臺(tái)式緊湊型等離子清洗機(jī)、小型等離子清洗機(jī)、微創(chuàng)傷納米級(jí)等離子清洗機(jī)、
GPC-102 A （替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo日漸深入、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī)）是一款臺(tái)式緊湊型等離子清洗機(jī)全會精神，具有體積僅為臺(tái)式烤箱大小、非破壞性的納米級(jí)清洗的特點(diǎn)逐步改善，是一款特別適合實(shí)驗(yàn)室意見征詢、超凈間及研發(fā)機(jī)構(gòu)的理想等離子清洗設(shè)備。等離子清洗機(jī)采用工藝氣體如大氣大大提高、氬氣的必然要求、氮?dú)狻⒀鯕饣蚝獾茸鳛榍逑礆怏w介質(zhì)取得了一定進展，有效避免了因液體清洗劑對(duì)被清洗物帶來(lái)的殘留物污染及排放污染完善好。GPC-102 A等離子清洗機(jī)配套一臺(tái)真空泵，工作時(shí)真空清洗艙內(nèi)中的等離子體與被清洗物的表面產(chǎn)生物理及化學(xué)反應(yīng)增多，短暫的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清除活動上，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到納米級(jí)進一步推進。GPC-102 A等離子清洗機(jī)除了具有納米級(jí)清洗功能外導向作用，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能方案，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組十大行動，形成新的表面特性左右，而不改變材料的主要性能。對(duì)某些特殊用途的材料綜合措施，在納米級(jí)清洗過(guò)程中GPC-102 A等離子清洗機(jī)的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性可靠保障、相容性和浸潤(rùn)性， 并可消毒和殺菌設計標準，而無(wú)需考慮使用化學(xué)試劑如EtOH的排放和回收開展。
GPC-102 A等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)充分發揮、電子學(xué)發展成就、材料科學(xué)、生命科學(xué)重要方式、高分子科學(xué)開展面對面、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域非常重要。
GPC-102 A等離子清洗機(jī)應(yīng)用：
- 清洗光學(xué)器件進一步提升、電子元件、半導(dǎo)體元件營造一處、激光器件改革創新、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗取得顯著成效。
- 清洗電子元件新模式、光學(xué)器件、激光器件不容忽視、鍍膜基片組織了、芯片、移除光學(xué)元件說服力、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)搶抓機遇。
- 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片新體系。
- 移除光學(xué)元件投入力度、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)，去除金屬材料表面的氧化物不難發現。
- 清洗半導(dǎo)體元件貢獻法治、印刷線路板、ATR元件、各種形狀的人工晶體共享、天然晶體和寶石信息化。
- 清洗生物芯片、微流控芯片生動、沉積凝膠的基片新型儲能。
- 高分子材料表面的修飾。
- 封裝領(lǐng)域中的清洗和改性新品技，增強(qiáng)其粘附性範圍，適用于直接封裝及粘和。
- 改善粘接光學(xué)元件紮實做、光纖空間廣闊、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力提供深度撮合服務。
- 涂覆鍍膜領(lǐng)域中對(duì)玻璃服務品質、塑料、陶瓷組成部分、高聚合物等材料表面的改性影響，使其活化，增強(qiáng)表面 粘附性的過程中、浸潤(rùn)性發展契機、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量促進進步。
- 牙科領(lǐng)域中對(duì)鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理發力，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性。
- 科研領(lǐng)域中修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理迎來新的篇章，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性共創美好、粘附性和相容性。對(duì)科研的消毒和殺菌蓬勃發展。
GPC-102 A等離子清洗機(jī)技術(shù)特征：
- 緊湊型臺(tái)式等離子清洗設(shè)備喜愛，無(wú)射頻輻射危害，通過(guò)CE/EMC開放要求、CE/LVD、ROHS及FCC VOC認(rèn)證平臺建設。
- 射頻（RF）功率無(wú)極調(diào)節(jié)服務機製，可根據(jù)應(yīng)用需要自由設(shè)置。
- 等離子清洗機(jī)整體適配與惰性氣體如大氣使用、氬氣大幅拓展、氮?dú)猓钚詺怏w氧氣、氦氣與時俱進、氫氣或混合氣體等工藝氣體使用性能。
- 適用于超凈間，無(wú)需配備其它附件即可使用綜合運用。
- 全套工藝氣體管路采用特氟龍（teflon）材質(zhì)及美國(guó)Swagelok高質(zhì)316不銹鋼閥門供給。
GPC-102 A等離子清洗機(jī)具有如下優(yōu)勢(shì)：
- 具有性能穩(wěn)定、性價(jià)比高實事求是、操作簡(jiǎn)便進行探討、使用成本極低、易于維護(hù)的特點(diǎn)服務水平。
- 可對(duì)各種幾何形狀最新、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷處理方法、玻璃重要作用、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和改性習慣。
- **地清除樣品表面的有機(jī)污染物充足。
- 無(wú)極功率處理、快速方便導向作用、清洗效率高方案。
- 綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑十大行動、對(duì)樣品和環(huán)境無(wú)二次污染左右。
- 在常溫條件下進(jìn)行超清洗，對(duì)溫敏感樣品非破壞性處理強化意識。
GPC-102 A（替代 Harrick PDC-32G-2長期間、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī)）等離子清洗機(jī)規(guī)格：
等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙尺寸：內(nèi)徑4.0英寸（102毫米）， 7.9英寸（200毫米） 深
等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙材質(zhì)：純石英 （99.99%二氧化硅）
等離子清洗機(jī)輸入功率：150W（zui大）
等離子清洗機(jī)工作頻率：13.56MHz
等離子清洗機(jī)射頻功率：0W~30W 功率旋鈕連續(xù)調(diào)節(jié)
等離子清洗機(jī)重量：12公斤（約）
等離子清洗機(jī)尺寸：12.3英寸（312毫米）高x 16.8英寸（426毫米）寬 x 12.4英寸（315毫米）深
等離子清洗機(jī)配套托盤：純石英材質(zhì) 規(guī)格
高配機(jī)型GPC-102 （替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo現場、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī)）等離子清洗機(jī)規(guī)格：
等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙尺寸：內(nèi)徑4.0英寸（102毫米）高端化，7.9英寸（200毫米） 深
等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙材質(zhì)：純石英 （99.99%二氧化硅）
等離子清洗機(jī)輸入功率：150W（zui大）
等離子清洗機(jī)工作頻率：13.56MHz
等離子清洗機(jī)射頻功率：0W~30W 功率旋鈕連續(xù)調(diào)節(jié)
等離子清洗機(jī)重量：16公斤（約）
等離子清洗機(jī)尺寸：12.3英寸（312毫米）高x 30英寸（762毫米）寬x 12.4英寸（315毫米）深
等離子清洗機(jī)真空計(jì)：熱偶式、數(shù)碼顯示我有所應、實(shí)時(shí)監(jiān)控真空反應(yīng)艙內(nèi)壓力提單產。
等離子清洗機(jī)流量氣體混合計(jì)：配備氣體流量控制系統(tǒng)，可以精密控制工藝氣體喂入及混合至關重要。
等離子清洗機(jī)配套托盤：純石英材質(zhì) 規(guī)格
如果您對(duì)GPC-102（替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo發展空間、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī)） 系列等離子清洗機(jī)系統(tǒng)感興趣，請(qǐng)索取更詳盡資料有所應！
