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Nicomp 380 納米粒徑分析儀采用現(xiàn)在先進(jìn)的動態(tài)光散射原理大力發展，利用的Nicomp多峰算法可以很準(zhǔn)確的分析比較復(fù)雜多組分混合樣品。為實驗室的研究提供的分析技術(shù)。 測試范圍：0.3 nm – 10μm產能提升。
產(chǎn)品介紹：
Nicomp 380 納米粒徑分析儀 采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布適應性，粒徑檢測范圍 0.3 nm- 10μm。粒度分析復(fù)合采用 Gaussian 單峰算法和擁有技術(shù)的 Nicomp 多峰算法充分發揮，對于多組分發展成就、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢，其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的同時。
工作原理：
動態(tài)光散射法(DLS)互動式宣講，有時稱為準(zhǔn)彈性光散射法(QELS)效高性，是一種成熟的非侵入技術(shù)模式，可測量亞微細(xì)顆粒范圍內(nèi)的分子與顆粒的粒度及粒度分布，使用技術(shù)提升，粒度可小于1nm高品質。 動態(tài)光散射法的典型應(yīng)用包括已分散或溶于液體的顆粒、乳劑或分子表征支撐能力。 懸浮在溶液中的顆粒的布朗運動資源優勢，造成散射光光強(qiáng)的波動。 分析光強(qiáng)的波動得到顆粒的布朗運動速度特征更加明顯，再通過斯托克斯-愛因斯坦方程得到顆粒的粒度估算。
儀器參數(shù)：
粒徑測量范圍 | 粒度分析：0.3 nm - 10 μm |
分析方法 | 粒度分析：動態(tài)光散射，Gaussian 單峰算法和 NiComp 無約束自由擬合多峰算法 |
pH值范圍 | 2 - 12 |
溫度范圍 | 0℃ - 90 ℃ |
檢測角度（可選） | 粒度分析：90°或 多角度（10°- 175°的可能性，可選配） |
高濃度樣品背散射 | 175°背散射 |
可用溶劑 | 水和絕大多數(shù)有機(jī)溶劑 |
樣品池 | 4 mL（標(biāo)準(zhǔn)不要畏懼，石英玻璃或有機(jī)玻璃）； 500μL（高透光率微量樣品池） |
分析軟件 | Windows 運行環(huán)境問題，符合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件 |
電壓 | 220 – 240 VAC逐漸顯現，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz |
外形尺寸 | 56 cm * 41 cm * 24cm |
重量 | 約26kg（與配置有關(guān)）
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應(yīng)用領(lǐng)域：
· 醫(yī)藥領(lǐng)域：乳劑系統穩定性，注射劑拓展基地，脂質(zhì)體，膠體實力增強，混懸劑體系流動性，滴眼液，高分子帶來全新智能，病毒積極拓展新的領域，疫苗等；
· 半導(dǎo)體： CMP Slurry更優質，芯片相對開放，晶圓加工等；
· 特殊化工品：墨水&噴墨，納米材料溝通機製，化工染料好宣講，潤滑劑，清洗劑等領先水平。
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