北京納米二氧化硅分散液研磨分散機(jī)進行培訓，思峻（SGN）研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*發展機遇，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎法治力量∪夹g方案？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨(dú)使用共享，且粉碎粒度范圍廣信息化，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

一生動、產(chǎn)品名稱概述：

北京納米二氧化硅分散液研磨分散機(jī)新型儲能，ox50納米氧化硅分散液分散機(jī)，連續(xù)式研磨分散機(jī)新品技，改進(jìn)型膠體磨研磨分散機(jī)

二範圍、基本和物料介紹：（1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9）

1.思峻（SGN）研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間好宣講，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎註入新的動力。可以一機(jī)多用，也可以單獨(dú)使用效率和安，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整品牌。

2.二氧化硅水分散體在拋光應(yīng)用(CMP)深入開展、紙業(yè)(噴墨)或在玻璃生產(chǎn)中使用。出于經(jīng)濟(jì)和實(shí)際應(yīng)用原因等形式，在這些應(yīng)用中使用具有高二氧化硅粉末含量的分散體是理想的技術的開發。

3.含有火焰水解反應(yīng)工藝生產(chǎn)的二氧化硅并且不含穩(wěn)定劑的水分散體僅在填充含量低于30重量％時(shí)表現(xiàn)出可接受的穩(wěn)定性。當(dāng)填充含量更高時(shí)飛躍，其在非常短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生凝結(jié)或沉降更高效。

4.納米二氧化硅具有極小的粒徑全面協議、較大的比表面積和優(yōu)良的化學(xué)性能，表現(xiàn)出良好的親水性具體而言、補(bǔ)強(qiáng)性工具、增稠性、消光性和防茹結(jié)性喜愛，因此廣泛應(yīng)用于橡膠重要的角色、涂料、醫(yī)藥向好態勢、油墨等領(lǐng)域平臺建設。由于粉體的納米二氧化硅的表面親水疏油，呈強(qiáng)極性貢獻力量，在有機(jī)介質(zhì)中難以均勻分散使用，從而導(dǎo)致材料性能下降。

5.現(xiàn)有技術(shù)中發行速度，通常是在納米顆粒膠體物系中加入電解質(zhì)優化程度、表面活性劑、聚電解質(zhì)奮勇向前，使之吸附在顆粒表面是防止納米顆粒團(tuán)聚生長(zhǎng)的有效方法，這樣可以提高二氧化硅分散液的穩(wěn)定性實施體系。但總體說(shuō)來(lái)組建，通過(guò)加入電解質(zhì)、表面活性劑效果較好、聚電解質(zhì)作用針對(duì)分散相重要的意義，并未實(shí)質(zhì)與納米二氧化硅顆粒結(jié)合，因此導(dǎo)致其制備的分散液的分散性均不理想開拓創新。

6.納米二氧化硅分散到液體之后持續發展，依據(jù)不同的分散體系，其外觀從白色乳狀到無(wú)色透明促進善治。從檢測(cè)上來(lái)看D90<100納米以下的體系擴大，在外觀上都呈現(xiàn)視覺(jué)透明的狀態(tài)。納米的分散是一個(gè)世界性的技術(shù)難題發揮效力⌒赂窬?？上驳氖悄壳俺霈F(xiàn)了某些技術(shù)，使用某些納米顆涟踩?？梢越馍⒌絾畏稚⒌臓顟B(tài)顯示。其中之一就有納米二氧化硅。

三真正做到、設(shè)備介紹： 

1.上海思峻的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料科普活動。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)創新延展，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下長期間。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封基本情況，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低綠色化發展，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行至關重要。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將SGN/思峻膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊用上了，改良成兩級(jí)模塊提升行動，加入了一級(jí)分散盤￡P註？筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P研究進展，2G，4M連日來，6F快速融入，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） SGN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散系統，乳化增強，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm交流等，是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍更加廣闊。

2.研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

①線速度很高，剪切間隙非常小防控，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候成效與經驗，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形堅實基礎，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽稍有不慎。

③定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向等地。

⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料最為顯著，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

3.設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)物聯與互聯、衛(wèi)生I級(jí)穩定、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)供給、變頻調(diào)速馬達(dá)優勢與挑戰、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)解決方案、
電源選擇： 380V/50HZ趨勢、220V/60HZ有力扭轉、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 一站式服務、SUS316L 廣度和深度、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥引領作用、變頻器加強宣傳、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光用的舒心、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭技術發展、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

4.從設(shè)備角度來(lái)分析集成，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn)：

①研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

②研磨頭的剪切速率技術創新，（越大效果越好）

③研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒又進了一步、中齒、細(xì)齒高質量發展、超細(xì)齒讓人糾結、越細(xì)齒效果越好）

④物料在分散墻體的停留時(shí)間兩個角度入手、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)調解製度，流量越小效果越好）

⑤循環(huán)次數(shù)（越多效果越好更多可能性，到設(shè)備的期限就不能再好了帶動產業發展。）

5.線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率競爭力。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
              g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知高效流通，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距預期。 
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素自行開發，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

四技術交流、二氧化硅超高速研磨分散機(jī)參數(shù)表：（1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9）

　　1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)系統性。

　　2 處理量取決于物料的粘度勇探新路，稠度和ZUI終產(chǎn)品的要求。

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