蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)物質(zhì)有所增加，使之升華各項要求，蒸發(fā)粒子流直接射向基片，并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜越來越重要的位置，或加熱蒸發(fā)鍍膜材料的真空鍍膜方法新技術。
      物理過程由物料蒸發(fā)輸運(yùn)到基片沉積成膜，其物理過程為：采用幾種能源方式轉(zhuǎn)換成熱能順滑地配合，加熱鍍料使之蒸發(fā)或升華深入，成為具有一定能量(0.1~0.3eV)的氣態(tài)粒子(原子、分子或原子團(tuán))前沿技術；離開鍍料表面基礎，具有相當(dāng)運(yùn)動(dòng)速度的氣態(tài)粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運(yùn)到基體表面；到達(dá)基體表面的氣態(tài)粒子凝聚形核生長(zhǎng)成固相薄膜多種方式；組成薄膜的原子重組排列或產(chǎn)生化學(xué)鍵合對外開放。
       蒸發(fā)鍍膜儀將蒸發(fā)材料放在坩堝內(nèi)技術創新，坩堝放置在高真空腔體中，通過高壓燈絲發(fā)射電子有序推進，電子通過磁場(chǎng)偏轉(zhuǎn)轟擊到坩堝內(nèi)的蒸鍍材料表面設施，對(duì)蒸鍍材料進(jìn)行加熱，電子束蒸發(fā)源的能量可高度集中堅定不移，使鍍膜材料局部達(dá)到高溫而蒸發(fā)組合運用，實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜。根據(jù)不同材料的性質(zhì)分為固態(tài)升華和液態(tài)蒸發(fā)推進高水平，整個(gè)蒸發(fā)過程是物理過程脫穎而出，實(shí)現(xiàn)物質(zhì)從源到薄膜的轉(zhuǎn)移。裝有蒸發(fā)材料的坩堝周圍有冷卻系統(tǒng)生產創效，避免坩堝內(nèi)壁與蒸發(fā)材料發(fā)生反應(yīng)影響薄膜質(zhì)量結構。通過調(diào)節(jié)電子束的功率，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率優化上下，特別適用于高熔點(diǎn)以及高純金屬材料能力建設，通過膜厚測(cè)量系統(tǒng)可實(shí)時(shí)精確測(cè)量蒸發(fā)速率和薄膜厚度。該設(shè)備可制備高純薄膜生產體系，是微納結(jié)構(gòu)制備中*的工藝設(shè)備服務。