產(chǎn)品型號

GSL-450-PLD（Pulsed Laser Deposition）

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃必然趨勢，濕度55%Rh±10%Rh下使用促進善治。

1、水：設備配有自循環(huán)冷卻水機多樣性，水溫小于25℃發揮效力，水壓0.25-0.4Mpa，流量高于12 l/min（加注純凈水或者去離子水）明顯；

2安全鏈、電：AC380V 50Hz，功率大于10KW技術創新，波動范圍：小于±6％，必須有良好接地（對地電阻小于2Ω）重要作用；

3持續向好、氣：設備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣（純度99.99%以上），需自備氮/氬氣氣瓶（自帶Ø10mm雙卡套接頭）及減壓閥

4充足、場地面積：設備尺寸2000mm×2000mm進展情況，承重1000kg以上

5、通風裝置：需要（外排廢氣管道）綠色化發展。

主要特點

1至關重要、由于激光光子能量很高，可濺射制備很多困難的鍍層：如高溫超導薄膜用上了，陶瓷氧化物提升行動、氮化物薄膜，多層金屬薄膜等關註；

2研究進展、體積小創新內容，操作簡便可以非常容易的連續(xù)融化多個材料，實現(xiàn)多層膜制備廣泛關註；

3善於監督、可以通過控制激光能量和脈沖數(shù)，精密的控制膜厚就能壓製；

4更合理、易獲得期望化學計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性更優美；

5各方面、沉積速率高，試驗周期短合作關系，襯底溫度要求低著力提升，制備的薄膜均勻；

6傳遞、工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié)融合，對靶材的種類沒有限制。

技術(shù)參數(shù)

1相關性、極限真空度：≤6.67x10^-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后)完成的事情；

2、系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10^-7 Pa.l/S穩定；

3改造層面、系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣優勢與挑戰，20分鐘可達到5x10^-3 Pa經驗分享。

基片參數(shù)

1、基片尺寸：可放置φ2″基片（帶擋板）趨勢；

2有力扭轉、基片加熱溫度 800℃±1℃，由熱電偶閉環(huán)反饋控制一站式服務，采用抗氧化材料作加熱器廣度和深度；

3、基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)引領作用，轉(zhuǎn)速5～60轉(zhuǎn)/分加強宣傳，電機驅(qū)動磁耦合機構(gòu)控制；

4用的舒心、基片與靶臺之間距離30～90mm可調(diào)在此基礎上。

轉(zhuǎn)靶參數(shù)

1、每次可以裝四塊靶材前來體驗，靶材尺寸：φ1″或φ2″提供有力支撐；
2應用、每塊靶材可實現(xiàn)自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5～60轉(zhuǎn)/分品率，連續(xù)可調(diào) 相貫通；
3、靶通過電機控制換位積極影響，靶材屏蔽罩將4塊靶材屏蔽自動化方案，每次只有一個靶材露出濺射成膜，以避免靶材之間的交叉污染越來越重要。

真空腔體

1線上線下、球型真空室尺寸Ф450mm，選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造醒悟，氬弧焊接數據顯示，表面進行特殊工藝拋光處理，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封也逐步提升；

2記得牢、真空腔體帶RF150活開門，方便取重要的作用、放樣品更多可能性；

3、RF100法蘭2套（1套紫外石英玻璃窗口用于激光器足夠的實力，另1套盲板紅外石英玻璃窗口用于測溫可選配）緊迫性；

4、RF100光學玻璃窗口1套（用于觀察）更適合。

產(chǎn)品規(guī)格

整機尺寸：1800mm×1000mm×1600mm

標準配件

1

電源控制系統(tǒng)

1套

2

真空獲得機組

1套

3

真空測量

1套