納米高速均質(zhì)機(jī)，現(xiàn)代工業(yè)要求越來越高逐步改善，納米材料的應(yīng)用越來越廣泛意見征詢，傳統(tǒng)的均質(zhì)設(shè)備很多已經(jīng)不能適應(yīng)現(xiàn)代工業(yè)的更高要求，例如均質(zhì)設(shè)備大大提高，由于納米材料強(qiáng)大的改性能力等多個領域，由于納米微粒的小尺寸效應(yīng)、表面效應(yīng)產品和服務、量子尺寸效應(yīng)和宏觀量子隧道效應(yīng)等使得它們在磁應用擴展、光、電前景、敏感等方面呈現(xiàn)常規(guī)材料不具備的特性進一步意見。因此納米微粒在磁性材料增幅最大、電子材料共享應用、光學(xué)材料、高致密度材料的燒結(jié)標準、催化示範推廣、傳感、陶瓷增韌等方面有廣闊的應(yīng)用前景.

納米高速均質(zhì)機(jī) 徐工：1-8-2-0-1-8-9-1-1-8-3

影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點

1 乳化頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 乳化頭的剪切速率 （越大即將展開，效果越好）
3 乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒大幅增加，中齒，細(xì)齒傳承，超細(xì)齒等特點，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機(jī)多種，流量越小將進一步，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好發展成就，到設(shè)備的期限成就，就不能再好）

線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) =   v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知開展面對面，剪切速率取決于以下因素：
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距系統。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司突破傳統(tǒng)的加工工藝,是我們的乳化機(jī)的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000轉(zhuǎn),根據(jù)一些行業(yè)特殊要求非常重要，依肯公司在ERS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERX2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過20000 rpm空間廣闊，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s營造一處。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級知識和技能。
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IKN納米均質(zhì)機(jī)同其他均質(zhì)機(jī)的比較和區(qū)別：轉(zhuǎn)速和剪切力：
國內(nèi)均質(zhì)機(jī)資源優勢，3000/4700 RPM 直聯(lián)電機(jī)的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/S      V=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1         F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN納米均質(zhì)機(jī)，9000/14000RPM 通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/S    V=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000 S-1          F=40/0.2/X1000=200000 S-1
這是乳化和均質(zhì)的重要因素特征更加明顯，相當(dāng)于后者是前者的4-5倍.
產(chǎn)品效果：
國內(nèi)均質(zhì)機(jī)不斷完善，粒徑細(xì)度有限，10微米以下較困難方便，重復(fù)性差基礎上，產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN納米均質(zhì)機(jī)，可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工應用領域，粒徑分布均勻保持競爭優勢，納米級分散乳化
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