日本Nikon ECLIPSE MA200為新一代產(chǎn)品密度增加，是EPIPHOT TME300/200型金相顯微鏡的后繼機(jī)種，支持明場力量、暗場、微分干涉發展空間、熒光足了準備、簡易偏光等觀察方式，采用尼康目前的CFI60光學(xué)系統(tǒng)傳遞，比以往CFI45的光學(xué)系統(tǒng)具有更高對(duì)比度。
◆倍率：25×-1500× （明暗場可以選擇）
◆配備了多樣的分格板及單位標(biāo)尺更易于分辯不同材質(zhì)
◆可以選配專業(yè)偏光（Polarizer）

ECLIPSE MA200為新一代產(chǎn)品穩定，是EPIPHOT TME300/200型金相顯微鏡的后繼機(jī)種，支持明場解決問題、暗場相互配合、微分干涉、熒光高質量、簡易偏光等觀察方式相對簡便，具有結(jié)構(gòu)緊湊流程、操作方便助力各業、照明均勻、成象清晰應用、節(jié)能省電相貫通、堅(jiān)固耐用等特點(diǎn)緊密協作。

操作方便經(jīng)常需要操作的部位，都集中在靠近觀察者的位置發揮重要作用，即顯微鏡的前面也逐步提升。如：視場光闌註入了新的力量、孔徑光闌提高鍛煉、起偏器有所提升、檢偏器新的力量、檢板插拔以及明暗場切換等。

結(jié)構(gòu)緊湊重要平臺、占地面積小、抗振核心技術、堅(jiān)固耐用箱形結(jié)構(gòu)應用提升，堅(jiān)固而耐用；與TME300相比創造性，占地面積更小發展的關鍵，可節(jié)約大約1/3的空間。

光學(xué)性能高規模設備、照明均勻真諦所在、節(jié)能省電采用尼康*的CFI60光學(xué)系統(tǒng)，不僅可以得到對(duì)比度高的競爭力、清晰的明視場圖象充分，還可以得到亮度為過去的3倍的暗視場圖象；新開發(fā)了1倍與40倍物鏡集聚；目鏡視場數(shù)達(dá)25mm競爭力，與新開發(fā)的1倍物鏡相結(jié)合，直徑25mm的樣品也可以全部看一次性地全部看見；照明均勻兩個角度入手、成象清晰建強保護；新開發(fā)的12V50W鹵素?zé)粽彰鳎湔彰髁炼?可以媲美過去的12V100W鹵素?zé)粽彰魃a效率，且電力可以?jié)省一半。

顯微攝影及圖象處理通過選裝尼康的DS系列數(shù)碼相機(jī)效果，可以進(jìn)行顯微攝影滿意度；所拍攝到的顯微圖片可以通過兩種途徑進(jìn)行觀察及后續(xù)處理，分別為：1）DS-L2型獨(dú)立顯示控制器（圖象數(shù)據(jù)可以保存到U盤）可持續，DS-L2　2）DS-U2型電腦連接控制器主要抓手，后者需要配合NIS Elements軟件一起使用。DS-U2利用NIS Elements軟件中的功能構建，可以實(shí)現(xiàn)顯微圖象的無縫拼節(jié)創新科技；利用NIS Elements軟件中的功能，可以進(jìn)行材料分析共創輝煌，如晶粒度分析具有重要意義、球墨鑄鐵的石墨球化率分析等。

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