辨率都是用專門的樣品吸附在能譜儀的探頭上(如下圖左側(cè)探頭)測的,實際使用樣品與能譜儀的探頭具有長工作距離,所以實際使用是達不到標(biāo)準(zhǔn)的分辨率, 而ZEISS的做工可以使能譜儀低到8.5m，所以能譜儀可以達到高分辨率. 另一方面因為一般SE的成像如果上千倍工作距離是5-9mm,而8.5也在5-9mm之間所以客戶可以一邊做SE的成像一邊做EDS元素分析,使用非常方便.而其他家的能譜分析距離都是10mm,12mm, 所以在做完SE成像一定要調(diào)整樣品臺等, 而且需要重新聚焦等工作, 而ZEISS不需要調(diào)來調(diào)去,直接SE拍完直接用能譜電腦進行分析,使用非常方便.

 

6.  EBSD的幾何共面：

在EVO儀器中脫穎而出，鏡筒的電子光學(xué)光軸拓展應用，EBSD攝像機，EDS探測器和試樣的傾斜方向均處于同一平面結構。這種幾何上的共面設(shè)計適合于EBSD研究管理，還可同時進行能譜分析。而其他廠家的背散射衍射和能譜只能分開做能力建設。

 

7.  制造工藝

ZEISS的電鏡做工方面非常精密模樣，比如其樣品室是近似于橢圓形的是因為其是由整個物體掏空做成的，所以其抗磁服務，防震很重要，抗躁聲的效果比較好。所以其儀器性能可以做的比較好. 整臺設(shè)備的電器部分只有四塊電路板組成覆蓋，故障率低異常狀況，方便維護。

 

8. 超大樣品室和樣品臺

樣品臺的尺寸是決定其檔次和價格的重要因素高效。蔡司掃描電鏡的樣品室超大應用創新，采用氣囊式減震系統(tǒng)， 接口升級空間大機構，數(shù)量達11個的特性，為以后安裝各種附件提供了方便。樣品臺移動范圍大攜手共進，X共同，Y，Z分別為125mm,125mm,50mm經過。便于多樣品觀察簡單化，同時 升級為用于原位觀察的高溫?zé)崤_電鏡。

 

9明確了方向、數(shù)碼控制裝置

蔡司的馬達樣品臺由于配備數(shù)碼控制裝置系統性，在X、Y和Z改進措施，R,T五軸方向是的馬達臺就此掀開，移動精度為90納米。而其定位精度即可達到2微米今年。當(dāng)結(jié)合能譜儀在大范圍內(nèi)進行特征物的 索并最后判定特征時穩步前行，需要精確的遠程回位，此功 能非常有用動手能力。 

 

10.創(chuàng)新的控制理念：

蔡司的多功能控制鍵盤將電鏡復(fù)雜的操作全部集成到一個多功能鍵盤上逐步改善，可實現(xiàn)電鏡功能的全部調(diào)節(jié)意見征詢，大大提高工作效率。

 

蔡司掃描電鏡EVO主要參數(shù)：

光學(xué)系統(tǒng)

1.1大大提高、光源：鎢燈絲的必然要求。預(yù)對中式燈絲，燈絲具有自動加熱取得了一定進展、自動對中功能完善好。

1.2、聚焦：具有手動及自動聚焦功能積極參與。

1.3d光闌：三級可調(diào)物鏡光闌問題分析。

1.3、加速電壓：200V－30kV技術，10V步進連續(xù)可調(diào)推廣開來。

1.4、圖像電平移：±50μm相對較高。

1.5、放大倍數(shù)：5×~1000,000×信息，連續(xù)可調(diào)相關。

1.6、分辨率：高真空二次電子像＜3.0nm（30kV）豐富內涵；

             低真空背散射電子像＜4.0nm（30kV）生產效率。

1.7、探針電流范圍：0.5 pA~5 μA適應性，連續(xù)可調(diào)節點。

1.8、聚焦工作距離：2mm~145mm落地生根。

1.9成就、電子束氣體路徑長n：＜2mm。

2開展面對面、真空系統(tǒng)

2.1系統、真空泵系統(tǒng)：渦輪分子泵+機械泵，不需要冷卻水進一步提升。

2.2空間廣闊、真空度：真空度：優(yōu)于0.1mPa；

低真空壓力范圍：10Pa~400Pa改革創新。

2.3知識和技能、在低真空條件下，保持8.5的工作距離新模式，并且可以做能譜分析實現。

 

 

3估算、樣品系統(tǒng)

3.1、樣品室內(nèi)部尺寸：φ365mm×275mm的可能性。

3.2  可放置的樣品尺寸：直徑250mm不要畏懼，高度145mm

3.3、允許樣品重量：不小于5kg問題。

3.4逐漸顯現、樣品臺移動方式：五軸馬達驅(qū)動。

3.5系統穩定性、樣品臺移動范圍：X 125mm, Y 125mm, Z 50mm,0°~+90°傾斜拓展基地，360°旋轉(zhuǎn) 。

3.6實力增強、樣品臺移動精度：重復(fù)性<2 μm體系流動性；最小步長90nm；漂移<40nm/6min?/div>