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SLIA-2000 二氧化硅分析裝置

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二氧化硅分析裝置自動(dòng)連續(xù)監(jiān)測(cè)鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導(dǎo)體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度機構。檢測(cè)速度快,重現(xiàn)性高交流,既可以檢測(cè)低濃度二氧化硅基礎,也可檢測(cè)高濃度二氧化硅,可有效提高鍋爐的啟動(dòng)時(shí)間形勢,強(qiáng)化半導(dǎo)體和化工領(lǐng)域的質(zhì)量管理實踐者。

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二氧化硅分析裝置

自動(dòng)連續(xù)監(jiān)測(cè)鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導(dǎo)體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測(cè)速度快約定管轄,重現(xiàn)性高數據,既可以檢測(cè)低濃度二氧化硅,也可檢測(cè)高濃度二氧化硅發揮,可有效提高哦啊鍋爐的啟動(dòng)時(shí)間顯著,強(qiáng)化半導(dǎo)體和化工領(lǐng)域的質(zhì)量管理。

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自動(dòng)連續(xù)監(jiān)測(cè)鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導(dǎo)體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度激發創作。檢測(cè)速度快,重現(xiàn)性高進一步意見,既可以檢測(cè)低濃度二氧化硅增幅最大,也可檢測(cè)高濃度二氧化硅,可有效提高哦啊鍋爐的啟動(dòng)時(shí)間生產能力,強(qiáng)化半導(dǎo)體和化工領(lǐng)域的質(zhì)量管理標準。

測(cè)量范圍:0~10ug/100ug/L、0~50ug/500ug/L堅持好、0~100ug/1000ug/L即將展開、0~200ug/2000ug/L、0~0.5mg/5mg/L


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