光電流成像系統(tǒng)
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- 公司名稱 上海連艦光電科技有限公司
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- 型號
- 所在地
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時間 2021/1/6 16:17:16
- 訪問次數(shù) 603
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光電流成像系統(tǒng)Photocurrent Mapping System 又稱為掃描光電流顯微成像系統(tǒng)組合運用,用來檢測材料光電流強度分布的設(shè)備,主要用來測量光電材料的光電響應(yīng)信號和表征材料的光電特征迎難而上。 說明:光電流成像系統(tǒng)Photocurrent Mapping system 利用了顯微成像掃描技術(shù)積極,對樣品表面做一個快速掃描。產(chǎn)生的光電流信號通過探針引到電流源表進一步完善,再顯示在軟件界面集聚,做成成像圖顯示樣品表面電流分布。 光
光電流成像光譜系統(tǒng)
用于材料表面光電流分布特性的激光共聚焦光電流成像光譜系統(tǒng)調整推進,帶低溫探針臺狀況。
光電流成像系統(tǒng)Photocurrent Mapping system 利用了顯微成像掃描技術(shù),對樣品表面做一個快速掃描機製。產(chǎn)生的光電流信號通過探針引到電流源表全過程,再顯示在軟件界面,做成成像圖顯示樣品表面電流分布探討。
光電流成像系統(tǒng)Photocurrent Mapping System 又稱為掃描光電流顯微成像系統(tǒng)不負眾望,用來檢測材料光電流強度分布的設(shè)備,主要用來測量光電材料的光電響應(yīng)信號和表征材料的光電特征明確相關要求。
Photocurrent Mapping system 光電流成像系統(tǒng)將光電材料對于光信號響應(yīng)的不均勻性以可視化和量化的方式顯示出來重要意義。該系統(tǒng)可以研究光電探測器的量子效率,器件的電阻分布特征深化涉外,研究太陽能電池光生電流的不均勻性體系,研究器件吸收和電荷生成的微區(qū)特性,以及光電材料界面開展試點,半導(dǎo)體結(jié)區(qū)的品質(zhì)分布等攜手共進。
產(chǎn)品特點:
超快掃描成像(大于1000譜/S)
超緊湊結(jié)構(gòu)(光電流掃描成像和顯微鏡一體式設(shè)計)
成本低(客戶僅需要在原來的探針臺或者拉曼設(shè)備上做改造就可以,不需要額外購買平移臺推進一步,這是振鏡掃描的優(yōu)勢所在)
可視化和人性化軟件(定制研發(fā)了電流源表輸出和成像掃描視覺窗口經過,客戶在一個界面實現(xiàn)光電流數(shù)據(jù)和成像mapping的對比比較方便)
可擴展增加其它波長的激光器,增加拉曼光譜力度,熒光光譜成像系統(tǒng)等
可增加高低溫恒溫器明確了方向,鎖相放大器,斬波器等
關(guān)鍵參數(shù):
激光器(光源) ?
l可配置1~3個激光器勇探新路,窄線寬激光器用于拉曼光譜測試和光電流測試
l波長范圍: 400~1550nm (典型的為 VIS: 405nm/532nm/633nm, NIR :1550nm)
l可選配一個光纖接口用于接入外部激光器光源
l可選配超連續(xù)譜白光激光器(400nm~2400nm)
顯微鏡
l奧林巴斯顯微鏡:BX61 (正置)(可根據(jù)客戶要求選配)
l反射式/透射式LED照明
l物鏡:標配(40X增產, NA=0.75) 選配:多種倍率和超長焦距物鏡
l透過率:>60% (360nm~1000nm)
掃描模塊 ?
l掃描面積:200um×200um
l掃描精度: 小于10nm
l步進:<50nm
l掃描速度:>1000 譜/秒
電流 ?
l測量范圍:1pA – 1A
l準確度: 0.04%
l電流源表:Keithley 2400
探針臺 ?
l可根據(jù)客戶要求定制
其它 ?
l低溫恒溫器(2.2K)/高溫?zé)崤_(1500℃)
l根據(jù)客戶要求定制探針臺
l可選配斬波器,前置放大器,鎖相放大器等提高系統(tǒng)靈敏度
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