電鏡樣品制備三離子束研磨切割儀
效率和靈活性
新版 EM TIC 3X 恪守我們的格言：與用戶合作，使用戶受益”新技術，以注重實(shí)用性的方式將性能和靈活性理想融合共同學習。
新的 EM TIC 3X 切割速度翻倍，根據(jù)您的應(yīng)用需求提供五種不同的載物臺(tái)供您選擇深入，實(shí)用性得到進(jìn)一步提升效高。
1：SiC 研磨紙的橫切面 l 2：膠合板的橫切面 l 3：-120°C 條件下制備的同軸聚合物纖維 (溶于水) l 4：通過 Leica EM TIC 3X (配旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)) 處理展現(xiàn)的油頁巖 (納米孔)，總樣品直徑為 25 mm
可復(fù)制的結(jié)果
Leica EM TIC 3X 三離子束切割儀可制備橫切面和拋光表面基礎，用于掃描電子顯微鏡 (SEM)性能、微觀結(jié)構(gòu)分析 (EDS、WDS對外開放、Auger技術創新、EBSD) 和 AFM 科研工作。 使用 Leica EM TIX 3X資料，您幾乎可以在室溫或冷凍條件下設施，對(duì)任何材料實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)的表面處理，盡可能顯示樣品近自然狀態(tài)下的內(nèi)部結(jié)構(gòu)配套設備。
帶來*的便利！
效率
對(duì)于離子束研磨機(jī)的效率來說相對開放，真正重要的是同時(shí)具備出色的品質(zhì)結(jié)果和高產(chǎn)量推進高水平。與前代版本相比，全新版本不僅切割速度提高了一倍，其*的三離子束系統(tǒng)還優(yōu)化了制備質(zhì)量生產創效，并縮短了工作時(shí)間結構。一次可處理樣品多達(dá) 3 個(gè)， 并可在同一個(gè)載物臺(tái)上進(jìn)行橫切和拋光優化上下。
工作流程解決方案可安全能力建設、高效地將樣品傳輸至后續(xù)的制備儀器或分析系統(tǒng)。
靈活的系統(tǒng) — 隨時(shí)滿足您的需求
憑借可靈活選擇的載物臺(tái)生產體系，Leica EM TIC 3X 不僅是進(jìn)行高產(chǎn)量處理的理想設(shè)備服務，還適用于委托檢測(cè)的實(shí)驗(yàn)室。根據(jù)您的需求能力和水平，可選擇以下可互換的載物臺(tái)對(duì) Leica EM TIC 3X 進(jìn)行個(gè)性化配置：
- 標(biāo)準(zhǔn)載物臺(tái)
- 多樣品載物臺(tái)
- 旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)
- 冷卻載物臺(tái)或
- 真空冷凍傳輸對(duì)接臺(tái)
用于制備標(biāo)準(zhǔn)樣品覆蓋、高產(chǎn)量處理，以及在低溫條件下制備對(duì)高溫異常敏感的樣品研究，例如聚合物高效、橡膠或生物材料。
環(huán)境控制型工作流程解決方案
憑借與 Leica EM TIC 3X 配套的 VCT 對(duì)接臺(tái)接口提高，可為易受環(huán)境影響的樣品和/或低溫樣品提供出色的刨平工作流程機構，此類樣品包括
- 生物材料，
- 地質(zhì)材料
- 或工業(yè)材料交流。
隨后基礎，這些樣品會(huì)在惰性氣體/真空/冷凍條件下，被傳輸至我們的鍍膜系統(tǒng) EM ACE600 或 EM ACE900 和/或 SEM 系統(tǒng)推進一步。
標(biāo)準(zhǔn)的工作流程解決方案 — 與 Leica EM TXP 產(chǎn)生協(xié)同效應(yīng)
在使用 Leica EM TIC 3X 之前經過，通常需要進(jìn)行機(jī)械準(zhǔn)備工作，以便盡可能接近感興趣區(qū)域力度。Leica EM TXP 是一種*的標(biāo)靶面拋光系統(tǒng)明確了方向，開發(fā)用于樣品的切割和拋光，為 Leica EM TIC 3X 等儀器進(jìn)行后續(xù)技術(shù)處理做好充分準(zhǔn)備
Leica EM TXP 經(jīng)專業(yè)設(shè)計(jì)勇探新路，利用鋸切改進措施、銑削、研磨和拋光技術(shù)對(duì)樣品進(jìn)行預(yù)制長足發展。 對(duì)于需要精準(zhǔn)定位以及難以制備的挑戰(zhàn)性樣品今年，它能提供出色的結(jié)果，令處理變得輕松簡(jiǎn)單結構不合理。
電鏡樣品制備三離子束研磨切割儀
