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德國海德堡激光直寫系統(tǒng)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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海德堡公司(HeidelbergInstruments簡稱HIMT)坐落于德國海德堡市,HIMT成立于1984年更高效,主要生產(chǎn)大小型高精密德國海德堡激光直寫系統(tǒng)不僅可光繪掩膜板上(photomask)全面協議,也可以直接光繪在各種基片上(芯片、石英玻璃影響、陶瓷基板等)新的動力。同時設(shè)備本身具有高精密測量功能。目前已超過200多臺設(shè)備在*安裝使用穩定性,設(shè)備*大加工面積達(dá)70"X90"詢問及索取技術(shù)資料像一棵樹!

詳細(xì)信息 在線詢價

德國海德堡激光直寫系統(tǒng)-DWL66激光直寫光繪系統(tǒng),是海德堡公司考慮到客戶低成本投入去突破,及增加與客戶互動關(guān)系理念下所設(shè)計的機(jī)臺能運用,雖價格不高,但他仍然維持了高精密的光繪品質(zhì)智能設備,在微影技術(shù)與光學(xué)領(lǐng)域的研究發(fā)展上都獲得了客戶相當(dāng)?shù)臐M意口碑不可缺少。同時重接單到持續(xù)增加中,更證明了DWL66系統(tǒng)的設(shè)計開發(fā)理念特點,用*小的花費提升*高的附加價值積極回應。

技術(shù)參數(shù):

加工零件尺寸:150X150mm

圖頭焦距 Write Lens

2mm

4 mm

10 mm

20 mm

40 mm

*小線寬或間距 Minimum Feature

0.6um

1µm

2.5 µm

5 µm

10 µm

書寫格網(wǎng) Write Grid

20nm

40 nm

100 nm

200 nm

400 nm

CD均勻度 CD Uniformity

80nm

100 nm

220 nm

440 nm

880 nm

線寬均勻度 Line width Uniformity

100 nm

200 nm

400 nm

600 nm

1000 nm

線邊粗糙度 Edge Roughness

60 nm

80 nm

120 nm

180 nm

280 nm

對準(zhǔn)精度 Alignment Accuracy

200 nm

250 nm

500 nm

1 µm

2 µm

定位精度 Position Accuracy

0.4 um

0.6 µm

1 µm

1.5 µm

2 µm

讀寫時間 Writing time ( 80x80 mm)

70 hour

19 hour

3 hour

0.9 hour

0.3 hour


Applications
應(yīng)用范圍
該激光圖形發(fā)生系統(tǒng)用于涂有光刻膠的各種基片,玻璃又進了一步,硅片多種場景,或其他平面材料。
RETICLE(分劃板)規劃,ASICS(晶片)擴大公共數據,MEMS(微機(jī)電系統(tǒng)),SENSOR
(傳感器)帶動擴大,
REFRACTIVE OR DIFFRACTIVE OPTICS(折射及衍射光學(xué)), MOEMS(微光機(jī)電
),
MCMS, HYBRIDS, INTEGRETED OPTICS(集成光學(xué)), µTAS核心技術體系,SAW ect.


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