高低溫循環(huán)裝置GDZT-100-200-30G全封閉循環(huán)系統優化上下,高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化能力建設,低溫下不易吸入空氣中水分,可延長導熱流體的使用壽命生產體系。
高低溫循環(huán)裝置GDZT-100-200-30G簡介:
能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置服務,工作范圍寬廣,用于制藥能力和水平、化工覆蓋、生物等行業(yè)異常狀況,為反應釜、槽等提供熱源和冷源流動性,也可用于其他設備的加熱和冷卻鍛造。
●分3個系統:制冷系統、加熱系統持續創新、預冷系統改善,三個系統可連續(xù)使用,也可分別單獨使用協調機製。
●快速加熱和冷卻信息化,可連續(xù)升降溫。
●溫度控制范圍寬高質量,全程不需要換導熱介質充分發揮,導熱介質消耗少選擇適用。
●全封閉循環(huán)系統管理,高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化,低溫下不易吸入空氣中水分業務指導,可延長導熱流體的使用壽命改進措施。
●高溫冷卻、制冷功能長足發展,可以從高溫直接降溫(如可從200℃直接降溫)今年。
●制冷器換熱器采用全釬焊板式換熱器,占用空間小結構不合理,換熱效率高動手能力。
●液位顯示功能,隨時監(jiān)控液位意見征詢,避免缺液提升。
●高溫切斷、急停的必然要求、延時研究成果、漏電、過流電完善好、過熱等多重保護功能大面積,充分保證使用安全。
●冷凝問題分析、預熱方式為風冷培養,節(jié)約水資源。
高低溫循環(huán)裝置GDZT-100-200-30G?典型應用:
●化工導向作用、制藥或生物領域雙層反應釜的溫度控制標準。
●攪拌罐的溫度控制示範推廣。
●高壓反應釜的溫度控制。
●材料測試中的應用即將展開。
●微反應器技術領域的放大工藝過程的溫度控制大幅增加。
●蒸餾系統的溫度控制。
●工藝過程中的溫度變化模擬控制傳承。
●大型恒溫控制系統等特點。
●小型恒溫控制系統。
●半導體設備的溫度控制多種。
●汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制將進一步。
●真空室的溫度控制。
高低溫循環(huán)裝置GDZT-100-200-30G?技術參數:
型號 | GDZT-100-200-30G |
空載 低溫度(℃) | -30 |
使用溫度范圍(℃) | -30~200 |
環(huán)境溫度 (℃) | ≤25 |
環(huán)境相對濕度(%) | ≤60 |
電源 | 380V±10% 50Hz |
溫度顯示方式 | 數字式 |
傳感器分度號 | Pt100 |
儀表調節(jié)范圍(℃) | -30~200 |
設定方式 | 在使用溫度范圍內任意設定 |
安全保護 | 延時發展成就、過電流成就、過熱 |
200℃時的制冷量(W) | 12300 |
10℃時的制冷量(W) | 12300 |
-10℃時的制冷量(W) | 11830 |
-20℃時的制冷量(W) | 7420 |
-30℃時的制冷量(W) | 3900 |
整機功率(W) | 10225 |
整機電流(A) | 37.2 |
加熱功率(W) | 6000 |
制冷機組制冷劑 | R404a |
循環(huán)泵流量(L/min) | 30 |
循環(huán)泵揚程(m) | 10 |
外循環(huán)接口 | 絲口連接:3/4吋,304 |
整機尺寸(mm) | 1053×695×1160 |
整機重量(kg) | 186 |
連接管 | 2根 4m(不銹鋼) |
技術文件 | 1套 |
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