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概述（Summary）

等離子清洗機(jī)(Plasma cleaner)互動式宣講，也稱(chēng)為等離子表面處理設(shè)備，或者稱(chēng)為等離子表面活化設(shè)備模式，通過(guò)激勵(lì)電源產(chǎn)生等離子體自動化，等離子作用于產(chǎn)品表面，清洗產(chǎn)品表面污染物通過活化，提高表面活性落地生根，增強(qiáng)附著性能。等離子清洗是一種新型的健康發展、環(huán)保有效保障、高效、穩(wěn)定的表面處理方式長效機製。

等離子體清洗機(jī) Plasma表面活化改性蝕刻適用于企業(yè)產(chǎn)品批量生產(chǎn)講實踐，其腔體容量大，可設(shè)計(jì)性更強(qiáng)奮戰不懈，可滿(mǎn)足對(duì)大部分產(chǎn)品表面處理需求市場開拓。優(yōu)點(diǎn)：機(jī)架緊湊，性能全面大大縮短，處理效果均勻穩(wěn)定要落實好，而且配置靈活，性?xún)r(jià)比高更默契了。

二·應(yīng)用（Application）

等離子清洗廣泛應(yīng)用于膠粘先進技術、焊接、印刷不合理波動、涂覆宣講手段、鍍膜等等場(chǎng)合，通過(guò)等離子體作用于產(chǎn)品表面積極拓展新的領域，去除產(chǎn)品表面的有機(jī)污染物配套設備，提高產(chǎn)品表面活性，以及激活表面性能相對開放，能明顯改善產(chǎn)品后續(xù)工藝的膠粘推進高水平、焊接脫穎而出、印刷、涂覆資料、鍍膜的附著力和良品率廣泛應用。已經(jīng)成為中產(chǎn)品表面性能處理的重要工具。

（1）LED（LED在焊線(xiàn)時(shí)表面附著力往往是很低的新產品，如不對(duì)表面做處理會(huì)存在焊線(xiàn)不牢等現(xiàn)象去完善，所以焊線(xiàn)前需做等離子處理，提高產(chǎn)品的附著力長遠所需，避免焊線(xiàn)不牢求索、易掉等問(wèn)題）

（2）觸摸屏（觸摸屏油墨面需要與其他部件進(jìn)行貼合、觸摸面則需要進(jìn)行規模，鍍膜面穩定發展、油墨面處理，提高油墨面聯動、鍍膜面貼合力增持能力，避免貼補(bǔ)不牢，鍍層易磨損易掉等問(wèn)題）

（3）金屬（部分金屬制品表面需鍍金銀層行業內卷，金屬表面未經(jīng)過(guò)處理表面貼合力不夠追求卓越，導(dǎo)致鍍層不牢、不均勻等現(xiàn)象參與能力，等離子處理可增加金屬表面附著力合理需求、提高表面均勻性，避免鍍層不均勻充分發揮、易脫落等問(wèn)題）

（4）攝像頭模組（攝像頭模組需要進(jìn)行貼合高質量、密封，等離子能對(duì)其表面進(jìn)行有效的活化提高表面貼合力）

（5）FPC（FPC表面也會(huì)存在焊接不牢的現(xiàn)象選擇適用，等離處理可提高其表面附著力管理，增加FPC本身的貼合力）

（6）醫(yī)用硅膠（用于醫(yī)用的硅膠需要具備適當(dāng)?shù)母街Γ饶芎芎玫馁N敷在皮膚表面又不會(huì)因?yàn)楦街μ珡?qiáng)而導(dǎo)致與皮膚貼敷太緊業務指導，所以需要處理控制性能比較強(qiáng)的表面處理設(shè)備基礎，真空等離子具備*的可控制性，處理效果穩(wěn)定還不大，極為環(huán)保的處理方式無(wú)疑是最佳的選擇）

（7）隱形眼鏡（隱形眼鏡表面需要做比較精密的鍍膜處理，如果表面處理不得當(dāng)會(huì)導(dǎo)致用戶(hù)體驗(yàn)不佳直接影響產(chǎn)品的品質(zhì)信息化技術，所以對(duì)表面處理及鍍膜工藝要求非嘲l揮作用？量蹋?/span>

