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Apreo場發(fā)射掃描電子顯微鏡

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Apreo

功能豐富的高性能 SEM


Apreo 復(fù)合透鏡結(jié)合了靜電和磁浸沒技術(shù)足夠的實力,可產(chǎn)生的高分辨率和材料對(duì)比度。

Apreo 是研究納米顆粒結構、催化劑更適合、粉末和納米器件的理想平臺(tái),而不會(huì)降低磁性樣品性能溝通協調。傳統(tǒng)的高分辨率 SEM 透鏡技術(shù)分為兩類:磁浸沒或靜電要素配置改革。FEI *將兩種技術(shù)結(jié)合到一個(gè)儀器中。這樣做所產(chǎn)生的成效遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過任一種鏡筒的個(gè)體性能保障性。兩種技術(shù)均使電子束形成細(xì)小探針核心技術體系,以提高低電壓下的分辨率,并使信號(hào)電子進(jìn)入鏡筒持續發展。通過將磁透鏡和靜電透鏡組合成一個(gè)復(fù)合透鏡必然趨勢,不但提高了分辨率,還增加了*的信號(hào)過濾選項(xiàng)擴大。靜電-磁復(fù)合末級(jí)透鏡在 1 kV 電壓下的分辨率為 1.0 nm(無電子束減速或單色器)多樣性。

Apreo 擁有透鏡內(nèi)背散射探測器 T1,其位置緊靠樣品以便盡可能多地收集信號(hào)新格局,從而確保在很短的時(shí)間內(nèi)采集數(shù)據(jù)明顯。與其他背散射探測器不同,這種快速的探測器始終可保證良好的材料對(duì)比度顯示,在導(dǎo)航時(shí)創新為先、傾斜時(shí)或工作距離很短時(shí)也不例外。在敏感樣品上科普活動,探測器的價(jià)值凸現(xiàn)出來創新延展,即使電流低至幾 pA強化意識,它也能提供清晰的背散射圖像。復(fù)合末級(jí)透鏡通過能量過濾實(shí)現(xiàn)更準(zhǔn)確的材料對(duì)比度以及絕緣樣品的無電荷成像基本情況,進(jìn)一步延伸了 T1 BSE 探測器的潛在價(jià)值現場。它還提供了流行選項(xiàng)來補(bǔ)充其探測能力,例如定向背散射探測器(DBS)力量、STEM 3+ 和低真空氣體分析探測器 (GAD)探討。所有這些探測器都擁有的軟件控制分割功能,以便根據(jù)需求選擇價(jià)值的樣品信息高效流通。

每個(gè) Apreo 都按標(biāo)準(zhǔn)配備各種用以處理絕緣樣品的策略調解製度,包括:高真空技術(shù),例如 SmartSCAN™功能、漂移補(bǔ)償幀積分(DCFI) 和電荷過濾創新內容。對(duì)于挑戰(zhàn)性的應(yīng)用,Apreo 可提供電荷緩解策略廣泛關註。其中包括可選的低真空(為 500 Pa)策略善於監督,通過經(jīng)現(xiàn)場驗(yàn)證的穿鏡式差分抽氣機(jī)構(gòu)和低真空探測器,不但可以緩解任何樣品上的電荷就能壓製,還能提供的分辨率和較大的分析電流更合理。

隨著分析技術(shù)的使用越來越常規(guī)化,Apreo 倉室經(jīng)過全新設(shè)計(jì)更優美,以便更好地支持不同的配件和實(shí)驗(yàn)各方面。倉室多容納三個(gè) EDS/WDS 端口,可實(shí)現(xiàn)快速敏感的 X 射線測量成效與經驗、共面EDS/EBSD/TKD 排列并與(冷凍)CL適應性、拉曼、EBIC 和其他技術(shù)兼容稍有不慎。

所有這些功能都能通過簡單的樣品處理和熟悉的 xT UI 獲得重要作用,節(jié)省了新用戶和專家級(jí)用戶的時(shí)間∽顬轱@著?勺远x的用戶界面提供了諸多用戶指導(dǎo)尤為突出、自動(dòng)化和遠(yuǎn)程操作選項(xiàng)。


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