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HEM

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簡(jiǎn)介:典型應(yīng)用掃描電子顯微鏡SEM場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡FEM半導(dǎo)體分析開放以來,加工和修理離子束刻蝕聚焦離子束光刻紋波2ppm

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001.jpg


TYPICAL APPLICATIONS
Transmission scanning electron microscopy
Scanning electron microscopy
Semiconductor analysis, milling and repair
Ion beam etching
Focused ion-beam lithography

紋波2ppm

  威思曼高壓電源的HEM系列是綜合的多輸出高電壓電源,于聚焦離子束高質量。典型的應(yīng)用包括透射和掃描電子顯微鏡提供了有力支撐;半導(dǎo)體分析,銑削和修復(fù)光盤驅(qū)動(dòng)器頭前景,離子進一步意見;束刻蝕和聚焦離子束光刻。模塊化設(shè)計(jì)方法共享應用,允許個(gè)別組件可以很容易地配置在一個(gè)共同的機(jī)架大底盤安裝裝配生產能力。接口,邏輯和控制電路是采用表面貼裝技術(shù)示範推廣,盡量減少成本和尺寸堅持好。集成加速電源、燈絲電源大幅增加,吸取極電源特性,抑制極電源和鏡頭電源。超低輸出紋波等特點,的調(diào)整率建言直達、穩(wěn)定性、溫漂將進一步、精度充分發揮。高電壓懸浮、數(shù)字化控制技術(shù)成就。HEM系列高精度模塊價(jià)格有競(jìng)爭(zhēng)力重要方式,是OEM應(yīng)用的理想選擇。


技術(shù)參數(shù):

輸入:DC24V, 47到63Hz

加速極電源
輸出電壓:0到-35KV
輸出電流:450μA
紋波:70 mV P-P效高性,從0.1 Hz到1MHZ
線路調(diào)整率:輸入變化+ / -10%為100mV
負(fù)載調(diào)整率:± 0.01%,電壓,滿負(fù)荷變化
穩(wěn)定度:預(yù)熱2小時(shí)候后模式,1.5V/10小時(shí)
溫度系數(shù):25 PPM / °C

燈絲電源
輸出電壓:0至5 VDC
輸出電流:0到5 A
紋波:10mA P-P,從0.1 Hz到1MHZ
線路調(diào)整率:+ / -10%變化為5mA
負(fù)載調(diào)整率:± 0.1%,電壓,滿負(fù)荷變化
穩(wěn)定性:預(yù)熱2小時(shí)后5mA/10分鐘
溫度系數(shù):200 PPM / °C

抑制極電源
輸出電壓:-10v 到- 2kv
輸出電流:300uA
紋波:20 mV P-P,從0.1 Hz到1MHZ
線路調(diào)整率:輸入+ / -10%變化為100mV
負(fù)載調(diào)整率:± 0.01%互動互補,電壓發揮重要帶動作用,滿負(fù)荷變化
穩(wěn)定性:預(yù)熱2小時(shí)后,500mV/10小時(shí)
溫度系數(shù):25 PPM / °C

吸取極電源
輸出電壓:0到-15KV
輸出電流:400μA
紋波:30 mV P-P意料之外,從0.1 Hz到1 MHZ,30μA以下
線路調(diào)整率:輸入+ / -10%的變化為100mV
負(fù)載調(diào)整率:± 0.01%,電壓,滿負(fù)荷變化
穩(wěn)定性:預(yù)熱2小時(shí)后文化價值,500mV/10小時(shí)
溫度系數(shù):25 PPM / °C


威思曼高壓電源有限公司是直流高壓電源和一體化X射線源供應(yīng)商,同時(shí)提供標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品和定制設(shè)計(jì)服務(wù)。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于醫(yī)療,工業(yè),半導(dǎo)體,安全,分析儀器不斷完善,實(shí)驗(yàn)室以及海底光纖等設(shè)備數字化。



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