（8）尼龍材料（部分尼龍材料表面需要做貼合點(diǎn)膠工藝，但尼龍材料本身的附著力并不是很理想逐步顯現，所以在進(jìn)行貼合或點(diǎn)膠前需先對(duì)材料表面做活化處理才能達(dá)到貼合/點(diǎn)膠的工藝要求）

三·等離子清洗原理（Principle）

1銘記囑托、等離子清洗的原理：對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)引領。等離子體的“活性"組分包括:離子、電子開放以來、活性基團(tuán)占、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等提供了有力支撐。等離子清洗機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面激發創作，達(dá)到對(duì)材料表面清洗、蝕刻進一步意見、活化等效果增幅最大。等離子體清洗機(jī) Plasma表面活化改性蝕刻

（1）對(duì)材料表面的刻蝕作用--物理作用：

等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子生產能力、自由基等多種活性粒子標準，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)堅持好，而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用即將展開，將樣品表面變粗糙，形成許多微細(xì)坑洼特性，增大了樣品的比表面傳承。提高固體表面的潤(rùn)濕性能。

（2）激活鍵能--交聯(lián)作用：

等離子體中的粒子能量在0~20eV更加完善，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV形式，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂支撐作用，等離子體中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu)日漸深入，大大地激活了表面活性。

（3）形成新的官能團(tuán)--化學(xué)作用：

如果放電氣體中引入反應(yīng)性氣體同時，那么在活化的材料表面會(huì)發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)互動式宣講，引入新的官能團(tuán)，如烴基模式、氨基自動化、羧基等，這些官能團(tuán)都是活性基團(tuán)高品質，能明顯提高材料表面活性不折不扣。

2、真空等離子設(shè)備原理：等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為四大部分組成：控制系統(tǒng)資源優勢、激勵(lì)電源系統(tǒng)高效利用、真空腔體、工藝氣體系統(tǒng)不斷完善、以及真空泵系統(tǒng)數字化。

（1）控制系統(tǒng)：

控制系統(tǒng)的功能在于控制整個(gè)設(shè)備的運(yùn)行方便，包括人機(jī)界面（觸摸屏）、PLC各領域、電氣電路應用領域。采用全自動(dòng)控制系統(tǒng)的真空等離子清洗，可實(shí)現(xiàn)多種模式多種程序?qū)η逑丛O(shè)備進(jìn)行控制進行培訓，滿(mǎn)足不同客戶(hù)的需求發展機遇。

（2）激勵(lì)電源系統(tǒng)：

激勵(lì)電源主要有三類(lèi)：40KHz的中頻激勵(lì)電源，13.56MHz的射頻激勵(lì)電源組織了，2.45GHz的微波激勵(lì)電源服務體系。目前業(yè)界主要采用的是射頻激勵(lì)電源和中頻激勵(lì)電源。各自應(yīng)用場(chǎng)合不同搶抓機遇。

（3）真空腔體：

真空腔體主要是分為三種材質(zhì)的：1）鋁合金腔體分析，2）不銹鋼真空腔體，3）石英腔體全面闡釋。根據(jù)用戶(hù)的不同需求非常激烈，可實(shí)現(xiàn)不同的放電模式和適用不同的樣品尺寸和產(chǎn)能。

（4）工藝氣體系統(tǒng)：

工藝氣體包括流量計(jì)引人註目、氣壓閥等領域，用戶(hù)可靈活選擇多路的工藝氣體方案，氬氣好宣講、氧氣註入新的動力、氫氣、氮?dú)?、四氟化碳等雙重提升，可滿(mǎn)足不同工藝方案要求。清洗各種產(chǎn)品表面事關全面。

（5）真空泵：

真空泵分為油泵表現明顯更佳、干泵、羅茨泵技術節能，油泵主要采用雙級(jí)旋片泵指導，根據(jù)用戶(hù)所采用的腔體體積、工作效率飛躍、環(huán)境要求來(lái)制定真空泵的方案更高效。