Park NX-Hivac通過(guò)為失效分析工程師提供高真空環(huán)境來(lái)提高測(cè)量敏感度以及原子力顯微鏡測(cè)量的可重復(fù)性解決方案。與一般環(huán)境或干燥N2條件相比趨勢，高真空測(cè)量具有準(zhǔn)確度高有力扭轉、可重復(fù)性好及針尖和樣本損傷低等優(yōu)點(diǎn)上高質量，因此用戶可測(cè)量各種故障分析應(yīng)用中許多信號(hào)響應(yīng)，例如掃描擴(kuò)散電阻顯微術(shù)(SSRM)的摻雜物濃度廣度和深度。Park NX-Hivac使得真空環(huán)境中高精確度和高分辨率測(cè)量的材料科學(xué)研究遠(yuǎn)離氧氣與其它藥劑的影響深入交流，在高真空條件下執(zhí)行掃描擴(kuò)散電阻顯微鏡測(cè)量可減少所需的針尖-樣本相互作用力，從而大幅度降低對(duì)樣本和針尖的損傷加強宣傳。

如此可延長(zhǎng)各針尖的使用壽命臺上與臺下，使掃描更加低成本和便捷，并通過(guò)提高空間分辨率和信噪比得到更為精確的結(jié)果技術發展。因此集聚效應，利用NX-Hivac進(jìn)行的高真空掃描擴(kuò)散電阻顯微術(shù)測(cè)量可謂是故障分析工程師增加其吞吐量、減少成本和提高準(zhǔn)確性的明智選擇重要手段。

基本技術(shù)參數(shù)

主要功能

用于失效分析應(yīng)用的高真空掃描

Park NX-Hivac允許故障分析工程師通過(guò)高真空SSRM提高的靈敏和分辨率像一棵樹。高真空掃描能提供比大氣或干燥的N₂條件下更高的精度過程中，更好的可重復(fù)性，還能減少針尖和樣品損傷 ，用戶從而可以在失效分析應(yīng)用中測(cè)量更廣闊范圍的涂料濃度和信號(hào)強(qiáng)度全面革新，

高級(jí)的自動(dòng)化特征

用戶所需的輸入操作簡(jiǎn)單作用，用戶可以更快地掃描從而提高實(shí)驗(yàn)室的實(shí)驗(yàn)成果。

應(yīng)用

在二維金屬材料電性能方面的研究

C-AFM in Air vs High Vacuum MoS₂

在空氣和真空下MoS₂ 的AFM 圖

相關(guān)文獻(xiàn)

Jonathan Ludwig et al行業分類，”Effects of buried grain boundaries in multilayer MoS2”Journal：Nanotechnology, Volume 30, Number 28.