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SKCC-TFB-X高真空磁控濺射永磁靶頭(條形方靶)

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產(chǎn)品簡介:SKCC-TFB-X高真空磁控濺射永磁靶頭(條形方靶)適用靶材種類較廣作用,如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材相互配合。配裝有環(huán)形永磁體在頭上,以保證濺射鍍膜的效率和均勻性著力增加£P鍵技術?膳cDC或RF電源配合使用。

 

產(chǎn)品型號(hào)

SKCC-TFB-X(高真空條形方靶)

產(chǎn)品規(guī)格

SKCC-TFB-X:

X代表方靶的“長X寬”尺寸深入,例如:

方靶尺寸:300X70(mm)技術研究,則名稱為:SKCC-TFB-300x75

700X90(mm),SKCC-TFB-700x90

1000X120(mm)開展研究,SKCC-TFB-1000x120

方靶尺寸范圍:

長:220-2000姿勢,寬:75-150  單位:mm

其它尺寸可以根據(jù)客戶要求訂制:

主要特點(diǎn)

1、采用電磁場的有元計(jì)算法來設(shè)計(jì)永磁體首要任務,以得到較高的磁場強(qiáng)度和均勻分布綠色化;

2條形方靶采用特殊結(jié)構(gòu)(大型條形方靶經(jīng)過生產(chǎn)線檢驗(yàn))發展,可保證長期工作保持穩定;

4、標(biāo)準(zhǔn)的接頭面向,大型與DC匹配,小型既可以與DC電源匹配也可以RF電源相匹配支撐作用;

5、安裝采用標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭(CF金屬密封或Dg膠圈密封可選);

6最為突出、靶材更換較為簡單落實落細,無需調(diào)整濺射頭的高度。

配套電源

1高效化、直流DC製高點項目;2、射頻RF


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