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高解析度FEB測量裝置CS4800(CD-SEM)

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適用于對應4等特點、6建言直達、8英寸晶圓的測量SEM搭載日技術的CD-SEM CS4800兼容4、6將進一步、8英寸晶圓的CD測量充分發揮,提供高解析度的SEM成像,更高的測量精度和快速自動化操作成就,將有助于提高客戶現有生產線的生產力能力建設。此外用戶可以通過簡單的操作處理自動搬送兩種不同尺寸的晶圓。 日立計劃支持對應碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)等各種材料的晶圓研究進展,以滿足客戶對半導體電子器件生產的多樣化需求無障礙。

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高解析度FEB測量裝置CS4800(CD-SEM)

適用于對應4、6快速融入、8英寸晶圓的測量SEM

搭載日技術的CD-SEM CS4800兼容4認為、6、8英寸晶圓的CD測量增強,提供高解析度的SEM成像重要意義,更高的測量精度和快速自動化操作,將有助于提高客戶現有生產線的生產力更加廣闊。此外用戶可以通過簡單的操作處理自動搬送兩種不同尺寸的晶圓規劃。 日立計劃支持對應碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)等各種材料的晶圓,以滿足客戶對半導體電子器件生產的多樣化需求。

  • 特長

  • 規(guī)格

特長

  • 考慮了更換現有設備或共同使用情況下的設備占地面積和GUI*1
  • 通過設備的研發(fā)經驗基礎上,搭載了高精度測量技術和的計量應用各領域。
  • 通過光學軸自動化調整,減少了由于操作員熟練度而造成的測量偏差保持競爭優勢。
  • 更高的圖像處理技術進行培訓,實現Recipe自動測量并提高產能。
  • 新的晶圓搬送系統(tǒng)兼容4,6,8英寸多尺寸晶圓長效機製。
*1
GUI (Graphic User Interface):使用計算機的圖形顯示器和鼠標等指示設備的軟件操作系統(tǒng)法治力量。

規(guī)格

規(guī)格
測量精度1nm(3σ)(采用日立標準晶圓)
晶圓尺寸直徑 100mm, 150mm, 200mm
自動裝片裝置2個
設備尺寸(主體)1180(寬)× 2500(長)× 1990(高)毫米


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