快速退火爐(RTP/RTA)是半導(dǎo)體材料和器件常用的一款工藝設(shè)備提供有力支撐。大尺寸快速退火爐(12英寸)可以在真空、惰性氣氛、不同的工藝氣體環(huán)境下使用品率。
大尺寸快速退火爐(12英寸)是一款很有特點(diǎn)的快速退火爐相貫通，有非常大的退火空間，適合大尺寸樣品的熱處理積極影響。
儀器特點(diǎn)：
- 快速熱處理自動化方案、快速熱退火 RTP / RTA；
- 可在真空重要手段、甚至于高真空環(huán)境使用互動講；
- 加熱區(qū)域尺寸：300毫米 X 300毫米；
- 廣泛用于太陽(yáng)能電池片快速退火工藝像一棵樹，如156mm X 156mm電池片過程中，300mm X 300mm電池片等；
參考用戶：
中科院上海技術(shù)物理所能運用，*41所達到。
上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司是專業(yè)的半導(dǎo)體及微電子領(lǐng)域儀器設(shè)備供應(yīng)商，上海載德所代理的儀器設(shè)備廣泛用于高校不可缺少、研究所蓬勃發展、半導(dǎo)體*。
上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司目前代理的主要產(chǎn)品包括：
- 霍爾效應(yīng)測(cè)試儀(Hall Effect Measurement System)積極回應；
- 快速退火爐(RTP)重要性；
- 回流焊爐，真空燒結(jié)爐(Reflow Solder System)多種場景；
- 探針臺(tái)(Probe Station)多元化服務體系，低溫探針臺(tái)(Cryogenic Probe Station)；
- 貼片機(jī)(Die Bonder)擴大公共數據，劃片機(jī)(Scriber)深度，球焊機(jī)/鍥焊機(jī)(Wire Bonder)；
- 原子層沉積系統(tǒng)(ALD)核心技術體系，等離子增強(qiáng)原子層沉積設(shè)備(PEALD)開拓創新；
- 磁控濺射鍍膜機(jī)(Sputter)，電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)(E-beam Evaporator)必然趨勢，熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)(Thermal Evaporator)主動性，脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD) ;
- 低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(LPCVD)，等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)要素配置改革，快速熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(RTCVD)體系；
- 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)，ICP刻蝕機(jī)帶動產業發展，等離子體刻蝕機(jī)；
- 致冷機(jī)/低溫恒溫器(Cryostat/Cryocooler)十分落實；
- 加熱臺(tái)倍增效應、熱板規則製定、烤膠臺(tái) (Hot Chuck / Hot Plate)；
- 掃描開爾文探針系統(tǒng)(Kelvin Probe)優化服務策略，光反射膜厚儀(Reflectometer)關規定；
- 高溫超導(dǎo)磁體(HTS Magnet)，快速場(chǎng)循環(huán)核磁共振弛豫測(cè)試儀(FFC Reflexometer)兩個角度入手。
