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ZKE藥物晶種納米級(jí)易清洗型膠體磨

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目前許多結(jié)晶體一般在40-50UM 拓展應用,下游的客戶在處理這些物料有跟高的要求一般需要達(dá)到5-10UM ,傳統(tǒng)采用干法氣流粉碎 無(wú)法達(dá)到要求的細(xì)度結構,結(jié)合多家客戶案例管理,*ZKE藥物晶種納米級(jí)易清洗型膠體磨進(jìn)行晶種研磨細(xì)化處理,轉(zhuǎn)速18000rpm雙重提升,膠體磨+膠體磨一體化設(shè)備戰略布局,粒徑可達(dá)D90≤10μm。

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產(chǎn)品名稱(chēng):太倉(cāng)ZKE藥物晶種納米級(jí)膠體磨,藥物晶種膠體磨,藥物晶種濕法膠體磨,藥物晶種濕法研磨機(jī).太倉(cāng)ZKE藥物晶種納米級(jí)超高線速度膠體磨表現明顯更佳,ZKE藥物晶種納米級(jí)易清洗型膠體磨

 

狀態、晶種的意義

晶種用以提供晶體生長(zhǎng)的位點(diǎn),以便從均勻的指導、僅存在一相的溶液中越過(guò)一個(gè)能壘形成晶核廣泛認同,加入的晶種加速了目標(biāo)晶型的生長(zhǎng)速率,有助于得到目標(biāo)品型流動性。工業(yè)制品中鍛造,為了得到粒度大且均勻的晶體產(chǎn)品,都要盡可能避免初級(jí)成核追求卓越,控制二次成核,加入適量的晶種作為晶體生長(zhǎng)的核心通常是必須的參與能力,晶種的制備因此也成為制備晶體的一個(gè)重要環(huán)節(jié)合理需求。

晶種的重要性在于所用的晶種是否需要特別工藝獲取,如果需要充分發揮,則需要說(shuō)明晶種的獲取途徑高質量,如果晶種的性質(zhì)有特別要求,需說(shuō)明晶種的特性及檢測(cè)方法選擇適用。另外管理,晶種與晶型的穩(wěn)定性也存在一定的關(guān)系設計。例如,也存在某一晶型在別的晶型晶體的表面生長(zhǎng)改進措施。穩(wěn)定晶型會(huì)在亞穩(wěn)定型或不穩(wěn)定型晶型表面成核就此掀開、生長(zhǎng),直至*轉(zhuǎn)晶今年,這是由于兩種型的某一晶面的結(jié)構(gòu)相似穩步前行,溶質(zhì)分子可以在亞穩(wěn)定型或不穩(wěn)定型晶型晶面上直接堆積、排列成穩(wěn)定晶型動手能力。

逐步改善、藥物晶種簡(jiǎn)介

晶種是在結(jié)晶法中可以形成晶核從而加快或促進(jìn)與之晶型或立體構(gòu)型相同的對(duì)映異構(gòu)體結(jié)晶的生長(zhǎng)的添加物。加晶種進(jìn)行結(jié)晶是控制結(jié)晶過(guò)程提升、提高結(jié)晶速率大大提高、保證產(chǎn)品質(zhì)量的重要方法之一。

 

四再獲、藥物晶種的粒徑要求

目前許多結(jié)晶體一般在40-50UM 產品和服務,下游的客戶在處理這些物料有跟高的要求一般需要達(dá)到5-10UM  ,傳統(tǒng)采用干法氣流粉碎 無(wú)法達(dá)到要求的細(xì)度激發創作,結(jié)合多家客戶案例前景,*KZSD20000系列膠體磨進(jìn)行晶種研磨細(xì)化處理,轉(zhuǎn)速18000rpm增幅最大,膠體磨+膠體磨一體化設(shè)備共享應用,粒徑可達(dá)D90≤10μm。

五標準、ZKE濕法膠體磨的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)

ZKE濕法研磨分散設(shè)備采用德國(guó)*的高速研磨分散技術(shù)示範推廣,通過(guò)超高轉(zhuǎn)速(高可達(dá)18000rpm)帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配GM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使晶種在設(shè)備的高線速度下形成湍流即將展開,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊大幅增加、破碎、研磨傳承、分散等特點、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)多種。

GMD2000系列膠體磨為立式分體結(jié)構(gòu)將進一步,精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下發展成就。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封成就,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到更低開展面對面,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行系統。

六非常重要、藥物晶種膠體磨選型表:

 

膠體磨

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類(lèi)型

l/h

rpm

m/s

kW

 

KZSD 2000/4

300

18,000

50

4

DN25/DN15

KZSD 2000/5

1000

13,000

50

11

DN40/DN32

KZSD 2000/10

3000

9,200

50

22

DN80/DN65

KZSD 2000/20

8000

2,850

50

37

DN80/DN65

KZSD 2000/30

20000

1,420

50

55

DN150/DN125

KZSD2000/50

60000

1,100

50

110

DN200/DN150

藥物晶種濕法膠體磨,藥物晶種膠體磨,藥物晶種濕法膠體磨,藥物晶種濕法研磨機(jī),太倉(cāng)ZKE藥物晶種納米級(jí)超高線速度膠體磨空間廣闊,ZKE藥物晶種納米級(jí)易清洗型膠體磨


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