潔凈厭氧高溫氣氛爐
DTN430C/630C/450C/650C
潔凈度100級至關重要、氧濃度低于20ppm的氣氛爐,主要應(yīng)用于固化半導(dǎo)體晶圓等用上了。
工作溫度 360℃和 500℃提升行動、潔凈度 100 級、氧濃度低于20ppm關註,主要應(yīng)用于固化半導(dǎo)體晶圓(光刻膠 PI研究進展、PBO 固化)、玻璃基板烘烤連日來、高精度退火處理等快速融入。
采用耐熱高性能高效過濾器,箱內(nèi)潔凈度始終保持在 100 級系統,可在潔凈的環(huán)境下進(jìn)行高溫烘烤增強。高氣密性的壓力箱構(gòu)造不斷進步,氧濃度到達(dá)時(shí)間短實力增強,N2 消耗量極低明確相關要求。
通過磁密封保持高氣密性,并采用水冷機(jī)構(gòu)保護(hù)密封部件免受熱量影響認為。
可實(shí)現(xiàn)快速升溫和降溫全面協議,升降溫速率可調(diào)節(jié)方案。
標(biāo)準(zhǔn)裝備有廢液回收裝置積極性,對氣體進(jìn)行冷卻回收。
擁有門檢測開關(guān)應用領域、溫度過升防止器保持競爭優勢、氧濃度異常、氮?dú)鈮毫z測發展機遇、氮?dú)饬髁繖z測長效機製、冷卻水流量檢測、漏水傳感器全技術方案、過電流漏電漏電保護(hù)開關(guān)等安裝裝置分享。
