208HR高分辨離子濺射儀
適用于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
208HR高分辨離子濺射儀為場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案研究成果。
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡觀察時(shí)取得了一定進展，樣品需鍍上極其薄大面積、無細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷積累，并提高低密度材料的對(duì)比度培養。為了將細(xì)晶的尺寸減小到小程度，208HR提供了一系列的鍍膜材料建設應用，并對(duì)膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制即將展開。
208HR分子渦輪泵高真空系統(tǒng)提供寬范圍的操作壓力大幅增加，可以對(duì)膜層的均勻性和一致性進(jìn)行精確控制，并減小充電效應(yīng)傳承。高/低樣品室的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使靶材和樣品之間的距離調(diào)節(jié)變得極為方便等特點。
MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm，其作用是對(duì)所鍍薄膜的厚度進(jìn)行精確控制將進一步，它尤其適合場(chǎng)發(fā)射電鏡對(duì)膜厚（0.5－3nm）的要求發展成就。
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡鍍膜*的靶材是：
- Pt/Pd：非導(dǎo)電樣品鍍膜的通用鍍膜材料
- Cr：優(yōu)良的半導(dǎo)體樣品的鍍膜材料
- Ir：優(yōu)良的真正無細(xì)晶的鍍膜材料
208HR系統(tǒng)為得到高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇重要方式，可配備標(biāo)準(zhǔn)的旋片泵或提供干凈真空的無油渦旋式真空泵非常重要，標(biāo)配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶空間廣闊。
一、主要特性
· 可選擇多種鍍膜材料
· 精確的膜厚控制
· 樣品臺(tái)控制靈活：可對(duì)樣品臺(tái)進(jìn)行獨(dú)立的旋轉(zhuǎn)取得顯著成效、行星式轉(zhuǎn)動(dòng)、傾斜控制實現，保證形貌差異大的樣品也能得到的鍍膜效果。
· 多個(gè)樣品座：提供4個(gè)樣品座服務體系，每個(gè)樣品座直徑32mm，可裝載多達(dá)6個(gè)小樣品座逐漸顯現。
· 樣品室?guī)缀慰勺儯?/b> 樣品室?guī)缀斡糜谡{(diào)節(jié)鍍膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）
· 寬范圍的操作壓力：獨(dú)立的功率和壓力調(diào)節(jié)系統穩定性，氬氣的壓力大小范圍為0.2 - 0.005 mbar。
· 緊湊分享、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計(jì)
· 操作容易
二信息化、技術(shù)參數(shù)
| 濺射系統(tǒng) |
| 鍍膜頭 | 低電壓平面磁控管 靶材更換快速 環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩 靶材調(diào)節(jié)遮擋 |
| 靶材 | Cr, Pt/Pd (標(biāo)配)
Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir （選配） |
| 鍍膜控制 | 微處理器控制 安全互鎖 電流控制與真空度無關(guān) 數(shù)字化可選電流（20新型儲能，40，60 和 80mA） |
| 樣品室大小 | 直徑150mm
高度165 - 250mm |
| 樣品臺(tái) | 非重復(fù)的旋轉(zhuǎn)求得平衡、行星式轉(zhuǎn)動(dòng)，并可手動(dòng)傾斜0-90°
轉(zhuǎn)動(dòng)速度可調(diào)
晶體頭
4個(gè)樣品臺(tái) |
| 模擬計(jì)量 | 真空 Atm - .001mb
電流 0-100mA |
| 控制方法 | 自動(dòng)氣體凈化和泄氣功能 自動(dòng)處理排序 帶有“暫停”功能的數(shù)字計(jì)時(shí)器 自動(dòng)放氣 |
| 膜厚控制 | MTM-20高分辨膜厚控制儀 |
| 真空系統(tǒng) |
| 結(jié)構(gòu) | 分子渦輪牽引泵和旋葉泵組合， 代替旋葉泵的無油渦旋式真空泵（選配） |
| 抽真空速度 | 0.1mb 下300 l/min |
| 抽真空時(shí)間 | 1 mbar 至 1 x 10-3mbar |
| 極限真空 | 1 x 10-5mbar |
| 桌上型系統(tǒng) | 旋葉泵置于抗震臺(tái)上的發生，全金屬真空耦合系統(tǒng) |
| 膜厚測(cè)控儀 |
| MTM-20 | 基于微處理器，4位數(shù)字顯示的過程中，復(fù)位按鈕廣泛認同， 6MHz晶體（具有壽命檢查功能）國際要求，5次/s的更新速率 |
| 膜厚范圍 | 0.0 - 999.9nm |
| 分辨率 | 優(yōu)于 0.1nm |
| 密度范圍 | 0.50 - 30.00gm/cm3 |
| 修正系數(shù)范圍 | 0.25 - 8.00 |
| 鍍膜終止范圍 | 膜厚0 - 999.9nm |
| 系統(tǒng)要求 |
| 電氣 | 100-120 或 200-240VAC, 50/60Hz |
| 功率 | 550VA（大） |
| 氬氣 | 小純度99.995%
調(diào)節(jié)壓力 5 - 6 psi (0.4 bar)
6.0mm ID連接軟管 |
銅網(wǎng)鍍碳制成負(fù)染色蛋白質(zhì)樣品案例
