CVD化學氣相沉積爐由開啟式單（雙）溫區(qū)管式爐市場開拓、高真空分子泵系統(tǒng)措施、壓強控制儀及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成。CVD化學氣相沉積爐可實現(xiàn)真空達0.001Pa混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗要落實好。

主要功能和特點：

1緊密相關、高真空系統(tǒng)由雙級旋片真空泵和分子泵組成，真空可達0.001Pa新技術；

2共同學習、可配合壓強控制儀控制氣體壓力實現(xiàn)負壓的精準控制；

3深入、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計效高，流量顯示儀等組成，實現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制基礎；每條氣體管路均配備高壓逆止閥性能，保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性。

4對外開放、采用KF快速法蘭密封技術創新，裝卸方便快捷；管路采用*Swagelok卡套連接探索創新，不漏氣帶來全新智能；

5、超溫新產品、過壓時去完善，自動切斷加熱電源及流量計進氣，使用安全可靠長遠所需。

主要用途：

高校求索、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)規模、氣氛還原穩定發展、CVD/CVI實驗，特別適用于真空鍍膜聯動、納米薄膜材料制備增持能力、納米線生長、電池材料干燥燒結(jié)等場所生產體系。

主要技術(shù)參數(shù)：