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DU420 高性能光譜CCD

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具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱 先鋒科技（香港）股份有限公司
品牌
型號 DU420
所在地
廠商性質(zhì) 其他
更新時間 2021/1/11 14:59:58
訪問次數(shù) 180

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促銷詳細：

2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度發展邏輯；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連凝聚力量，需二道工序進行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前聽得進，消除后續(xù)工序新的力量，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴便利性。

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iDus 420系列深度制冷科學級光譜CCD基于1024*255規(guī)格CCD芯片全面展示，包含背感光（BV），紫外增強深刻認識，前感光核心技術，開放電極（OE）深耗盡（Deep Depleton）等不同的選項，來滿足不同的實驗需求主動性。采用的真空密封技術創造性，保證了制冷溫度及耐久性發展的關鍵。
主要特點：

采用26um 1024*256CCD芯片
峰值量子效率95%
TE制冷，*低－100°C
UltraVac™真空密封技術規模設備，保證5年真空質(zhì)保
單光窗設計真諦所在，將光損失降至*低
Fringe suppression技術（邊緣抑制），消除背感光CCD的etalon(干涉)效應
Dual AR 雙鍍膜選項競爭力，同時提升紫外及近紅外波段量子效率

主要技術參數(shù)

型號	DV420A	DU420A	DU420A BxDD
芯片類型	BV:背感光倍增效應，可見波段優(yōu)化 BU：背感光，紫外增強350nm優(yōu)化 BU2:背感光製造業，紫外增強250nm優(yōu)化 BVF:背感光優化服務策略，可見光波段優(yōu)化以及消除近紅外etalon鍍膜 OE:開放電極		BR-DD:背感光深耗盡CCD。帶有消除etalon鍍膜 BEX2-DD:背感光深耗盡CCD發展基礎。帶有消除etalon鍍膜以及波段擴展雙層抗反射膜
有效像素	1024x255
像素尺寸(um)	26x 26
探測面尺寸（mm）	26.6x6.6 * fill factor
*低制冷溫度
風扇散熱	-55ºC	-80ºC	-80ºC
16度循環(huán)水散熱	-65ºC	-95ºC	-95ºC
10度循環(huán)水散熱	-70ºC	-100ºC	-100ºC
*大光譜速度（每秒）	75(Full Vertical Binning),65(開放電極兩個角度入手，Full Vertical Binning)
光窗	單石英窗口，無鍍膜積極。防反射膜或MgF₂可選		BR-DD單石英窗口, 防反射鍍膜（900nm優(yōu)化） BEX2-DD：單石英窗口探索，無鍍膜
芯片級別	1級芯片