RTP-1300四英寸快速退火爐(RTP)技術規(guī)格：
- 加熱方式：紅外鹵素鎢燈就能壓製，1.2KW/支；
- 鹵素紅外燈數(shù)量：12支適應能力，或18支更優美；
- 快升溫速率：100℃/秒；
- 快降溫速率：60秒(1000℃ → 400℃)防控；
- 額定溫度：1200℃成效與經驗；
- 溫度精度：+/-1℃
- 大樣品尺寸：100 X 100mm, 或150mm X 150mm；
- 退火環(huán)境：真空堅實基礎、惰性氣體稍有不慎、空氣、其他工藝氣氛(如氧氣等地、氫氣等)最為顯著；
- 真空泵及極限壓力：機械泵，10-3Torr水平(選配)規定；
- 電壓：220 V環境，單相或三相；
- 儀器尺寸：500 X 400 X 500mm (W X D X H)高質量；
- 質量：凈重60Kg相對簡便；
RTP-1300四英寸快速退火爐(RTP)儀器特點：
- 可在真空/不同氣氛/空氣不同環(huán)境下，對樣品進行快速熱處理流程；
- 溫控精度高合作；
- 適合高校或研究所科研使用上高質量；
- 帶有RTP控制軟件一站式服務；
- 緊湊的臺式設計；
- 儀器操作方便深入交流，樣片裝取容易引領作用；
- 價格合理加強宣傳，高性價比；
應用領域：
- 快速熱退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);
- 快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);
- 快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);
- 硅化 (Silicidation);
- 擴散 (Diffusion);
- 化合物半導體退火 (Compound Semiconductor Annealing);
- 離子注入后退火 (Implant Annealing);
- 電極合金化 (Contact Alloying);
- 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);
- 合金熔點分析建設；
- 薄膜沉積在此基礎上；
等等…
RTP-1300快速退火爐參考用戶：
北京師范大學、北京理工大學前來體驗、昆明理工大學自主研發、中國科大、東南大學更加廣闊、西安交通大學損耗、陜西師大、渤海大學非常完善、中科院蘇州納米所性能穩定、國電光伏、蘇州新磊等...
