納米壓印技術(shù)突破了傳統(tǒng)光刻在特征尺寸減小過程中的難題探索，具有分辨率高堅持先行、低成本、高產(chǎn)率的特點競爭力。自1995年提出以來調整推進，納米壓印已經(jīng)經(jīng)過了14年的發(fā)展，演變出了多種壓印技術(shù)機製性梗阻，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造機製、mems、生物芯片集成應用、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域探討，被譽為改變?nèi)祟惖募夹g(shù)之一。
NIL壓印機的基本思想是通過模版高效流通，將圖形轉(zhuǎn)移到相應(yīng)的襯底上調解製度，轉(zhuǎn)移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜，通過熱壓或者輻照等方法使其結(jié)構(gòu)硬化從而保留下轉(zhuǎn)移的圖形功能。整個過程包括壓印和圖形轉(zhuǎn)移兩個過程應用的因素之一。根據(jù)壓印方法的不同，NIL主要可分為熱塑（Hot embossing）預期、紫外固化UV和微接觸（Micro contact printing敢於監督， uCP）三種光刻技術(shù)。

二結構、 功能

l 主要功能

納米壓印機的主要功能是將圖形轉(zhuǎn)移到相應(yīng)的襯底上重要的作用，轉(zhuǎn)移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜，通過熱壓或者輻照等方法使其結(jié)構(gòu)硬化從而保留下轉(zhuǎn)移的圖形規模最大。壓印技術(shù)主要分為以下兩種：

熱壓：首先在襯底上涂上一層薄層熱塑形高分子材料（如PMMA）穩中求進。升溫并達到此熱塑性材料的玻璃化溫度Tg（Glass transistion temperature）之上。熱塑性材料在高彈態(tài)下系統性，將具有納米尺度的模具壓在上面勇探新路，并施加適當?shù)膲毫Γ瑹崴苄圆牧蠒畛淠＞咧械目涨粋鬟f，模壓過程結(jié)束后試驗，溫度降低使熱塑性材料固化，從而得到與模具的重合的圖形。隨后移去模具切實把製度，并進行各相異性刻蝕去除殘留的聚合物。接下來進行圖形轉(zhuǎn)移自行開發。圖形轉(zhuǎn)移可以采用刻蝕或者剝離的方法進行部署。刻蝕技術(shù)以熱塑性材料為掩膜應用情況，對其下面的襯底進行各向異性刻蝕保護好，從而得到相應(yīng)的圖形。剝離工藝先在表面鍍一層金屬表現，然后用有機溶劑溶解掉聚合物特點，隨之熱塑性材料上的金屬也將被剝離，從而在襯底上有金屬作為掩膜結論，隨后再進行刻蝕得到圖形和諧共生。

紫外壓印：為了改善熱壓印中熱變形的缺點適應性強，特克薩斯大學(xué)的C. G. willson和S. v. Sreenivasan開發(fā)出步進-閃光壓蛹夹g交流。⊿tep- Flash Imprint Lithography），這種工藝中采用對紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（軟模）拓展，光阻膠采用低粘度創造更多，光固化的單體溶液。先將低粘度的單體溶液滴在要壓印的襯底上不斷進步，結(jié)合微電子工藝工藝技術，薄膜的淀積可以采用旋膠覆蓋的方法，用很低的壓力將模版壓到晶圓上規模，使液態(tài)分散開并填充模版中的空腔近年來。透過模具的紫外曝光促使壓印區(qū)域的聚合物發(fā)生聚合和固化成型。后刻蝕殘留層和進行圖形轉(zhuǎn)移非常完善，得到高深寬比的結(jié)構(gòu)性能穩定。后的脫模和圖形轉(zhuǎn)移過程同熱壓工藝類似。

l 技術(shù)特點

★主機包含：真空系統(tǒng)支撐作用，溫度控制系統(tǒng)研學體驗，壓力控制系統(tǒng)，水冷系統(tǒng)最為突出，PLC 控

制系統(tǒng)落實落細，軟件操作界面，紫外光源高效化，單面電磁加熱系統(tǒng)

設(shè)備大壓印尺寸：6 英寸製高點項目。

設(shè)備可以實現(xiàn)熱壓印、紫外曝光壓印

★大壓力：8bar（空壓機），20bar（外接超凈室氣源）

溫度范圍：從室溫到 250 攝氏度有所增加。

紫外光源類型：高壓汞燈：功率：400W各項要求，主波長：365nm。

★設(shè)備真空度：10 帕越來越重要的位置。

★設(shè)備隨機可以根據(jù)科研需求提供全系列的納米壓印膠新技術，包括：

熱壓膠、紫外光固化膠

深刻蝕型壓印膠順滑地配合、舉離型（Lift-Off）壓印膠

快速模板制作材料深入、各類模板防沾劑、襯底增粘劑等

★隨設(shè)備隨機可以根據(jù)科研需求提供定制納米壓印模板前沿技術，包括：周期 400nm的 4英寸點陣模板鎳模板 SFP® & Hybrid Mold®軟模板

支持 20nm 分辨率及曲面壓印基礎，并提供文獻工藝支持，

★支持自動脫模多種方式，電磁加熱功能

國內(nèi)外大于 10 個客戶

★工藝包括：

納米壓印膠旋涂工藝支持

納米壓印模板防粘工藝支持對外開放，避免脫模粘膠影響

納米壓印機參數(shù)調(diào)節(jié)

軟模板工藝，包括 PDMS 模板邁出了重要的一步、SFP 以及 Hybrid Mold 工藝

ICP 刻蝕工藝

柔性聚合物襯底壓印工藝有序推進，Nickel Template 金屬鎳模板熱壓 PET、PMMA 等

舉離（Lift-off）工藝支持需求，加工金屬結(jié)構(gòu)

納米壓印表征技術(shù)

更新壓印工藝研發(fā)指導(dǎo)堅定不移，文獻支持

l 技術(shù)能力

該設(shè)備的發(fā)明人2001年至 2003 年，在納米壓印技術(shù)發(fā)明人更讓我明白了、 美國普林斯頓大學(xué) StephenY.Chou 教授的納米結(jié)構(gòu)實驗室作為研究助理進行了為期 3 年的研究工作迎難而上，發(fā)展了紫外光固化納米壓印工藝與材料，對納米壓印技術(shù)的發(fā)展做出了重要的貢獻探索。2004 年加入材料科學(xué)與工程系后繼續(xù)圍繞納米微加工技術(shù)與納米壓印技術(shù)開展研究工作生產創效，研發(fā)了數(shù)種新型納米壓印材料，發(fā)展了新型高分子壓印模板管理，提出了曲面納 米壓印技術(shù)優化上下；利用 863 課題“紫外光固化和熱壓兩用納米壓印設(shè)備的研制與應(yīng)用”項目的支持，研制成功具有紫外光固化和熱壓功能兩用納米壓印設(shè)備模樣，現(xiàn)已成為產(chǎn)品生產體系，并被南京大學(xué)、北京航空航天大學(xué)很重要、國防科技大學(xué)能力和水平、黑龍江大學(xué)、中科院深圳研究院等多家高校和科研機構(gòu)所采用異常狀況，形成了具有自主知識產(chǎn)權(quán)的納米壓印核心技術(shù)研究，申請和獲得了多項中國與美國高效，技術(shù)水準與當前該水平同步。