ELLIP-SR-Ⅰ型產(chǎn)品是集光機(jī)電于一體高精度高穩(wěn)定橢圓偏振光譜儀切實把製度。從儀器狀態(tài)調(diào)整、參數(shù)設(shè)置自行開發、數(shù)據(jù)采集一直到數(shù)據(jù)處理進行部署，均通過計(jì)算機(jī)自動(dòng)完成，可工作于從紫外至近紅外的寬廣光譜區(qū)應用情況，波長連續(xù)可調(diào)保護好，入射角度從20度到90度內(nèi)手動(dòng)可調(diào)深入各系統。

高精度光譜橢偏儀 ELLIP-SR-Ⅰ型主要適用于科研院所的信息光電子功能薄膜、體材料的光學(xué)性質(zhì)和結(jié)構(gòu)特性研究系列，可被研究材料種類包括：金屬和合金作用、元素和化合物半導(dǎo)體、絕緣體慢體驗、超導(dǎo)體著力增加、磁性和磁光材料、有機(jī)材料科技實力、太陽能薄膜處理、多層薄膜材料、液體材料等在此基礎上。在測量中助力各行，可按研究條件同時(shí)對(duì)入射角和波長進(jìn)行自動(dòng)精細(xì)掃描，從而增加研究的靈活性自主研發，便于用戶獲得更多的光譜信息進(jìn)行數(shù)據(jù)分析確定性，提高研究的質(zhì)量和可靠性，并實(shí)現(xiàn)無接觸無損傷測量不同需求。該系列光譜儀的性能指標(biāo)達(dá)均已達(dá)到同類技術(shù)的*水平發展，產(chǎn)品國內(nèi)及海外市場。

高精度光譜橢偏儀 ELLIP-SR-Ⅰ型技術(shù)參數(shù)：

波長范圍：250-830nm總之，  250-1100nm面向，  250-1700nm ， 250-2100nm 研學體驗。

光源：氙燈

波長分辨率：1.0nm

入射角范圍： 20-90度（每5度間隔）

樣品臺(tái)：Ø110 mm （可配三維樣品臺(tái)）

入射角精度：0.001度 

測量模式：反射式光譜值 

測量方式：自動(dòng)完成AC信號(hào)測量

實(shí)測光學(xué)常數(shù)種類：復(fù)折射率（ n, k ）建設項目；

反射率R

膜厚精度：±0.1nm 

光學(xué)常數(shù)精度優(yōu)于0.5％

橢偏參數(shù)精度：D±0.02度；Y±0.01度 

選配：*微光斑技術(shù)（國內(nèi)*）落實落細，高精度XY平臺(tái)相結合，特制CCD成像系統(tǒng)。

主要特點(diǎn)

WINXP友好操作界面

實(shí)測光學(xué)常數(shù)種類：復(fù)折射率技術先進、復(fù)介電函數(shù)更多的合作機會、吸收系數(shù)、反射率認為。

主要用途 

1.各種功能材料的光學(xué)常數(shù)測量和光譜學(xué)特性分析服務好；

2.測量薄膜材料的折射率和厚度； 測量對(duì)象包括：金屬反應能力、半導(dǎo)體共謀發展、超導(dǎo)體、

絕緣體、非晶體聽得懂、超晶格應用優勢、磁性材料、光電材料全方位、非線性材料高效節能；測量光學(xué)常數(shù)：復(fù)折射率的實(shí)虛部、復(fù)介電常數(shù)的實(shí)虛部大局、吸收系數(shù)a新創新即將到來、反射率R。

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